用于有機(jī)電子器件的基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及用于有機(jī)電子器件的基板、有機(jī)電子裝置、所述基板或裝置的制造方 法、用于顯示器的光源、及照明器具。
【背景技術(shù)】
[0002] 有機(jī)電子器件(0邸;Organic Electronic Device)例如為一種如專(zhuān)利文獻(xiàn)1(日本 特開(kāi)第1996-176293號(hào)公報(bào))所述的包含至少一個(gè)能夠傳導(dǎo)電流的有機(jī)材料層的器件。有機(jī) 電子器件的種類(lèi)包括有機(jī)發(fā)光器件(OLED )、有機(jī)太陽(yáng)能電池、有機(jī)光導(dǎo)體(OPC)或有機(jī)晶體 管等。
[0003] 有機(jī)發(fā)光器件為代表性的有機(jī)電子器件，通常依次包括基板、第一電極層、有機(jī)層 和第二電極層。在被稱(chēng)為底部發(fā)光器件(bottom emitting device)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層 可形成為透明電極層，第二電極層可形成為反射電極層。此外，在被稱(chēng)為頂部發(fā)光器件(top emitting device)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可形成為反射電極層，第二電極層可形成為透明 電極層。通過(guò)電極層而被注入的電子(electron)和空穴化ole)在位于有機(jī)層的發(fā)光層中重 新結(jié)合(recombination) W產(chǎn)生光子。在底部發(fā)光器件中，光子可向基板方向發(fā)射;在頂部 發(fā)光型器件中，光子可向第二電極層方向發(fā)射。
[0004] 在有機(jī)發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)中，通常用作透明電極層的銅錫氧化物（IT0)、有機(jī)層和通 常為玻璃的基板的折射率分別為約2.0、1.8和1.5。在上述折射率的關(guān)系中，例如，在底部發(fā) 光器件的發(fā)光層中產(chǎn)生的光子由于全內(nèi)反射(total internal reflection)現(xiàn)象而被捕獲 (trap)在有機(jī)層與第一電極層之間的界面處或者被捕獲在基板內(nèi)，并且僅發(fā)射出非常少量 的光子。
[0005] 另外，近來(lái)對(duì)可曉性(flexible)有機(jī)電子器件的關(guān)注增加，對(duì)于將有機(jī)發(fā)光器件 的結(jié)構(gòu)中的玻璃系基板替換為聚合物系基板的技術(shù)的需求逐漸增多。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 技術(shù)問(wèn)題
[0007] 本發(fā)明旨在提供用于有機(jī)電子器件的基板、有機(jī)電子裝置、所述基板或裝置的制 造方法、光源及照明器具。
[000引技術(shù)方案
[0009]本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種用于有機(jī)電子器件的基板，其包括第一聚合物基底 層、光學(xué)功能層、及高折射層。光學(xué)功能層和高折射層可依次層疊在第一聚合物基底層上， 因此光學(xué)功能層可存在于第一聚合物基底層與高折射層之間。圖1示意性地示出了用于有 機(jī)電子器件的基板1，其包括在第一聚合物基底層101上依次形成光學(xué)功能層102和高折射 層103的結(jié)構(gòu)。在另一示例中，用于有機(jī)電子器件的基板可具有其中重復(fù)上述結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)， 例如，具有第一聚合物基底層、光學(xué)功能層、高折射層、第一聚合物基底層、光學(xué)功能層和高 折射層依次層疊的結(jié)構(gòu)。
[0010]在基板中，可使用合適的聚合物基底層作為第一聚合物基底層，且無(wú)特別限制。例 如，當(dāng)基板被應(yīng)用于底部發(fā)光器件時(shí)，可使用透光型聚合物基底層，例如對(duì)于可見(jiàn)光區(qū)域的 光具有50% W上透光率的聚合物基底層。根據(jù)需要，聚合物基底層可為具有驅(qū)動(dòng)用TFT的 TFT基板。當(dāng)基板被應(yīng)用于頂部發(fā)光器件時(shí)，聚合物基底層并非必須是透光型基底層。根據(jù) 需要，可在聚合物基底層的表面等上形成由侶等形成的反射層。
[00川作為第一聚合物基底層，例如可使用折射率為約1.5W上、約1.6W上、約1.65W上 或約1.7W上的聚合物基底層。本說(shuō)明書(shū)中的術(shù)語(yǔ)"折射率"在沒(méi)有特別的規(guī)定時(shí)，可指對(duì)于 633nm波長(zhǎng)的光的折射率。
[0012] 作為第一聚合物基底層，例如可使用包含聚酷胺酸、聚酷亞胺，聚糞二甲酸乙二醇 醋，聚酸酸酬、聚碳酸醋、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇醋、聚酸硫化物、聚諷或丙締酸樹(shù)脂等的基底 層，但并不限定于此。在一個(gè)恰當(dāng)?shù)氖纠校瑥墓に嚋囟然蚬馓崛⌒阅芊矫婵紤]，可使用包 含聚酷亞胺的基底層作為第一聚合物基底層。
[0013] 在一個(gè)示例中，包含聚酷亞胺的基底層，例如可包含對(duì)于633nm波長(zhǎng)的光的折射率 為約1.5W上、約1.6W上、約1.65^上或約1.7^上的聚酷亞胺。運(yùn)種高折射的聚酷亞胺例 如可使用其中引入了氣W外的面素原子、硫原子或憐原子等的單體來(lái)制備。
[0014] 在一個(gè)示例中，可使用通過(guò)將對(duì)于63化m波長(zhǎng)的光的折射率為約1.5W上、約1.6W 上、約1.65W上或約1.7W上的聚酷胺酸酷亞胺化而制備的物質(zhì)作為包含在基底層中的聚 酷亞胺。在一個(gè)示例中，可使用具有能夠與顆粒鍵合的部位(如簇基）W增強(qiáng)顆粒分散穩(wěn)定 性的聚酷胺酸作為所述聚酷胺酸。例如，可使用包含如下化學(xué)式1所示的重復(fù)單元的化合物 作為聚酷胺酸。
[001引[化學(xué)式1]
[0017] 在化學(xué)式1中，n可為正數(shù)，例如IW上的正數(shù)。
[0018] 重復(fù)單元可任選地被至少一個(gè)取代基取代。取代基的實(shí)例可包括除氣之外的面素 原子、苯基、芐基、糞基或含面原子、硫原子或憐原子的官能團(tuán)，例如硫代苯基。
[0019] 聚酷胺酸可為僅由所述化學(xué)式1的重復(fù)單元形成的均聚物，或除式1的重復(fù)單元W 外還包含其它單元的嵌段或無(wú)規(guī)共聚物。在共聚物中，其他重復(fù)單元的種類(lèi)或比例可W在 例如不降低所期望的折射率、耐熱性或透光率的范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)剡x擇。
[0020] 化學(xué)式2的重復(fù)單元可作為化學(xué)式1的重復(fù)單元的具體實(shí)例。
[0021] [化學(xué)式2]
[0023] 在化學(xué)式2中，n為正數(shù)，例如IW上的正數(shù)。
[0024] 聚酷胺酸的重均分子量為約10，000至100，000或約10，000至50，000，由凝膠滲透 色譜法(GPC)測(cè)得并W聚苯乙締為內(nèi)標(biāo)換算得到。此外，具有化學(xué)式1的重復(fù)單元的聚酷胺 酸在可見(jiàn)光區(qū)域的透光率為80% W上、85% W上或90% W上，并具有優(yōu)異的耐熱性。
[0025] 在基板中，光學(xué)功能層可位于第一聚合物基底層的上方。例如可使用霧度為10% 至50%、20%至40%、或25%至35%的光學(xué)功能層作為所述光學(xué)功能層。對(duì)于測(cè)量霧度的方 法沒(méi)有特別的限制，可使用常規(guī)的霧度測(cè)定儀化azemeter)如歷-150,在JIS K 7105標(biāo)準(zhǔn)下 進(jìn)行測(cè)量。若光學(xué)功能層的霧度在上述范圍內(nèi)，則由有機(jī)層透射出來(lái)的光可適當(dāng)?shù)匕l(fā)生散 射、折射或衍射，從而能夠消除或減少在有機(jī)層、光學(xué)功能層和基底層中的任意兩個(gè)層之間 的界面處發(fā)生的全內(nèi)反射現(xiàn)象。
[0026] 光學(xué)功能層例如可為光散射層。本說(shuō)明書(shū)中的術(shù)語(yǔ)"光散射層"可指例如可使入射 到所述層上的光發(fā)生散射、折射或衍射的所有種類(lèi)的層。對(duì)光散射層的形態(tài)沒(méi)有特別的限 定，只要具有上述功能即可。
[0027] 光散射層例如可W是包含基體材料和散射區(qū)域的層。圖2示意性地示出包含由散 射顆粒形成的散射區(qū)域1012和基體材料1021的示例性光散射層形成于基底層101上的結(jié) 構(gòu)。本說(shuō)明書(shū)中的術(shù)語(yǔ)"散射區(qū)域"可指例如具有與基體材料或周?chē)牧?例如下述的高折 射層)不同的折射率，并具有合適的尺寸，因此可使入射光發(fā)生散射、折射或衍射的區(qū)域。散 射區(qū)域例如可由具有下述折射率及大小的顆粒形成，或可為空余空間。例如，可使用與周?chē)?材料不同，且具有比周?chē)牧系恼凵渎矢呋蚋偷恼凵渎实念w粒形成散射區(qū)域。散射顆 粒的折射率與周?chē)牧侠缁w材料和/或高折射層的折射率的差值可大于0.3或在0.3 W 上。例如，散射顆粒可具有約1.0至3.5或約1.0至3.0的折射率。散射顆粒的折射率是指針對(duì) 約550nm波長(zhǎng)的光測(cè)得的折射率。散射顆粒的折射率例如可為1.0至1.6、或1.0至1.3。在另 一示例中，散射顆粒的折射率可為約2.0至3.5或約2.2至3.0。散射顆粒例如可W是平均粒 徑為50皿W上、100皿W上、SOOnmW上、或1,000皿W上的顆粒。散射顆粒的平均粒徑例如可 W在10,000nmW下。散射區(qū)域是具有上述尺寸的空余空間，也可W通過(guò)在空間內(nèi)充入空氣 而形成。
[0028] 散射顆?；騾^(qū)域可為球形、楠圓形、多面體或不規(guī)則形狀，但對(duì)其形狀并沒(méi)有特別 的限定。散射顆粒例如可為包含下述材料的顆粒:有機(jī)材料，如聚苯乙締或其衍生物、丙締 酸樹(shù)脂或其衍生物、娃樹(shù)脂或其衍生物、或酪醒樹(shù)脂或其衍生物;或無(wú)機(jī)材料，如二氧化娃、 氧化侶、氧化鐵或氧化錯(cuò)。散射顆?？砂鲜霾牧现械娜我环N或至少兩種。例如，對(duì)于散 射顆粒，還可使用中空顆粒（如中空型二氧化娃化Ollow silica))或具有核/殼結(jié)構(gòu)的顆 粒。
[0029] 光散射層可進(jìn)一步包括用于保持散射顆粒等的散射區(qū)域的基體材料?；w材料例 如可使用與相鄰的其他材料(如基底層)具有相似程度的折射率的材料、或具有比相鄰材料 高的折射率的材料來(lái)形成?；w材料可為有機(jī)材料，如聚酷亞胺、含有巧環(huán)的卡多樹(shù)脂 (caldo resin)、氨基甲酸醋、環(huán)氧化物、聚醋或丙締酸醋基可熱固化或可光固化的單體、低 聚物或聚合物；無(wú)機(jī)材料，如氧化娃、氮化娃（si Iicon nitride)、氮氧化娃（si Iicon oxynitride)或聚硅氧烷;或有機(jī)/無(wú)機(jī)復(fù)合材料等。
[0030] 基體材料可包含聚硅氧烷、聚酷胺酸或聚酷亞胺。在本文中，聚硅氧烷可通過(guò)例如 可縮合的硅烷化合物或硅氧烷低聚物的縮聚反應(yīng)形成，從而形成基于娃與氧之間的鍵(Si-0)