技術(shù)編號(hào)：12785650
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明專利屬于化工設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種化工用氣體均勻分布設(shè)備。背景技術(shù)隨著高孔隙率、低阻力的新型填料日益廣泛的應(yīng)用于大直徑、淺填料層的處理設(shè)備中，設(shè)備中的氣體均勻分布問題已日益引起研究者的重視，尤其是在石油、化工、食品工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域中，氣流的均勻分布能夠使填料得到充分的利用。由于受到設(shè)備本身的一些限制，流經(jīng)的氣體往往都是集中通過，在使用過程中對(duì)填料的利用率較低。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明專利針對(duì)上述技術(shù)問題，提供了一種對(duì)填料的利用率較高的化工用氣體均勻分布設(shè)備。本發(fā)明專利所采用的技術(shù)方案為：一種化工...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。