技術編號：1979087
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。蝕刻設備的反應槽裝置的上電極[0001]本實用新型涉及一種電極，特別是涉及一種蝕刻設備的反應槽裝置的上電極。技術背景[0002]在電漿蝕刻制程中，上電極位于被蝕刻的玻璃基板上方，必須要有高電漿電阻，為 達到此目的，現有上電極的制造方式，是對上電極表面及上電極用于通入蝕刻氣體的氣孔 內緣進行陽極處理，使其產生薄薄的一層陽極膜，例如中國臺灣申請?zhí)柕?8107375號專利 案。但是因為電漿蝕刻制程中會使用氟(F)、氯(Cl)等活性腐蝕氣體，當陽極膜遭受到上述 腐...
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