技術(shù)編號：2730369
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及掩模板及其制造方法，特別涉及一種半色調(diào)掩模板及其制 造方法。背景技術(shù)半色調(diào)掩模板包括透明的基板，基板上設(shè)有非透射區(qū)域、半透射區(qū)域 和透射區(qū)域，其中半透射區(qū)域的透射率介于非透射區(qū)域和透射區(qū)域的透射 率之間。目前，通過多次掩模工藝制造陣列基板或互補型氧化金屬半導(dǎo)體(Complementary Metal Oxide Semiconductor,簡稱為C0MS )的過程中， 所使用的半色調(diào)掩模板通常設(shè)計在掩模板一面。即在掩模板一面沉積掩模 板材料(Ma...
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