技術(shù)編號(hào):3251738
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及氧化銦-氧化錫粉末和使用該粉末的濺射靶以及氧化銦-氧化錫粉末的制造方法。背景技術(shù) 一般作為形成薄膜的方法之一,眾所周知的有濺射法。作為濺射法,由于是通過(guò)濺射濺射靶而得到薄膜的方法,容易大面積化,可高效率地形成高性能的膜,所以在工業(yè)中得到利用。另外,近年來(lái)作為濺射的方式,還有在反應(yīng)性氣體中進(jìn)行濺射的反應(yīng)性濺射法和在靶的背面設(shè)置磁鐵以實(shí)現(xiàn)高速形成薄膜的磁控管濺射法等為人所知。使用這樣的濺射法的薄膜中,特別是氧化銦-氧化錫(In2O3-SnO2的復(fù)合氧...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。