技術(shù)編號：3269992
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及有機(jī)金屬化學(xué)氣象沉積設(shè)備領(lǐng)域，更具體的說涉及一種鑰反應(yīng)腔，使用于MOCVD工藝。背景技術(shù)隨著化合物半導(dǎo)體器件(如GaAs麗1C、InP麗IC以及GaN藍(lán)光LED)市場的不斷擴(kuò)大，MOCVD系統(tǒng)的需求量不斷增長。目前國際上實(shí)力最為雄厚的MOCVD系統(tǒng)制造商有德國、美國、英國等。因?yàn)镸OCVD系統(tǒng)最關(guān)鍵的問題就是保證材料生長的均勻性和重復(fù)性，因此不同廠家的MOCVD系統(tǒng)最主要的區(qū)別在于反應(yīng)室結(jié)構(gòu)。目前國內(nèi)使用于MOCVD設(shè)備主要是LED光電行業(yè)，...
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