技術(shù)編號：3367212
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及電子材料，更準確的說，涉及了一種高重復(fù)性氧化釩薄膜的 制備方法及其設(shè)備。背景技術(shù)氧化釩薄膜由于具備高的電阻溫度系數(shù)，低的噪聲系數(shù)和較低的成膜溫度，是制 作高性能非制冷紅外焦平面探測器的最常用熱敏薄膜材料之一。在焦平面探測器批量生產(chǎn) 中，氧化釩薄膜方塊電阻及電阻溫度系數(shù)的批次重復(fù)性是影響焦平面探測器性能和成品率 的關(guān)鍵。釩與氧氣反應(yīng)生成的金屬釩氧化物共有多達13種不同的相結(jié)構(gòu)，單個相結(jié)構(gòu)的穩(wěn) 定條件非常窄，因此要制備具有嚴格化學配比的氧化釩薄膜非常...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。