技術編號：3778291
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及基片清洗用二流體噴射模塊及利用其的基片清洗裝置，尤其涉及將兩種流體進行混合并擴散而噴射到基片表面的基片清洗用二流體噴射模塊及利用其的基片清洗裝置。背景技術 通常，半導體裝置或顯示裝置通過使用半導體晶片或平板顯示器(FPDflat panel display)，經(jīng)過蒸鍍工藝、蝕刻工藝、光刻工藝、離子注入工藝等多種制造工藝而制造。在這些制造工藝中表面處理工藝是利用清洗液、蝕刻液或顯影液等處理液處理基片表面，以對基片進行清洗(cleaning)、蝕刻(...
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