技術(shù)編號(hào):39980233
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開(kāi)涉及腔室內(nèi)維護(hù)設(shè)備、系統(tǒng)和使用它們的維護(hù)方法。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體工藝之中,蝕刻是通過(guò)將工藝所需的反應(yīng)氣體注入真空腔室并生成等離子體而在晶片上蝕刻電路圖案的工藝。此時(shí),蝕刻發(fā)生在腔室內(nèi)的其他部件上或者沉積物累積在腔室內(nèi),并且為了防止工藝質(zhì)量的劣化,執(zhí)行定期維護(hù)加工(即,預(yù)防性維護(hù),pm)(諸如,腔室內(nèi)的消耗品的替換、清潔和部件檢查等)。、具體地,當(dāng)組裝部件(聚焦環(huán)、石英環(huán)等)圍繞腔室內(nèi)的靜電卡盤(pán)(esc)時(shí),需要精密的同心對(duì)齊和間隔控制,并且必須注意避免在上面的加工中損壞物體。、最近,...
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