技術(shù)編號(hào)：40238689
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置的制造方法及半導(dǎo)體制造裝置。背景技術(shù)、為了正確地對(duì)合格半導(dǎo)體芯片和不合格半導(dǎo)體芯片進(jìn)行分選，使作為半導(dǎo)體元件的電氣試驗(yàn)的結(jié)果而輸出的映射圖數(shù)據(jù)(map?data)中的半導(dǎo)體芯片的位置信息與實(shí)際在半導(dǎo)體晶片形成的大量半導(dǎo)體芯片的位置信息準(zhǔn)確地一致的技術(shù)是重要的。在專(zhuān)利文獻(xiàn)中提出了如下技術(shù)，即，準(zhǔn)備在未形成半導(dǎo)體元件的非形成區(qū)域形成了墨標(biāo)(ink?mark)的基準(zhǔn)顆粒，通過(guò)基于該基準(zhǔn)顆粒的坐標(biāo)進(jìn)行合格顆粒及不合格顆粒的檢查。、專(zhuān)利文獻(xiàn)：日本特開(kāi)-號(hào)公報(bào)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。