技術(shù)編號:6803591
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)于在半導(dǎo)體組件、液晶顯示組件、攝影組件、薄膜磁頭、其它微型組件(micro device)的制造工序所使用的曝光裝置及曝光方法。背景技術(shù) 微型組件之一的液晶顯示組件,通常,在玻璃基板(plate)上使透明薄膜電極以微影蝕刻(lithography)方法加以圖案化成為所期望的形狀,以形成薄膜晶體管TFT(Thin Film Transistor)等的開關(guān)組件(switchingelement)及電極配線加以制造。在使用此微影蝕刻方法的制造工序,使用...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。