技術(shù)編號：6844423
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用光刻蝕法改進(jìn)粘合性以制備光滑的表面膜的方法。該方法可包括等離子處理膜和粘合到膜上的被粘物，以進(jìn)一步改進(jìn)粘合性。該方法可用于電子封裝應(yīng)用。背景技術(shù) 光刻蝕法是一種技術(shù)，其中基底用可光構(gòu)圖的組合物覆蓋，所述可光構(gòu)圖的組合物是輻射敏感材料。將該膜選擇性暴露于輻射線下，即，一部分膜暴露于輻射線下，同時(shí)另一部分保持未暴露?？赏ㄟ^在輻射源和膜之間放置光掩膜，從而進(jìn)行膜的選擇性暴露。光掩膜可以是透輻射線的材料，該材料具有在其上形成的輻射不透過的圖案。在正性...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。