技術編號：6938496
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種電容，具體的，涉及一種基于SOI的電容。背景技術電容的構造一般是由兩個平行的金屬板以及兩個金屬板中間的絕緣材料所構成，電容的公式為C二 eS/4Jikd，平行板電容器的電容C跟介電常數(shù)e、正對面積S成正比，跟極板間的距離d成反比，式中k為靜電力常量，介電常數(shù)e由兩極板之間介質決定。 應用在集成電路中的電容，通常都將電容形成在以某種介質形成的表面上，在此表面之下還有其他導電的金屬連線或者金屬層，而這些導電的金屬連線或者金屬層與電容耦合形成雜散電...
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