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技術(shù)編號：7052124

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本發(fā)明公開了，在鍍膜工序制作減反射膜層時，采用CO2或CO2與SiH4作為反應(yīng)氣體，與太陽能電池硅片表面反應(yīng)制作鈍化膜層，然后在鈍化膜層表面再鍍一層氮化硅減反膜層；采用CO2作為反應(yīng)氣體時，CO2流量為500～15000sccm，射頻功率為4000～8000W，時間為30～300s，鈍化膜層的膜厚為5～20nm；采用CO2與SiH4作為反應(yīng)氣體時，CO2與SiH4的流量比例為1～451，射頻功率為4000～8000W，時間為30～300s，鈍化膜層的膜厚為...
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