技術(shù)編號：8032841
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及氟化物晶體的制造裝置及制造方法。背景技術(shù) (專利文獻(xiàn)1)特開平11-130594號公報(專利文獻(xiàn)2)特開平10-265293號公報(專利文獻(xiàn)3)特開平8-259375號公報(非專利文獻(xiàn)1)應(yīng)用物理手冊第2版、丸善、p427伴隨著半導(dǎo)體元件的高集成化，各種光源也越來越短波長化，該需求涉及到真空紫外區(qū)域。作為該波長區(qū)域的光學(xué)材料，使用具有優(yōu)良透射性的氟化物晶體，例如利用ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)、F2準(zhǔn)分子激光(157nm)的光蝕刻用的光學(xué)材料，使用的是氟化鈣、氟化鋇、氟化鎂等氟化物單晶。除此之外...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。