技術(shù)編號(hào):8300374
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著技術(shù)的發(fā)展,顯示裝置的尺寸、分辨率、刷新率都不斷提高,這就要求其陣列 基板中的薄膜晶體管具有更低的電阻和更高的迀移率,以降低信號(hào)的延遲。金屬氧化物薄 膜晶體管迀移率高、均一性好、透明、制作工藝簡(jiǎn)單,故獲得了廣泛應(yīng)用。 為減化工藝,薄膜晶體管優(yōu)選采用背溝道(Back Channel)結(jié)構(gòu),即源漏極形成在 有源區(qū)上方。但是,金屬氧化物薄膜晶體管的有源區(qū)是金屬氧化物,其耐腐蝕性與金屬源漏 極類(lèi)似,故若其采用背溝道結(jié)構(gòu),則在刻蝕形成源漏極時(shí)容易損傷有源區(qū)。 ...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。