技術(shù)編號：8617637
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。薄膜沉積速率或蝕刻速率的均勻性，是大尺寸產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中面臨的問題。一般地，進氣裝置包括進氣板和單層篩板，進氣板上開設(shè)有進氣口。氣體經(jīng)進氣口進入并由單層篩板分散開來。上述進氣裝置由于氣體分散不均勻，邊緣和中間的沉積或刻蝕速率往往差別較大，導(dǎo)致產(chǎn)品均勻性較差。實用新型內(nèi)容基于此，有必要提供一種氣體分散均勻、產(chǎn)品均勻性好的進氣裝置。一種進氣裝置，包括至少一個氣體分散單元，所述氣體分散單元包括第一層篩板，設(shè)有多個第一進氣孔；第二層篩板，設(shè)置于第一層篩板下方，與所...
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