技術(shù)編號：9480361
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，屬環(huán)境功能材料制備。背景技術(shù)分子印跡是制備具有預(yù)定識別功能結(jié)合位點(diǎn)三維交聯(lián)高分子的技術(shù)，制備的分子印跡聚合物能對模板分子進(jìn)行選擇性地識別并且高效吸附分離；表面分子印跡技術(shù)通過把分子識別位點(diǎn)建立在基質(zhì)材料的表面，當(dāng)分子印跡聚合物用于吸附分離模板分子時，基于這些“記憶”孔穴識別位點(diǎn)會專一性地鍵合模板分子，從而表現(xiàn)出高度的特異選擇性。較好的解決了傳統(tǒng)分子印跡技術(shù)整體還存在的一些嚴(yán)重缺陷，如活性位點(diǎn)包埋過深，傳質(zhì)和電荷傳遞的動力學(xué)速率慢，吸附-脫附的動...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。