技術(shù)編號：9552777
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 旋轉(zhuǎn)式磁控管陰極濺射裝置為，在圓筒形靶的內(nèi)側(cè)具有磁場產(chǎn)生裝置，在從靶的 內(nèi)側(cè)進(jìn)行冷卻的同時使靶旋轉(zhuǎn)并實施濺射的裝置，其使靶材的整個表面被酸蝕從而被均勻 地切削。因此，在平板型磁控管濺射裝置中，靶材的使用效率通常為20~30%，相對于此， 在旋轉(zhuǎn)式磁控管陰極濺射裝置中，能夠使靶材的使用效率成為70%以上，從而能夠得到非 常高的使用效率。而且，在旋轉(zhuǎn)式磁控管陰極濺射裝置中，通過使靶旋轉(zhuǎn)，從而與現(xiàn)有的平 板型磁控管濺射裝置相比，由于每單位面積能夠輸入較大的功率...
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