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      步進(jìn)掃描曝光機(jī)的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):9673149

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      通常,半導(dǎo)體器件反復(fù)實(shí)施依次層疊薄膜的過(guò)程來(lái)制作,以在硅片形成規(guī)定的電路圖案,而為了薄膜的形成及層疊,需要反復(fù)執(zhí)行蒸鍍工序、光刻工序、刻蝕工序等多種單元工序。在單元工序中,光刻工序作為用于在晶片上形成圖案的工序,包括感光液涂敷(coating)工序、曝光(exposuring)工序及顯像(developing)工序等,通過(guò)利用借助顯像工序形成于晶片上的圖案來(lái)對(duì)晶片的最上端層進(jìn)行刻蝕,從而可以形成基于圖案的器件。感光液涂敷工序?yàn)槭褂猛坎紮C(jī)(Coater)來(lái)在...
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