步進(jìn)掃描曝光機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及曝光模塊反復(fù)進(jìn)行步進(jìn)移送，使得無法通過一次曝光作業(yè)來形成電路圖案的大規(guī)格的整個(gè)被曝光體(膜、晶片等)均勻地曝光的新概念技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，半導(dǎo)體器件反復(fù)實(shí)施依次層疊薄膜的過程來制作，以在硅片形成規(guī)定的電路圖案，而為了薄膜的形成及層疊，需要反復(fù)執(zhí)行蒸鍍工序、光刻工序、刻蝕工序等多種單元工序。
[0003]在單元工序中，光刻工序作為用于在晶片上形成圖案的工序，包括感光液涂敷(coating)工序、曝光(exposuring)工序及顯像(developing)工序等，通過利用借助顯像工序形成于晶片上的圖案來對(duì)晶片的最上端層進(jìn)行刻蝕，從而可以形成基于圖案的器件。
[0004]感光液涂敷工序?yàn)槭褂猛坎紮C(jī)(Coater)來在晶片的表面均勻地涂敷作為光敏感物質(zhì)的感光液(photo-resist ；PR)的工序，曝光工序?yàn)槭褂貌竭M(jìn)機(jī)(stepper)使光經(jīng)過在掩膜繪制的電路圖案，從而在形成感光膜的被曝光體(膜、晶片等)上曝光電路圖案的工序。并且，顯像工序?yàn)槭褂蔑@像劑(developer)使得通過曝光工序來使晶片的表面接受光的部分的膜顯像的工序。
[0005]其中，作為用于進(jìn)行與上述曝光工序的曝光裝置相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，提出過“韓國(guó)登錄特許第1379379號(hào)，名稱/曝光系統(tǒng)用硅片夾水平保持裝置”。
[0006]包括上述現(xiàn)有技術(shù)的曝光裝置的其他所有曝光裝置具有向位于曝光臺(tái)上的被曝光體的前表面一次性照射從固定于相應(yīng)位置的曝光模塊光源發(fā)射的光的結(jié)構(gòu)。
[0007]但是，由于上述曝光模塊固定于規(guī)定位置，因而可根據(jù)曝光模塊的產(chǎn)品配置來進(jìn)行曝光的被曝光體的規(guī)格受到限制，從而無法通過一次性作業(yè)來對(duì)長(zhǎng)度大于上述曝光模塊的配置的被曝光體實(shí)施曝光，導(dǎo)致曝光裝置的利用率下降，而為了通過一次性作業(yè)來實(shí)現(xiàn)對(duì)上述長(zhǎng)的被曝光體的曝光，存在上述曝光模塊的規(guī)格需要過度龐大的不合理現(xiàn)象。
[0008]因此，實(shí)際情況為，迫切需要不受上述被曝光體的規(guī)格限制，而具有可以靈活地對(duì)被曝光體進(jìn)行曝光的功能的曝光裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]技術(shù)問題
[0010]本發(fā)明用于積極解決以往的曝光裝置所具有的諸多問題，本發(fā)明所要解決的問題在于，使被曝光體吸附于向外部引出的托盤(chuck tray)之后，可向掩膜架的下側(cè)進(jìn)入上述托盤，在上述掩膜架的上端裝載玻璃底座，形成有電路圖案的底片以吸附的方式固定于上述玻璃底座，一邊使上述掩膜架上下移動(dòng)，一邊調(diào)節(jié)上述玻璃底座及被曝光體之間的間隙，并使位于上述掩膜架的上部的曝光模塊一邊向橫向以掃描方式連續(xù)地移送或反復(fù)進(jìn)行步進(jìn)移動(dòng)，一邊進(jìn)行曝光光。
[0011]解決問題的手段
[0012]作為用于解決上述問題的方案，本發(fā)明所要尋求的技術(shù)為，在曝光機(jī)本體的內(nèi)部前方設(shè)置可根據(jù)托盤進(jìn)入氣缸的工作來向內(nèi)外部引出/進(jìn)入的托盤，在上述托盤的上部設(shè)置可根據(jù)曝光模塊的升降氣缸的工作來進(jìn)行上下移動(dòng)的掩膜架，在上述掩膜架的上側(cè)設(shè)置曝光模塊，上述曝光模塊根據(jù)曝光模塊移送馬達(dá)的工作來向橫向移送，以此來對(duì)吸附于托盤的被曝光體進(jìn)行曝光。
[0013]發(fā)明的效果
[0014]根據(jù)本發(fā)明，提供如下效果:由于曝光模塊可以向橫向移送，因而可在不受被曝光體的規(guī)格限制的情況下，使上述曝光模塊以掃描方式連續(xù)地移送或反復(fù)進(jìn)行步進(jìn)移送，并可以使多種規(guī)格的被曝光體既靈活，且整體上均勻地實(shí)現(xiàn)曝光，從而可以提高曝光裝置的利用率，并可在不使曝光模塊以必要以上地變得龐大的情況下，以緊湊的方式體現(xiàn)小型化，且可以迅速、簡(jiǎn)便地對(duì)大規(guī)格的被曝光體進(jìn)行曝光。
[0015]并且，本發(fā)明提供如下效果:在本發(fā)明的托盤設(shè)有多孔吸盤，從而可以按照不同區(qū)間來吸附長(zhǎng)度長(zhǎng)的被曝光體，使上述被曝光體的整個(gè)區(qū)域完全吸附于多孔吸盤，由此實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的曝光。
【附圖說明】
[0016]圖1為適用本發(fā)明的步進(jìn)掃描曝光機(jī)的立體圖。
[0017]圖2為除去本發(fā)明的外置板的步進(jìn)掃描曝光機(jī)的立體圖。
[0018]圖3為除去本發(fā)明的外置板的步進(jìn)掃描曝光機(jī)的主視圖。
[0019]圖4為除去本發(fā)明的外置板的步進(jìn)掃描曝光機(jī)的右側(cè)側(cè)視圖。
[0020]圖5為本發(fā)明的托盤、掩膜架、曝光模塊的設(shè)置狀態(tài)的側(cè)視圖。
[0021]圖6為本發(fā)明的托盤的設(shè)置狀態(tài)的立體圖。
[0022]圖7為本發(fā)明的托盤的引出狀態(tài)的俯視圖。
[0023]圖8為本發(fā)明的托盤的進(jìn)入狀態(tài)的俯視圖。
[0024]圖9為本發(fā)明的掩膜架的設(shè)置狀態(tài)的立體圖。
[0025]圖10為本發(fā)明的掩膜架的主視圖。
[0026]圖11為本發(fā)明的掩膜架的下降狀態(tài)的主視圖。
[0027]圖12為本發(fā)明的玻璃底座的仰視圖。
[0028]圖12為本發(fā)明的玻璃底座的側(cè)面剖視圖。
[0029]圖14為本發(fā)明的曝光模塊的設(shè)置狀態(tài)的主視圖。
[0030]圖15為本發(fā)明的曝光模塊的立體圖。
[0031]圖16為本發(fā)明的曝光模塊的工作狀態(tài)的主視圖。
[0032]附圖標(biāo)記的說明
[0033]1:被曝光體2:底片
[0034]10:曝光機(jī)本體11:前門
[0035]12:水平框架20:托盤
[0036]21:底板22:氣缸固定板
[0037]24:托盤驅(qū)動(dòng)氣缸 25:多孔吸盤
[0038]26:固定軌道28:移動(dòng)軌道
[0039]30:掩膜架31:引導(dǎo)桿
[0040]32:支架升降氣缸40:曝光模塊
[0041]41:曝光模塊支撐架42:軌道支架
[0042]42a:移動(dòng)路徑43:直線運(yùn)動(dòng)(LM)軌道
[0043]44:搬運(yùn)器46:滾珠絲杠軸
[0044]47:球狀螺母48:曝光模塊移送馬達(dá)
[0045]49:同步帶50:玻璃底座
[0046]51:真空管52:真空口
【具體實(shí)施方式】
[0047]現(xiàn)對(duì)用于更加具體地體現(xiàn)本發(fā)明所要解決的問題的解決方案的本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行說明。
[0048]依據(jù)附圖來簡(jiǎn)要觀察本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的整體技術(shù)結(jié)構(gòu)可以確認(rèn)，上述結(jié)構(gòu)大致分為曝光機(jī)本體10、托盤20、掩膜架30、曝光模塊40的結(jié)構(gòu)要素。
[0049]以下，更加詳細(xì)地說明本發(fā)明，以便容易地實(shí)施由上述簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)構(gòu)成的本發(fā)明。
[0050]在本發(fā)明的曝光機(jī)本體10以可以開閉的方式設(shè)有前門11，從而不僅向內(nèi)部及外部引出或進(jìn)入托盤20，而且可以在設(shè)置于上述曝光機(jī)本體10的內(nèi)部的掩膜架30的上端裝載玻璃底座50。
[0051]在多個(gè)水平框架12的上端前后分別以相互隔開的方式設(shè)有底板21及氣缸固定板22，上述多個(gè)水平框架12向水平方向與上述曝光機(jī)本體10的內(nèi)部的中央連接設(shè)置，在上述底板21及氣缸固定板22的中央兩側(cè)分別固定有氣缸支架23、23a，一對(duì)托盤驅(qū)動(dòng)氣缸24的兩側(cè)與上述氣缸支架23、23a相連接，如圖4或圖5，與上述托盤驅(qū)動(dòng)氣缸24的活塞桿24a相連接的多孔吸盤25借助上述托盤驅(qū)動(dòng)氣缸24來沿著固定于上述底板21的上部?jī)蓚?cè)的固定軌道26向前后進(jìn)行滑動(dòng)，并可以自由地向曝光機(jī)本體10的內(nèi)部及外部引出/進(jìn)入。
[0052]在如上所述的上述托盤20的上端前方設(shè)有多個(gè)操作開關(guān)27，在上述操作開關(guān)27的后方放置有用于執(zhí)行借助真空吸力來吸附固定用于曝光作業(yè)的被曝光體1的多孔吸盤25，與上述固定軌道26相結(jié)合的移動(dòng)軌道26與上述多孔吸盤25的底面兩側(cè)附著為一體，從而使上述托盤20可以向前后靈活地滑動(dòng)。
[0053]其中，上述多孔吸盤25呈矩形的長(zhǎng)的長(zhǎng)度，因此，若真空吸力一次性地起到作用，且吸附被曝光體1，則規(guī)格大的被曝光體1的整個(gè)區(qū)域無法均勻地實(shí)現(xiàn)緊貼，從而存在局部性地翹起或位置發(fā)生扭曲等憂慮，在考慮到這種問題，通過使上述多孔吸盤25向左右方向分為多個(gè)區(qū)間，從而使放置于上述多孔吸盤25的被曝光體1以按不同的區(qū)間來留有時(shí)間差的方式進(jìn)行真空吸附，且使被曝光體1的整個(gè)區(qū)域完全以緊貼狀態(tài)吸附于多孔吸盤25的上部面，由此提供實(shí)現(xiàn)高