技術(shù)編號：9745560
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。二硫化鉬是以范德華力結(jié)合為主的層片狀化合物，其化學(xué)鍵S-Mo-S為主;二硫化鉬薄膜在結(jié)構(gòu)和性能上類似于石墨烯，具有非常優(yōu)異的電子、力學(xué)、光學(xué)性能。曾廣泛應(yīng)用于航天、航空、化工、冶金等行業(yè)，也可用于催化添加劑、涂層和密封材料等領(lǐng)域。但與石墨烯不同，二硫化鉬薄膜存在一個可調(diào)控的帶隙。塊狀晶體二硫化鉬的帶隙為1.2eV，其電子躍迀方式間接躍迀；當(dāng)厚度為單層時，二硫化鉬的帶隙可以達(dá)到1.8eV，且其電子躍迀方式轉(zhuǎn)變?yōu)橹苯榆S迀。因此，二硫化鉬薄膜獨(dú)特的結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的物...
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