砂磨機(jī)分散盤的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種砂磨機(jī)分散盤，涉及涂料生產(chǎn)設(shè)備制造【技術(shù)領(lǐng)域】，包括有圓盤，所述圓盤的兩端面上分別設(shè)有多個(gè)相對(duì)設(shè)置的分散片，所述分散片的一端伸出所述圓盤的外緣，所述分散片的側(cè)面與所述圓盤的中心線呈夾角a設(shè)置。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明分散片在圓盤的兩端面和外緣向外伸出，旋轉(zhuǎn)時(shí)涂料中的固體粒子被有效分散、剪切研磨，對(duì)涂料進(jìn)行充分?jǐn)嚢柩心?，涂料中的固體粒子分散均勻，提高光澤度。
【專利說明】砂磨機(jī)分散盤

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及涂料生產(chǎn)設(shè)備制造【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是一種用于涂料砂磨機(jī)的分散盤。

【背景技術(shù)】
[0002]砂磨機(jī)分散盤安裝在砂磨機(jī)的轉(zhuǎn)軸上，隨轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)對(duì)涂料進(jìn)行攪拌研磨，使分散在涂料中的固體粒子微?；?，增加反射率，產(chǎn)生光澤并提高遮蓋率。目前使用的砂磨機(jī)分散盤，包括有圓盤，所述圓盤的邊緣排布有多塊擋板。由于該砂磨機(jī)分散盤只在圓盤的邊緣排布有擋板，對(duì)涂料進(jìn)行攪拌研磨不充分，涂料中的固體粒子分散不均勻，光澤度差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種砂磨機(jī)分散盤，以解決對(duì)涂料進(jìn)行攪拌研磨不充分，涂料中的固體粒子分散不均勻的問題。
[0004]為了解決上述問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:這種砂磨機(jī)分散盤，包括有圓盤，所述圓盤的兩端面上分別設(shè)有多個(gè)相對(duì)設(shè)置的分散片，所述分散片的一端伸出所述圓盤的外緣，所述分散片的側(cè)面與所述圓盤的中心線呈夾角a設(shè)置。
[0005]上述砂磨機(jī)分散盤技術(shù)方案中，更具體的技術(shù)方案還可以是:所述夾角a為20度?30度。
[0006]由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下有益效果:
本發(fā)明在圓盤的兩端面上分別設(shè)有多個(gè)相對(duì)設(shè)置的分散片，分散片的一端伸出圓盤的外緣，分散片的側(cè)面與圓盤的中心線呈夾角a設(shè)置；分散片在圓盤的兩端面和外緣向外伸出，旋轉(zhuǎn)時(shí)涂料中的固體粒子被有效分散、剪切研磨，對(duì)涂料進(jìn)行充分?jǐn)嚢柩心?，涂料中的固體粒子分散均勻，提高光澤度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖2是圖1的后視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述:
實(shí)施例1
如圖1、圖2所示的一種砂磨機(jī)分散盤，包括有圓盤1，圓盤I的兩端面上分別焊接有八個(gè)相對(duì)設(shè)置的分散片2，分散片2的一端伸出圓盤I的外緣，分散片2的側(cè)面與圓盤I的中心線呈夾角a設(shè)置，夾角a為20度。
[0010]本發(fā)明分散片2在圓盤I的兩端面和外緣向外伸出，旋轉(zhuǎn)時(shí)涂料中的固體粒子被有效分散、剪切研磨，對(duì)涂料進(jìn)行充分?jǐn)嚢柩心?，涂料中的固體粒子分散均勻，提高光澤度。
[0011]實(shí)施例2本實(shí)施與實(shí)施例1的不同之處在于:夾角a為30度。
[0012]其余技術(shù)特征相同。
【權(quán)利要求】
1.一種砂磨機(jī)分散盤，包括有圓盤(1)，其特征在于:所述圓盤(I)的兩端面上分別設(shè)有多個(gè)相對(duì)設(shè)置的分散片(2)，所述分散片(2)的一端伸出所述圓盤(I)的外緣，所述分散片(2)的側(cè)面與所述圓盤(I)的中心線呈夾角(a)設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的砂磨機(jī)分散盤，其特征在于:所述夾角(a)為20度?30度。
【文檔編號(hào)】B02C13/28GK104148145SQ201410426866
【公開日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2014年8月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月27日
【發(fā)明者】宣景勤 申請(qǐng)人:梧州市旺捷機(jī)械制造有限公司