專利名稱：立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，具有不會(huì)造成基材本身或表面受破壞的功效，而且不會(huì)污染輸送裝置。
現(xiàn)有輻射加熱或熱風(fēng)加熱立式烤箱為達(dá)到烤箱上端入出口基材轉(zhuǎn)彎的動(dòng)作，基材于含浸樹脂后的干燥及硬化過程中，基材表面如果必須接觸輸送裝置(例如金屬滾輪1-3支)時(shí)，必須降低基材的溫度到80℃以下，才不會(huì)破壞基材本身的物理特性，且將基材重量及張力轉(zhuǎn)嫁到輸送裝置來承擔(dān)。如果基材本身含有或表面涂有樹脂或粘性物質(zhì)，在操作不正常時(shí)，比如基材溫度太高軟化或涂料太多，可能污染輸送裝置并破壞基材本身或表面。通?；脑诹⑹娇鞠渖隙顺隹谵D(zhuǎn)彎時(shí)，必須先降低本身的溫度，待通過轉(zhuǎn)彎機(jī)構(gòu)后再重新加溫。這種操作方法在能源的有效利用和生產(chǎn)效率等方面都不甚理想。
本實(shí)用新型的目的在于提供一種改進(jìn)的立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，可借空氣墊的功能而使得基材能克服本身懸垂(1-30公尺高)重量及基材運(yùn)動(dòng)中產(chǎn)生的張力(2-40kg／m)，將基材懸浮于轉(zhuǎn)彎輸送裝置的表面上，以使不會(huì)造成基材本身或表面受破壞或污染。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采取了以下技術(shù)方案。
改進(jìn)的立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，主要于立式烤箱輸送裝置設(shè)置能產(chǎn)生氣墊功能的氣墊裝置，利用高壓氣體(20-300℃)由噴嘴吹向基材，使得基材懸浮于輸送裝置表面上，克服重力及張力因素后，進(jìn)行轉(zhuǎn)彎的動(dòng)作；由于基材表面不會(huì)接觸任何輸送裝置，具有不會(huì)造成基材本身或表面受破壞的功效。
本實(shí)用新型立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)還可以做進(jìn)一步改進(jìn)。即在輸送裝置適當(dāng)位置處另設(shè)有產(chǎn)生熱能的加熱裝置，其熱能包括輻射熱或熱風(fēng)，以調(diào)節(jié)基材本身的溫度，一般在100-250℃范圍內(nèi)，正常操作約180℃。由于基材不接觸輸送裝置本體，因此可以把基材本身維持于高溫狀態(tài)，讓樹脂提早產(chǎn)生化學(xué)硬化反應(yīng)，這樣可以提高基材的生產(chǎn)效率約50-150％。
綜上所述，與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實(shí)用新型具有明顯的優(yōu)點(diǎn)能夠克服基材本身自重及基材運(yùn)動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的張力，使得基材因氣墊作用而懸浮于輸送裝置的表面進(jìn)行轉(zhuǎn)彎動(dòng)作；由于運(yùn)動(dòng)中的基材表面不會(huì)接觸到任何輸送裝置本體，不會(huì)造成基材本身或表面受污染或破壞；且由于運(yùn)動(dòng)中的基材在轉(zhuǎn)彎時(shí)不會(huì)接觸任何輸送裝置，使得生產(chǎn)中的基材的物理及化學(xué)特性可以改進(jìn)，提高生產(chǎn)效率50-150％，提高設(shè)備的利用率，降低能源損耗。
下面通過一實(shí)施例并配合附圖，對本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及所達(dá)到的功效做進(jìn)一步說明。


圖1為現(xiàn)有立式烤箱組合立體圖。
圖2為本實(shí)施例中立體烤箱組合立體圖。
上述圖中標(biāo)號說明如下1′-烤箱 2′-輸送裝置(1-3支金屬滾輪)3′-密閉箱4′-基材5′-冷卻箱6′-壓力箱1-烤箱2-輸送裝置20-氣墊裝置3-密閉箱 30-加熱裝置4-基材在生產(chǎn)電路基板內(nèi)層絕緣材料的應(yīng)用，當(dāng)基材表面接觸到輸送裝置之前時(shí)，基材表面溫度必須降低到接近室溫，離開立式烤箱出口時(shí)為150-180℃，才能使基材表面接觸到輸送裝置時(shí)不至于受到破壞。因此，基材離開第一段烤箱出口后，必須先經(jīng)過冷卻，然后才能接觸輸送裝置。經(jīng)輸送裝置的輔助，完成基材轉(zhuǎn)彎的動(dòng)作，然后基材離開輸送裝置，進(jìn)入下一道烤箱烘烤的程序。請參閱
圖1現(xiàn)有烤箱的組合立體圖，由圖可知現(xiàn)有技術(shù)中，基材4離開烤箱1之后，先經(jīng)過6壓力箱隔離，并防止烤箱1內(nèi)部高溫?zé)峥諝馍仙俳?jīng)過冷卻箱5以低于室溫的冰冷空氣吹基材4，讓基材4表面溫度降到接近室溫，然后再接觸由1-3根冷卻滾筒組成的輸送裝置2，完成基材4轉(zhuǎn)彎的動(dòng)作，然后基材4進(jìn)入另一個(gè)烤箱。為了隔離烤箱1與冷卻箱5的溫度，中間必須設(shè)置一只壓力箱6。為了增加基材與輸送裝置2的冷卻效果及防止空氣中粉塵的污染，可設(shè)置一個(gè)密閉箱3，并且灌入冷空氣或由溫、濕度控制的空氣。由上可知，現(xiàn)有技術(shù)烤箱的基材4表面必須接觸輸送裝置2，將自重及張力轉(zhuǎn)嫁到輸送裝置2來承擔(dān)。由于該基材4本身已涂上了高分子樹脂，如操作不當(dāng)時(shí)會(huì)污染輸送裝置，并且破壞基材本身或表面。由該圖也可明確了解基材本身經(jīng)過加熱、冷卻、再加熱的制造流程，確實(shí)不符合能源充分利用的生產(chǎn)效益，而且生產(chǎn)速度也不高。
本實(shí)用新型借氣墊裝置與管路的組合，讓鼓風(fēng)機(jī)產(chǎn)生的風(fēng)壓施加于基材表面，由氣墊的功能使得基材能克服重量及張力而懸浮于輸送裝置的表面。應(yīng)用本結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，基材表面不需要接觸任何輸送裝置，因此不會(huì)造成基材本身或表面受破壞。請參閱圖2本實(shí)施例立式烤箱出入口轉(zhuǎn)向裝置組合立體圖，該烤箱的輸送裝置2由現(xiàn)有技術(shù)中的三根冷卻滾筒演變成為產(chǎn)生氣墊的氣墊裝置20。其中氣墊裝置20連接風(fēng)管、鼓風(fēng)機(jī)而產(chǎn)生氣墊過程為現(xiàn)有技術(shù)，圖中未示，此氣墊裝置20可由單支或數(shù)支不同形狀的開孔耐溫板材組合而成。當(dāng)基材4離開烤箱1之后，因?yàn)榛?不接觸輸送裝置2，因此基材不需要降溫。且由于此輸送裝置2的前后制程都是烤箱，因此增加有密閉箱3起保溫隔熱效果。同時(shí)提升氣墊的高壓空氣溫度，則基材4加溫時(shí)間延長，形成烤箱的延伸。又因?yàn)檩斔脱b置2所產(chǎn)生的氣墊只接觸基材4的一面，為避免造成基材4雙面溫度不平均而影響化學(xué)硬化反應(yīng)，又于輸送裝置適當(dāng)位置處另設(shè)有產(chǎn)生加熱功能的加熱裝置30，以此調(diào)節(jié)基材表面的溫度，以符合基材內(nèi)含高分子樹脂在化學(xué)硬化過程中的均一性。
以上所述實(shí)施例，并非用以局限本實(shí)用新型的范圍，凡運(yùn)用本說明書及申請專利內(nèi)容所做的等效結(jié)構(gòu)變化，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，其特征在于立式烤箱上端出入口之間的輸送裝置(2)設(shè)置有氣墊裝置(20)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述輸送裝置(2)兩側(cè)設(shè)置有加熱裝置(30)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)，其特征在于烤箱外側(cè)設(shè)置有密閉箱(3)。
專利摘要一種改進(jìn)的立式烤箱基材轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu),主要是改進(jìn)立式烤箱上端入出口處的輸送裝置,并設(shè)置能產(chǎn)生氣墊功能的噴嘴,使用高壓空氣由噴嘴向基材而產(chǎn)生氣墊作用。該裝置能克服基材本身自重及基材運(yùn)動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的張力,使得基材因氣墊作用而能懸浮于輸送裝置的表面并進(jìn)行轉(zhuǎn)彎的動(dòng)作;由于運(yùn)動(dòng)中的基材在轉(zhuǎn)彎時(shí)不會(huì)接觸任何輸送裝置,使得基材的物理及化學(xué)特性可以改進(jìn)而增加產(chǎn)能50—150%,提高設(shè)備的利用率,降低能源損耗。
文檔編號A21B3/00GK2427073SQ0020118
公開日2001年4月25日 申請日期2000年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2000年1月28日
發(fā)明者李俊欣, 羅楹棟, 黃煥祺 申請人:亞泰金屬工業(yè)股份有限公司