專(zhuān)利名稱(chēng)：電磁輻射傳輸設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及 一 種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備，該設(shè)備包
括電磁輻射源；發(fā)射窗口，該發(fā)射窗口光學(xué)地連接到電磁輻射源并 且能夠發(fā)射電磁輻射；至少一個(gè)設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中的凹口；以 及壓力計(jì)，用于測(cè)量凹口內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力。
背景技術(shù)：
一種上面提及的類(lèi)型的設(shè)備從WO 2005/009266 Al中已知。該 文件中公開(kāi)的器件包括用于在凹口中產(chǎn)生負(fù)壓的真空裝置。如果設(shè) 備的輻射傳輸頭部適當(dāng)?shù)嘏c待處理的皮膚相接觸，則負(fù)壓僅可以被 建立或者維持。如果輻射傳輸頭部不適當(dāng)?shù)嘏c待處理的皮膚相接觸， 則凹口中的負(fù)壓不能被建立或者凹口中的負(fù)壓?jiǎn)适А＿@是通過(guò)壓力 計(jì)檢測(cè)的，以便確保沒(méi)有發(fā)射電磁輻射，由于輻射傳輸頭部與待處 理的皮膚不適當(dāng)?shù)慕佑|，電磁輻射可能到達(dá)不應(yīng)被處理的身體部位， 諸如人類(lèi)或者動(dòng)物的眼睛或者附近的皮膚部位乃至易受電磁輻射損 害的其他對(duì)象。
從WO 2005/009266 Al中已知的設(shè)備的缺點(diǎn)在于由于導(dǎo)致皮膚 被吸入凹口的負(fù)壓，可能妨礙設(shè)備在皮膚上的移動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是進(jìn)一步發(fā)展開(kāi)始提及的種類(lèi)的設(shè)備，使得設(shè)備 在皮膚上的移動(dòng)更容易。
該目的通過(guò)獨(dú)立權(quán)利要求的特征來(lái)解決。本發(fā)明的進(jìn)一步發(fā)展 以及優(yōu)選的實(shí)施方式在從屬權(quán)利要求書(shū)中進(jìn)行;f既述。
根據(jù)本發(fā)明，提供 一 種開(kāi)始提及的類(lèi)型的用于皮膚處理的電磁輻射傳輸設(shè)備，該設(shè)備包括用于在凹口內(nèi)部產(chǎn)生過(guò)壓的裝置。優(yōu)選 地，用于產(chǎn)生過(guò)壓的裝置通過(guò)電動(dòng)空氣泵形成，該電動(dòng)空氣泵將壓 縮空氣饋送進(jìn)凹口。然而，如果認(rèn)為使用空氣以外的其他氣體對(duì)于 某些種類(lèi)的皮膚處理是有益的，還可以使用空氣以外的其他氣體。 凹口中的過(guò)壓導(dǎo)致4交少的泄漏，即壓縮空氣的一部分一皮壓出凹口 。 因此，產(chǎn)生空氣塾(或者其他氣體墊)，皮膚接觸區(qū)域置于其上。 這確保了設(shè)備可以容易地在待處理的皮膚上移動(dòng)。壓力計(jì)可以是與 顯示器、開(kāi)關(guān)或者其他控制裝置組合的壓力表。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn) 一 步的特征在于控制裝 置，其連接到壓力計(jì)并且連接到電磁輻射源，其中當(dāng)由壓力計(jì)測(cè)量 的壓力低于預(yù)定的閾值時(shí)，控制裝置能夠防止電磁輻射源和/或發(fā)射 窗口發(fā)射電磁輻射。因此，不正確使用的風(fēng)險(xiǎn)進(jìn)一步降低?？刂蒲b置可以設(shè)置作為例如電子開(kāi)關(guān)或者擋板(shutter)。如果設(shè)置了合適 的閾值，則當(dāng)壓力低于預(yù)定的值時(shí)不可能操作該設(shè)備，因?yàn)槠つw接 觸區(qū)域和待處理的皮膚之間不存在適當(dāng)?shù)慕佑|。因此，即使在由不 適宜的人，例如兒童操作的情況下，也減小了引起損害或者危險(xiǎn)的 風(fēng)險(xiǎn)。注意到在本申請(qǐng)的上下文中，"測(cè)量"壓力意味著確定絕對(duì) 值、或者確定例如相對(duì)于預(yù)定的閾值的相對(duì)值。在這種情況下不必 確定真實(shí)的壓力值，而是僅確定壓力是高于還是低于閾值。閾值， 即低于其則將關(guān)掉設(shè)備或者由控制裝置自動(dòng)關(guān)掉設(shè)備的壓力值，可 以根據(jù)待處理的身體部位或者表面的性質(zhì)而適當(dāng)?shù)剡x擇。
有利地，閾值高于周?chē)鷫毫? mbar到500 mbar。如果待處理的 身體部位或者表面是光滑、柔韌并且可壓緊的，則可以選擇低壓差， 例如高于周?chē)鷫毫?0mbar或者20mbar。如果待處理的表面是粗糙 并且不可壓緊的，則閾值應(yīng)該遠(yuǎn)高于周?chē)鷫毫?，例?00 mbar,以 便確保對(duì)皮膚接觸區(qū)域的位置的正確檢查。如上文所述，即使當(dāng)傳 輸頭部位于正確位置時(shí)，部分壓縮空氣泄露出凹口也是有益的。因 此過(guò)壓裝置的功率應(yīng)該足夠高，以便盡管空氣泄漏仍維持足夠的壓 力差。當(dāng)然閾值可以依賴(lài)于周?chē)鷫毫Γ湟馕吨缭诘蛪簠^(qū)域中
或者在高海拔處，閾值相應(yīng)地低于在高壓區(qū)域中或者在海平面處的 閾值。優(yōu)選地，閾值依賴(lài)于周?chē)鷫毫Σ⑶移淇梢员硎緸榕c周?chē)鷫毫?br> 的壓力差。在本優(yōu)選實(shí)施方式中，可能將閾值定義為在1 mbar和500 mbar之間的與周?chē)鷫毫Φ膲毫Σ睢?br> 優(yōu)選地，在測(cè)量的凹口內(nèi)部的壓力低于閾值的時(shí)間4史期間，控 制裝置能夠防止電磁輻射源發(fā)射高于預(yù)定最大能量的電磁輻射。通 過(guò)在一段時(shí)間期間僅允許發(fā)射確定最大能量，可以避免對(duì)皮膚的過(guò) 度輻照，過(guò)度輻照伴有可能的(增加的)不舒適或者傷害。而且， 關(guān)于皮膚的某個(gè)部位是否接收了輻射這一點(diǎn)，也不再是不確定的。 因?yàn)閭鬏數(shù)酱幚淼纳眢w部位或者表面的電磁輻射會(huì)影響所述身體 部位或者表面，限制供給的輻射的總量可能是重要的。在優(yōu)選實(shí)施 方式中，控制裝置能夠防止設(shè)備的重操作，由此無(wú)需抬起傳輸頭部 并因此破壞過(guò)壓，就能確保不可能供給多于預(yù)定最大能量的輻射能 量。
至少對(duì)于某些應(yīng)用區(qū)域而言，控制裝置控制能夠防止電磁輻射 的發(fā)射的擋板是有益的。這種擋板可以采用任何期望的形式，例如 電光擋板、機(jī)械擋板、可換向鏡等。這種擋板的存在優(yōu)勢(shì)在于當(dāng)設(shè) 備不發(fā)射輻射時(shí)，電磁輻射源不需要被切斷。對(duì)于許多電磁輻射源 而言，這樣做對(duì)源的壽命有益。然而，如果頻繁接通和切斷電磁輻 射源基本上不縮短源的壽命，則控制裝置也可以簡(jiǎn)單地接通和切斷 電磁輻射源的電源，例如在LED和激光器的情況下。
在一個(gè)實(shí)施方式中，發(fā)射窗口存在于凹口中。術(shù)語(yǔ)"發(fā)射窗口" 涉及例如輻射傳輸頭部中的 一 個(gè)區(qū)域，電磁輻射通過(guò)該區(qū)域發(fā)射。 該窗口可以用例如對(duì)于待發(fā)射的電磁輻射透明的材料片來(lái)形成，例 如在可見(jiàn)光的情況下采用玻璃。然而，這還可以意味著不被任何材 料所覆蓋的空腔的開(kāi)口側(cè)，例如管的出口端。發(fā)射窗口存在于凹口 中的優(yōu)勢(shì)在于當(dāng)認(rèn)為凹口被正確定位時(shí)，發(fā)射窗口也被自動(dòng)地正確 定位。在大多情況下，存在一個(gè)發(fā)射窗口。然而，注意到存在多個(gè) 發(fā)射窗口也是可能的。
在另一實(shí)施方式中，凹口圍繞著發(fā)射窗口。這是發(fā)射窗口存在 于凹口中的情況的略微更普遍的實(shí)例。如果凹口圍繞著發(fā)射窗口， 則凹口中的合適的過(guò)壓確保發(fā)射窗口的正確定位。在這種情況下， 凹口可以形成為環(huán)繞發(fā)射窗口的凹槽。在這種方式中，凹口和發(fā)射
窗口可以具有不同的形狀。其提供了以下優(yōu)勢(shì)如果例如出于均勻 性原因，輻射優(yōu)選地以環(huán)形模式提供，而圍繞著被處理的部位的表 面的不同部位將不會(huì)接收輻射。該部位當(dāng)然可以具有不同形狀。而 且，還可以提供多個(gè)凹口?？梢钥紤]多個(gè)小凹口以環(huán)繞發(fā)射窗口的 多個(gè)孔的形式存在。如果所有孔正確定位，則其還是表明傳輸裝置 正確定位的安全指示。
對(duì)于所有實(shí)施方式而言，凹口包括周?chē)吘壙赡苁怯幸娴?。?這種方式中通過(guò)檢查周?chē)吘壎鴱囊曈X(jué)上檢查正確定位是相對(duì)簡(jiǎn)單 的。
有利地，周?chē)吘壥侨嵝钥勺冃蔚?。該?shí)施方式允許調(diào)整未與
發(fā)射窗口或者凹口的平面精確匹配的身體部位或者表面。盡管可以
分別使用不可變形皮膚接觸區(qū)域和傳輸頭部，以及使用待處理的身
體部位或者表面的可變形性，柔性可變形周?chē)吘壧峁┮韵聝?yōu)勢(shì) 施加在身體部位或者表面的壓力的差別較小。如果發(fā)射窗口用透明
材料片形成，則該材料片可以用于在待處理的身體部位或者表面上 施加壓力。在這種情況下，尤其是在皮膚的情況下，經(jīng)過(guò)所述身體 部位的血流可能受到影響。例如在光子脫毛的情況下，如果在正在 處理的組織中血液循環(huán)變慢，則是有利的，因?yàn)椴煌陬A(yù)期部位(發(fā) 色團(tuán)、毛嚢)的組織部位所吸收的輻射較少。除此之外，減小了可 能的處理副作用的風(fēng)險(xiǎn)。柔性可變形周?chē)吘壙梢栽O(shè)計(jì)為諸如橡膠 的彈力材料的邊沿(rim)。還可以是任何其他柔性可變形材料或者 結(jié)構(gòu)。
在有利的實(shí)施方式中，周?chē)吘壩挥谄矫姹砻嫔?、凹面表面?或者凸面表面上。通過(guò)這些簡(jiǎn)單的幾何形狀，待處理的大多數(shù)身體 部位或者其他表面可以有效地被處理。平面表面可以用于處理例如
區(qū)域。周?chē)吘壍陌济姹砻婵梢杂糜谔幚硗姑嫔眢w部位的情況，例 如相對(duì)較小的身體部位諸如手指或者其他部位、彎曲程度很大的身 體部位諸如鼻子。周?chē)吘壍耐姑姹砻嬗幸嬗谔幚矶嗌儆行┌枷莸?表面，諸如用于對(duì)腋窩進(jìn)行脫毛。在特殊情況下，周?chē)吘壍钠渌?表面可以有更多的益處。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施方式中，電磁輻射包括紅外輻 射、可見(jiàn)光輻射或者紫外輻射。為了本申請(qǐng)的目的，將紅外輻射、 可見(jiàn)光輻射以及紫外輻射稱(chēng)作"光輻射，，。光輻射是電磁光譜的一 部分，其經(jīng)常用于身體部位的處理，特別是由非技術(shù)人員或者其他 個(gè)人使用。然而，原則上可以使用其他類(lèi)型的電磁輻射，例如微波輻射或者X射線。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選電磁輻射(光輻射)適用于
針對(duì)肌肉疼痛處理、脫毛、膽紅素血處理等而通過(guò)加熱(紅外輻射) 的處理，通過(guò)可見(jiàn)光輻射的處理，以及人工曬黑和針對(duì)諸如白癜風(fēng) 和牛皮癬的各種皮膚病癥的處理。盡管一些處理，諸如曬黑和脫毛， 可以由非技術(shù)人員或者非專(zhuān)業(yè)人員執(zhí)行，但在很多情況下，可能優(yōu) 選為由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員執(zhí)行該處理。然而，在專(zhuān)業(yè)人員執(zhí)行的情況下，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的改進(jìn)的安全性和其他有益特征也是有效的。貫 穿本申請(qǐng)，詞語(yǔ)"身體部位，，和"待處理的表面"涉及對(duì)通過(guò)電不茲輻射的處理敏感的任何人體組織。尤其涉及皮膚(人體皮膚)。然而通常地，可以考慮任何其他可處理表面，例如在材料研究的領(lǐng)域中，材料的固化。然而，當(dāng)涉及人體或者動(dòng)物的處理而使用時(shí)，本發(fā)明具有特別的優(yōu)勢(shì)，因?yàn)橐馔馐鹿实戎械囊馔鈧Φ娘L(fēng)險(xiǎn)大大減小了。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中，電磁輻射源可以布置在輻射傳輸頭部。
這意味著，例如，諸如LED或者高壓氣體放電燈之類(lèi)的光源設(shè)置在 輻射傳輸頭部中。然而，在有利的實(shí)施方式中，電磁輻射源包括電 磁輻射生成裝置和與其光學(xué)地相連接的電磁輻射傳導(dǎo)裝置。電磁輻 射生成裝置和電磁輻射傳導(dǎo)裝置的存在賦予了分離這兩種功能的可
能性。這意味著復(fù)雜、大型并且重型的電磁輻射生成裝置，諸如高 功率激光器，可以出現(xiàn)在與傳輸頭部有一段距離處。最終發(fā)射由電 磁輻射生成裝置所生成的輻射的傳輸頭部與電磁輻射傳導(dǎo)裝置光學(xué) 地相連接，使得電磁輻射傳導(dǎo)裝置能夠?qū)㈦姶泡椛鋫鲗?dǎo)到輻射傳輸 頭部，并且最終傳導(dǎo)到發(fā)射窗口。這允許相對(duì)小型和輕型的傳輸頭 部，其大大改進(jìn)了使用設(shè)備的舒適度。
在有利的實(shí)施方式中，電磁輻射傳導(dǎo)裝置包括鏡、中空電磁輻 射傳導(dǎo)器或者光纖。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將知道如何選擇適合的傳導(dǎo) 裝置。例如，在激光的情況下，光纖可以作為傳導(dǎo)裝置的選擇。在 激光器是電磁輻射生成裝置并且激光束用于掃描待處理的確定區(qū)域 的情況下可以使用鏡。這允許所述區(qū)域被激光束均勻照射而操作者 不必移動(dòng)輻射傳輸頭部。這大大提高了處理的效率和均勻性。
有利地，電磁輻射源包括激光器、閃光燈、LED、氣體放電燈或
者白熾燈。已經(jīng)證實(shí)這些電磁輻射源在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的多種可 能的使用中有效且有用。它們具有各種波長(zhǎng)、功率等。然而，在指 定情況中，還可以使用其他源，諸如x射線源。
有利地，至少一個(gè)凹口由深度比寬度大的凹槽形成。凹槽的截 面，即寬度和深度之間的關(guān)系，是非常重要的。如果凹槽的寬度例
如不大于3mm,則即使非常用力地對(duì)著器件擠壓皮膚，皮膚也不可 能接觸凹槽的內(nèi)側(cè)，反之亦然。皮膚凸起不能關(guān)閉凹槽的過(guò)壓空氣 供給。通常地，凹槽的不同截面是可能的，例如長(zhǎng)方形、正方形、 半圓形、三角形或者圓三角形。
附加地或者可選地，凹口可能至少部分地在發(fā)射窗口中形成， 特別是在旨在接觸皮膚的發(fā)射窗口的表面中。例如可以提供凹槽， 其以這種方式(還)放置在出口窗口表面上或者出口窗口表面中， 該方式使得過(guò)壓空氣在該表面上流動(dòng)以便冷卻皮膚。表面上凹槽的 形狀例如布置成曲折狀的，或者空氣在平行凹槽中從 一 側(cè)流動(dòng)到另 一側(cè)。如果存在凹進(jìn)窗口 ( recessed window),則空氣例如還從該結(jié) 構(gòu)的一角流動(dòng)到另一角。
根據(jù)本發(fā)明的又一發(fā)展，凹口在設(shè)備的處理頭部中形成，其中 凹口的至少一部分布置為相對(duì)于處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。 例如，過(guò)壓凹槽系統(tǒng)可以安裝為圍繞發(fā)射窗口可轉(zhuǎn)動(dòng)，發(fā)射窗口可 以是例如象散/柱面透鏡或者凸透鏡。如果其中可以集成光系統(tǒng)和過(guò)
壓系統(tǒng)的處理頭部的機(jī)頭(handpiece)在皮膚上樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，則過(guò)壓 系統(tǒng)和透鏡一直與皮膚相接觸。它們位于平面表面中。如果可樞軸 轉(zhuǎn)動(dòng)的過(guò)壓系統(tǒng)相對(duì)于機(jī)頭是彈性承載的，則至少在 一 些情況中是 有益的。
對(duì)于根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備，優(yōu)選地提供至少兩個(gè)過(guò)壓輸送管，用 于在至少一個(gè)凹口中產(chǎn)生過(guò)壓。通常地針對(duì)每個(gè)凹口提供至少兩個(gè) 過(guò)壓輸送管將由于阻塞的輸送管而不能建立過(guò)壓的風(fēng)險(xiǎn)最小化。


參考下文中所描述和附圖中所示出的實(shí)施方式，本發(fā)明的上述 以及其他優(yōu)勢(shì)將變得清楚并得到解釋。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第一實(shí)施方式的示意性框圖， 其中該設(shè)備包括主要器件和與其連接的處理頭部；
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第二實(shí)施方式的示意性框圖， 其中該設(shè)備完全由機(jī)頭形成；
圖3A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第三實(shí)施方式的處理頭部的 一部分的示意性框圖，其中發(fā)射窗口相對(duì)于周?chē)牟牧习歼M(jìn)；
圖3B示出了皮膚處理期間圖3A的處理頭部部分；
圖4A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第四實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖4B示出了圖4A的處理頭部的一部分的截面圖； 圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第五實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第六實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第七實(shí)施方式的處理頭部的截
面圖8A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第八實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖8B示出了圖8A的處理頭部的一部分的截面圖9示意性地示出了將空氣饋送進(jìn)凹口的可能方案；
圖IO示意性地示出了形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的優(yōu) 選幾何形狀；
圖11示出了由不利的凹槽幾何形狀造成的不期望的皮膚凸起效
應(yīng)；
圖12示出了由有利的凹槽幾何形狀所引起的皮膚凸起效應(yīng)的減
圖13示出了用于形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的可能的 截面的例子；
圖14A示出了具有三角形截面的凹槽連同與凹槽相關(guān)聯(lián)的過(guò)壓 饋送輸送管；
圖14B、圖14C以及圖14D是對(duì)應(yīng)于圖14A的剖面線A-A、 B-B 以及C-C的截面一見(jiàn)圖15示意性地示出了相鄰凹槽的可能布置；
圖16示出了凸透鏡形式的發(fā)射窗口 ，其中過(guò)壓系統(tǒng)布置為相對(duì) 于發(fā)射窗口和處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；
圖17A示出了象散/柱面透鏡形式的發(fā)射窗口 ，其中過(guò)壓系統(tǒng)布 置為相對(duì)于發(fā)射窗口和處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；
圖17B示出了處于傾斜位置的圖17A的布置；
圖18A示出了凹進(jìn)的、凹面的或凸面的發(fā)射窗口的示例，該發(fā) 射窗口被過(guò)壓環(huán)形系統(tǒng)圍繞，其中過(guò)壓環(huán)形系統(tǒng)相對(duì)于發(fā)射窗口和 處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；以及
圖18B示出了處于傾斜位置的圖18A的布置。
具體實(shí)施例方式
貫穿附圖，相同或者類(lèi)似的參考標(biāo)號(hào)用于表示相同或者類(lèi)似的 組件，并且對(duì)這些組件中的至少一些僅解釋一次，以免重復(fù)。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第一實(shí)施方式的示意性框
圖，其中該設(shè)備包括主要器件36和與其連接的處理頭部34。主要器 件36包括電磁輻射源14，其包括電磁輻射生成裝置30和電f茲輻射 傳導(dǎo)裝置32。電磁輻射生成裝置30可以包括激光器、閃光燈、LED、 氣體放電燈或者白熾燈。然而，如果電磁輻射生成裝置30位于主要 器件36中，則優(yōu)選地，激光器生成輻射。電磁輻射源14進(jìn)一步包 括輻射傳導(dǎo)裝置32,其在圖1中示出為光纖，但是還可以包括鏡或 者中空電磁輻射導(dǎo)管和/或輻射傳導(dǎo)晶體，尤其是包括全內(nèi)反射的晶 體。光纖32將電磁輻射傳導(dǎo)到位于處理頭部34中的發(fā)射窗口 16。 主要器件36進(jìn)一步包括用于產(chǎn)生過(guò)壓的裝置22，其中裝置22可以 例如由合適的泵來(lái)形成，如圖所示。泵22通過(guò)壓力管線44連接到 設(shè)置在處理頭部34的皮膚接觸區(qū)域中的凹口 18。在處理頭部34中 還i殳置有壓力計(jì)20,用于4僉測(cè)凹口 18內(nèi)部的壓力。電^茲輻射源14 以及泵22通過(guò)控制裝置24來(lái)控制，該控制裝置經(jīng)由電線46接收壓 力計(jì)20的輸出信號(hào)。如圖所示，控制裝置24位于主要器件36內(nèi)， 并且控制裝置24可以例如包括微處理器、存儲(chǔ)器裝置以及本領(lǐng)域技
術(shù)人員所周知的其他電。
設(shè)備10可以例如是脫毛設(shè)備。為了防止由電磁輻射源14生成 的以及由發(fā)射窗口 16發(fā)射的電磁輻射到達(dá)例如使用者的眼睛區(qū)域， 設(shè)備10如下工作。如果處理頭部34與待處理的皮膚適當(dāng)?shù)亟佑|， 則在凹口 18中建立過(guò)壓，該凹口由完全圍繞發(fā)射窗口 16的凹槽形 成。該過(guò)壓由壓力計(jì)20檢測(cè)，該壓力計(jì)將它的輸出信號(hào)饋送到控制 裝置24。如果控制裝置24檢測(cè)到過(guò)壓足夠高，則假定處理頭部34 與待處理的皮膚適當(dāng)接觸并且控制裝置24指示電磁輻射生成裝置 30生成輻射，該輻射將經(jīng)由光纖32和發(fā)射窗口 16饋送到待處理的 皮膚。如果由于處理頭部34與待處理的皮膚不適當(dāng)?shù)亟佑|，凹口 18
中的過(guò)壓降低，則控制裝置24通過(guò)壓力計(jì)20的輸出信號(hào)檢測(cè)到壓
力的下降。為了避免使用者(或任何其他人)被輻射傷害，控制裝
置24立即指示電磁輻射發(fā)射生成裝置30停止生成輻射。在處理頭 部34與待處理的皮膚適當(dāng)接觸的情況下，產(chǎn)生空氣墊，處理頭部34 的皮膚接觸區(qū)域可以在操作期間在該空氣墊上滑動(dòng)。進(jìn)一步，過(guò)壓 具有防止開(kāi)孔或者多個(gè)開(kāi)孔阻塞的優(yōu)勢(shì)。 一旦存在污垢或者任何種 類(lèi)的污染物，少量空氣從該開(kāi)孔流出以助于吹走這些污染物，如來(lái) 自組織(表皮)的皮膚鱗片、灰塵或者類(lèi)似物質(zhì)。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第二實(shí)施方式的示意性框 圖。圖2所示的組件基本上對(duì)應(yīng)于參考圖1所討論的組件，以及為 了避免重復(fù)，參考相應(yīng)的描述。然而，對(duì)于圖2中所示的實(shí)施方式， 設(shè)備10完全由機(jī)頭形成，并且因此，所有組件布置在機(jī)頭內(nèi)。除了 參考圖1所討論的組件之外，圖2的實(shí)施方式進(jìn)一步包括擋板26， 其適合用于覆蓋發(fā)射窗口 16使得沒(méi)有輻射發(fā)射出，即使由電磁輻射 源14生成輻射也是如此。如果由于皮膚接觸區(qū)域與待處理的皮膚不 適當(dāng)?shù)亟佑|，檢測(cè)出圍繞發(fā)射窗口 16的凹口 18中的不足過(guò)壓，則 擋板26由控制裝置24啟動(dòng)。
圖3A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第三實(shí)施方式的處理頭部 34的一部分的示意性框圖，其中發(fā)射窗口 16相對(duì)于圍繞材料48凹 進(jìn)，以及圖3B示出了皮膚42處理期間圖3A的處理頭部34的該部 分。在發(fā)出輻射的透明發(fā)射窗口 16和待處理的皮膚42之間，存在 形成凹口 18的幾毫米的確定距離。圍繞材料48是反射性的或者至 少是不透明的，或者其包括散射光的材料(如皮膚)。目的是不損 失從皮膚反射回到周?chē)牧?8的輻射。如圖3B所示，在處理期間 該結(jié)構(gòu)被按壓到皮膚42上。在發(fā)射窗口 16和皮膚42之間形成凹口 18的空腔。泵22在凹口 18中產(chǎn)生過(guò)壓，這與上文針對(duì)凹槽形式的 凹口 18所描述的類(lèi)似。如果圍繞發(fā)射窗口 16的圍繞材料18的邊緣 按壓得正好適合于皮膚42，則凹口 18中的壓力可以提高到規(guī)定水 平，其必須高于裝置周?chē)捎玫目諝鈮毫?，如上文所述。關(guān)于該結(jié)
構(gòu)的安全功能，參考結(jié)合圖1的相應(yīng)描述。
圖4A示出了#4居本發(fā)明的設(shè)備的第四實(shí)施方式的處理頭部的
底視圖，以及圖4B示出了圖4A的處理頭部的一部分的截面圖。如 圖所示，在這個(gè)實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括矩形幾何形狀。發(fā) 射窗口 16被凹槽形式的凹口 18所圍繞。凹槽18連4妄到壓力計(jì)20 和泵22，如參考圖1所描述的那樣。如圖4B所示，發(fā)射窗口和圍 繞材料48形成公共皮膚接觸平面。圍繞材料48形成周?chē)吘?8, 其可以柔性地形成以便加強(qiáng)封頂(ceiling)功能。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第五實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖。在這個(gè)實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括圓形幾何形狀。除此 之外，該配置對(duì)應(yīng)于圖4A和圖4B的實(shí)施方式。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第六實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖。在此實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括基本上為矩形的幾何形 狀；然而，拐角和凹槽是圓形的。除此之外，該配置對(duì)應(yīng)于圖4A和 圖4B的實(shí)施方式。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第七實(shí)施方式的處理頭部的截 面圖。在此實(shí)施方式中，凹口或者凹槽18并不單獨(dú)地形成，而是部 分地由發(fā)射窗口 16和圍繞材料48的傾斜邊緣而形成。在這種布置 中，有利的是在發(fā)射窗口 16和圍繞材料48之間提供適合的密封50。
圖8A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第八實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖，以及圖8B示出了圖8A的處理頭部的一部分的截面圖。在 此實(shí)施方式中，凹口 18至少部分地形成在發(fā)射窗口 16的皮膚接觸 區(qū)域中。如圖所示，設(shè)置有曲折狀的凹槽18，其連接到壓力計(jì)20 和泵22。這樣，過(guò)壓空氣在表面上流動(dòng)并且冷卻所處理的皮膚。
圖9示意性地示出了將空氣饋送到凹口 18的可能方案。如圖所 示，凹口 18以具有矩形截面的凹槽形式設(shè)置?？梢哉J(rèn)為輸送管52 是過(guò)壓生成裝置22的一部分，將輸送管52設(shè)置為將空氣饋送進(jìn)凹 口 18。類(lèi)似的輸送管可以設(shè)置在凹槽的另一端上，以4更連接凹口 18 和壓力計(jì)。
圖10示意性地示出了形成凹口或者作為凹口 一部分的凹槽的優(yōu) 選幾何形狀。截面，即凹槽的寬度和深度之間的關(guān)系，是非常重要 的。如果在皮膚接觸區(qū)域處凹槽的寬度小于深度，則可以獲得最佳
結(jié)果。如果凹槽18的寬度是例如不大于3 mm,則即使非常用力地 對(duì)著器件按壓皮膚，皮膚也不能接觸到凹槽18的內(nèi)側(cè)，反之亦然。
圖11示出了由不利的凹槽幾何形狀所導(dǎo)致的不期望的皮膚凸起 效應(yīng)。如圖所示，如果凹槽18不夠深，則皮膚可能接觸到凹槽的內(nèi) 側(cè)，并且在更壞的情況下，皮膚可能使得通向壓力計(jì)的輸送管被密 封，由此安全功能可能失效。
圖12示出了由有利的凹槽幾何形狀所導(dǎo)致的減輕的皮膚凸起效 應(yīng)。如圖所示，皮膚凸起仍然會(huì)發(fā)生，但是皮膚不能接觸到凹槽的 內(nèi)側(cè)，因?yàn)榘疾鄣纳疃却笥谄鋵挾取?br> 圖13示出了形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的可能的截面 的例子。接下來(lái)從左至右示出凹槽18的截面矩形、正方形、半圓 形、三角形以及圓三角形。所有這些幾何形狀都可以被使用，然而 仍?xún)?yōu)選凹槽18的寬度小于其深度。
圖14A示出了具有三角形截面的凹槽連同與凹槽18相關(guān)聯(lián)的過(guò) 壓饋送輸送管52,以及圖14B至圖14D是對(duì)應(yīng)于圖14A的剖面線 A-A、 B-B和C-C的截面視圖。如圖14A和圖14B所示，優(yōu)選地用 于饋送加壓的空氣的輸送管52位于中央。優(yōu)選地，避免輸送管52 被皮膚凸起所阻塞。
圖15示意性地示出了相鄰凹槽18的可能布置。其示出了三個(gè) 相鄰凹槽18，每個(gè)均具有三角形截面和用于饋送加壓的空氣的中央 輸送管52。凹槽18重疊并且相對(duì)于皮膚42的密封功能由周?chē)吘?28提供。
圖16示出了凸透鏡形式的發(fā)射窗口 16,其中過(guò)壓系統(tǒng)38布置 為相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部34的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。如果 其中可以集成光學(xué)系統(tǒng)和/或過(guò)壓泵的機(jī)頭或者處理頭部34是相對(duì) 于皮膚42樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的或者處理的，則包括凹槽18和凸透鏡的過(guò)壓 系統(tǒng)38 —直與皮膚42相接觸。這在以下情況中是有利的如果過(guò) 壓系統(tǒng)38是由彈簧組40所彈性承載的，以便獲得過(guò)壓系統(tǒng)38和皮 膚42之間的最佳4妄觸。
圖17示出了象散/柱面透鏡形式的發(fā)射窗口 16,其中過(guò)壓系統(tǒng) 38布置為相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部的其#^且件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，以 及圖17B示出了處于傾斜位置的圖17A的布置。除了透鏡配置和沒(méi) 有彈簧之外，圖17A和圖17B的實(shí)施方式類(lèi)似于圖16的實(shí)施方式。
圖18A示出了由過(guò)壓環(huán)形系統(tǒng)38所圍繞的凹進(jìn)的、凹面的或者 凸面的發(fā)射窗口 16的例子，其中過(guò)壓環(huán)形系統(tǒng)38相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部34的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，以及圖18B示
出了處于 傾斜位置的圖18A的布置。圖18A和圖18B中所示的實(shí)施方式的配 置非常類(lèi)似于圖16中所示的配置。然而，根據(jù)圖18A和圖18B的 實(shí)施方式，機(jī)頭包括加散熱器54以便消散由電磁輻射源14所生成 的熱。進(jìn)一步，在所示的實(shí)施方式中，優(yōu)選地在發(fā)射窗口 16的多個(gè) 部分上提供有AR涂層。在這種實(shí)施方式中，輻射通過(guò)發(fā)射窗口 16 而沒(méi)有損失，其與過(guò)壓系統(tǒng)18和發(fā)射窗口 16之間的夾角無(wú)關(guān)。光 單元安裝為圍繞發(fā)射窗口 16的中心軸可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。盡管未示出，過(guò) 壓系統(tǒng)可以是彈簧承載的，如結(jié)合圖16所述的。
在不偏離在權(quán)利要求書(shū)中所限定的本發(fā)明的范圍的前提下，還 可以采用上文未描述的等效和修改。
權(quán)利要求
1.一種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)，包括電磁輻射源(14)，發(fā)射窗口(16)，其光學(xué)地連接到所述電磁輻射源(14)并且能夠發(fā)射電磁輻射，至少一個(gè)凹口(18)，設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中，以及壓力計(jì)(20)，用于測(cè)量所述凹口(18)內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力，所述設(shè)備的特征在于包括用于在所述凹口(18)內(nèi)部產(chǎn)生過(guò)壓的裝置(22)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中控制裝置(24)連 接到所述壓力計(jì)(20)并且連接到所述電磁輻射源(14),以及其 中當(dāng)由所述壓力計(jì)(20)所測(cè)量的壓力低于預(yù)定閾值時(shí)，所述控制 裝置(24)能夠防止所述電磁輻射源(14)和/或所述發(fā)射窗口 ( 16) 發(fā)射電磁輻射。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10),其中所述閾值高于周?chē)?壓力1 mbar至500 mbar。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10)，其中在所測(cè)量的所述凹 口 ( 18)內(nèi)部的壓力低于所述閾值的時(shí)間段期間，所述控制裝置(24) 防止所述電磁輻射源和/或所述發(fā)射窗口 (16)發(fā)射高于預(yù)定最大能 量的電磁輻射。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10),其中所述控制裝置(24) 控制擋板(26),其能夠防止所述電磁輻射的發(fā)射。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述發(fā)射窗口 (16) 提供在所述凹口 (18)中。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)圍 繞所述發(fā)射窗口 ( 16)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10)，其中所述凹口 (18)包括周?chē)吘?28)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(10)，其中所述周?chē)吘?28) 是柔性可變形的。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(10),其中所述周?chē)吘?28) 位于平面表面上、凹面表面上或者凸面表面上。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述至少一個(gè)凹口 (18)是由凹槽形成的，所述凹槽的深度大于所述凹槽的寬度。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)至 少部分地在所述發(fā)射窗口 (16)中形成。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)在 所述設(shè)備(10)的處理頭部(34)中形成，以及其中所述凹口 (18) 的至少一部分布置為相對(duì)于所述處理頭部(34)的其他組件可樞軸 轉(zhuǎn)動(dòng)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10)，其中設(shè)置有至少兩個(gè)過(guò) 壓輸送管(52),用于在所述至少一個(gè)凹口 (18)中產(chǎn)生過(guò)壓。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)，包括電磁輻射源(14)、光學(xué)地連接到電磁輻射源(14)并且能夠發(fā)射電磁輻射的發(fā)射窗口(16)、至少一個(gè)設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中的凹口(18)、以及用于測(cè)量凹口(18)內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力的壓力計(jì)(20)。根據(jù)本發(fā)明，用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)包括用于在凹口(18)內(nèi)部產(chǎn)生過(guò)壓的裝置(22)。
文檔編號(hào)A61B18/20GK101198289SQ200580050104
公開(kāi)日2008年6月11日 申請(qǐng)日期2005年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月13日
發(fā)明者H·羅伯特, R·弗特納 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司