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      一種凈化裝置制造方法

      文檔序號:1256672閱讀:145來源:國知局
      一種凈化裝置制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供了一種凈化裝置,所述裝置包括水觸媒發(fā)生裝置、清洗水槽、超聲波換能器和水泵,其特征在于所述水觸媒發(fā)生裝置的電極為鈦合金電極,其上涂覆納米級粒徑的錳、鈷、鉑、鈰、釓、銪、金和銻組成的經(jīng)100—120℃下烘干、400~680℃下燒結制備的1~2微米厚的復合層;所述電極基材為鈦合金,按質量份計,含Al:8.0~8.5;Sn:5.6~5.7;Cr:5.6~5.7;Mo:5.6~5.7;Zr:5.6~5.7;Fe:0.29~0.32;C:0.08~0.15;O:0.11~0.25;N:0.004~0.1;H:0.0015~0.025;Si:0.1~0.25,其余為鈦和不可避免的雜質。
      【專利說明】
      【技術領域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種凈化裝置,具體講涉及一種可用于生鮮食品、水、餐具、衣物的凈 化裝置。 一種凈化裝置

      【背景技術】
      [0002] 食品安全關系到廣大人民群眾的身體健康和生命安全,關系到經(jīng)濟健康發(fā)展和社 會穩(wěn)定,食品安全已成為衡量人民生活質量、社會管理水平和國家法制建設的一個重要方 面。目前我國食品安全狀況并不樂觀,長期以來存在的細菌、病毒、寄生蟲等微生物污染,農(nóng) 藥、激素、抗生素等化學污染物給食品帶來了巨大的安全隱患,食源性疾病仍是人類面臨的 最大健康殺手。同時,與飲食密切相關的餐具的消毒衛(wèi)生問題也是較大的安全隱患,目前由 于部分消毒企業(yè)的自律性差,消毒工藝簡單,不符合要求,導致消毒餐具不衛(wèi)生的狀況時有 發(fā)生,導致餐具表面成為細菌滋生的溫床,給消費者的健康生命帶來威脅。
      [0003] 由于食品污染環(huán)節(jié)眾多,源頭治理難度較大,僅僅依靠強有力的政府監(jiān)管和職能 部門檢測,還不能在短時間內(nèi)徹底解決食品的污染問題,因此,食品凈化消毒成為緩解食品 安全壓力、減少食物中毒風險、保障人民群眾飲食安全的必要手段。
      [0004] 目前,還沒有一種安全高效、使用方便的凈化消毒裝置,能夠對生鮮食品、水、餐具 及衣物進行處理,現(xiàn)有的技術多是利用臭氧或含氯化學試劑進行處理,其缺陷是臭氧溶解 度較低,使用過程中會大量擴散到空氣中,對鼻和喉頭粘膜和眼睛有刺激作用,還會引起肺 活量減小,對人體造成傷害;而采用含氯化學試劑會造成含有致癌性反應產(chǎn)物的殘留。
      [0005] 200320121904號實用新型專利公開了一種供水裝置,該裝置包括一個供水管,一 個連接在所述供水管上的電解裝置。所述的電解裝置包括一具有陰極室和陽極室的隔膜式 電解槽,所述的電解槽具有連接于電解槽的陰極室、通向洗滌桶上方的第一排水通道,所述 電解槽具有連接于陽極室的第二排水通道,所述的第二排水通道連接于洗滌桶的排水管路 上。
      [0006] 200810147230. 5專利申請說明書公開了一種食品凈化裝置,該裝置包括清洗水 槽和水泵,水觸媒發(fā)生裝置,所述水觸媒發(fā)生裝置、清洗水槽和水泵都設置有進水口和出水 口,水觸媒發(fā)生裝置、清洗水槽和水泵通過管道連接成閉合循環(huán)回路。
      [0007] 201110271764. 0號發(fā)明專利申請說明書公開了一種水觸媒殺菌解毒裝置,該裝置 包括水觸媒發(fā)生器(1)和為水觸媒發(fā)生器(1)進行供電的直流電源,所述水觸媒發(fā)生器(1) 包括兩個相配合使用的電極,且兩個所述電極為分別與所述直流電源的正負輸出端相接的 陽極電極和陰極電極;所述陽極電極和所述陰極電極均為鈦電極,且所述陽極電極的外表 面上均勻涂覆有一層復合材料涂層;所述復合材料涂層為對涂刷在所述陽極電極外表面上 的復合材料涂液進行烘干處理及燒結處理后獲得的涂層,復合材料涂液為由六種粉劑和無 水乙醇均勻混合而成且質量濃度為2. 5%?4%的混合液,六種所述粉劑分別為鉬粉或鉬 的化合物粉末、銥粉或銥的化合物粉末、釔粉或釔的化合物粉末、釕粉或釕的化合物粉末、 鈮粉或鈮的化合物粉末和鉭粉或鉭的化合物粉末。
      [0008] 本發(fā)明人長期研究、分析了上述已有技術中的報道,還仔細分析、認真研究了專利 文獻中記載的:"一種結構簡單、設計合理、使用操作簡便凈化處理效果好的水觸媒殺菌解 毒裝置"、"所述的電解裝置包括一具有陰極室和陽極室的隔膜式電解槽"的裝置,該裝置 "能夠實現(xiàn)在洗滌時,向洗滌桶捉供堿性水;而在漂洗時,向洗滌桶提供酸性水;其進一步可 以在提供堿性水同時,提供改善洗滌效果的改質液";"如何將羥基自由基的凈化、消毒、殺 菌功能應用到食品凈化領域中來,克服現(xiàn)有技術耗水量大、凈化不徹底、不節(jié)能環(huán)保的技術 缺陷,實現(xiàn)食品凈化方便、省力、高效、節(jié)水、干凈、徹底"。本發(fā)明人在上述基礎上發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有 的有資料、專利文獻未見其具體的處理效果,這些事實說明水觸媒殺菌解毒裝置離人們期 盼的"凈化方便、省力、高效、節(jié)水、干凈、徹底"的目的還有一定距離,仍存在著一些尚需改 進的缺陷,方可將其成為一種安全可靠的殺菌解毒裝置。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0009] 本發(fā)明就是針對上述缺陷提出的一種安全穩(wěn)定、凈化效果優(yōu)異,節(jié)能節(jié)水更好的 凈化裝置。
      [0010] 為實現(xiàn)本發(fā)明的發(fā)明目的,本發(fā)明提供的凈化裝置中,所述裝置包括水觸媒發(fā)生 裝置、清洗水槽、超聲波換能器和水泵,其改進之處在于所述水觸媒發(fā)生裝置的電極為鈦合 金電極,其上涂覆納米級粒徑的錳、鈷、鉬、鈰、釓、銪、金和銻組成的經(jīng)100- 120°c下烘干、 400?680°C下燒結制備的1?2微米厚的復合層;所述電極基材為鈦合金,按質量份計,含 Al :8· 0 ?8. 5 ;Sn :5· 6 ?5. 7 ;Cr :5· 6 ?5. 7 ;Mo :5· 6 ?5. 7 ;Zr :5· 6 ?5. 7 ;Fe :0· 29 ? 0· 32 ;C :0· 08 ?0· 15 ;0 :0· 11 ?0· 25 ;N :0· 004 ?0· 1 ;H :0· 0015 ?0· 025 ;Si :0· 1 ? 0. 25,其余為鈦和不可避免的雜質。
      [0011] 本發(fā)明提供的優(yōu)選的凈化裝置中,所述復合層中:錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質 量比=3?6 :15?30 :5?15 :9?17 :2?8 :3?12 :1?7 :2?10,粒徑為5?30nm ; 所述鈦合金含 Al :8. 1 ?8. 4 ;Sn :5. 6 ;Cr :5. 6。
      [0012] 本發(fā)明提供的第三優(yōu)選的凈化裝置中,所述復合層中:錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金: 銻質量比=3?6 :15?29 :6?15 :9?15 :2?7 :3?11 :1?6 :2?9,粒徑為5?30nm ; 所述鈦合金含 Mo :5. 6 ;Zr :5. 6 ;Fe :0· 3 ?(λ 32。
      [0013] 本發(fā)明提供的第四優(yōu)選的凈化裝置中,所述復合層中:錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金: 銻質量比=3?5 :17?29 :7?15 :10?15 :3?7 :4?11 :2?6 :3?9,粒徑為5? 30nm ;所述鈦合金含 C :0· 1 ?0· 13 ;0 :0· 18 ?0· 22 ;Ν :0· 009 ?0· 1。
      [0014] 本發(fā)明提供的第五優(yōu)選的凈化裝置中,燒結溫度為400?450°C,所述復合層中: 錳:鈷:鉬:鈰:禮:銪:金:銻質量比=3?5 :19?29 :8?15 :11?15 :4?7 :4?10 :2? 5 :3?8,粒徑為5?30nm ;所述鈦合金含Η :0· 0023?0· 023 ;Si :0· 17?0· 21。
      [0015] 本發(fā)明提供的第六優(yōu)選的凈化裝置中,所述復合層中:錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金: 銻質量比=3?5 :19?27 :8?13 :11?14 :4?6 :4?9 :2?4 :3?6,粒徑為5?30nm ; 所述鈦合金含 Al :8. 2 ?8. 4 ;Sn :5. 7 ;Cr :5. 7 ;Mo :5. 7 ;Zr :5. 6。
      [0016] 本發(fā)明提供的第七優(yōu)選的凈化裝置中,所述復合層中:錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金: 銻質量比=3?5 :19?25 :8?11 :11?13 :4?6 :4?7 :2?4 :3?5,粒徑為5?30nm ; 所述鈦合金含 Fe :0· 3 ?0· 32 ;C :0· 1 ?0· 14 ;0 :0· 15 ?0· 21 ;N :0· 009 ?0· 1 ;Si :0· 17 ? 0. 22〇
      [0017] 本發(fā)明提供的第八優(yōu)選的凈化裝置中,超聲波換能器包括發(fā)射頭、絕緣墊片、壓電 薄片、質量片和電極;所說發(fā)射頭、絕緣墊片、壓電薄片和質量片依次設置在同一軸線上; 所述電極是由金屬Ag制備的電極;所述壓電薄片為30 μ m厚的聚乙炔和帶晶胞的聚二炔; 所述復合層中:猛:鉆:銷:鋪:禮:錯:金:鋪質量比=4 :20 :9 :12 :5 :6 :3 :4,粒徑為5? 30nm ;所述鈦合金含 A1 :8· 2 ?8. 4 ;Sn :5. 6 ;Cr :5. 6 ;Fe :0· 29 ?0· 32 ;C :0· 12 ?0· 15 ;0 : 0· 17 ?0· 21 ;Si :0· 16 ?0· 22。
      [0018] 本發(fā)明提供的第九優(yōu)選的凈化裝置中,絕緣墊片分別位于所述發(fā)射頭和質量片內(nèi) 端的數(shù)目為兩個的絕緣片,其內(nèi)端設有向左或右轉10?90度的軸向剖面為凹字型且其左 右突出部分別位于所述壓電薄片間的、其底端到圓心的半徑大于所述絕緣片的半徑的第一 電極片;位于所述凹字型電極片的內(nèi)側軸向依次設置壓電材料片、直徑大于所述壓電材料 片的第二電極片和壓電材料片。
      [0019] 與現(xiàn)有技術比,本發(fā)明的有益效果為:
      [0020] A(mg/kg) =洗滌前的蔬菜或水果農(nóng)藥量;B=mg/kg(洗滌后的蔬菜或水果農(nóng)藥量), 經(jīng)檢測此量均低于蔬菜、水果農(nóng)藥殘留新標準。
      [0021]

      【權利要求】
      1. 一種凈化裝置,所述裝置包括水觸媒發(fā)生裝置、清洗水槽、超聲波換能器和水泵,其 特征在于所述水觸媒發(fā)生裝置的電極為鈦合金電極,其上涂覆納米級粒徑的錳、鈷、鉬、鈰、 釓、銪、金和銻組成的經(jīng)100- 120°c下烘干、400?680°C下燒結制備的1?2微米厚的復 合層;所述電極基材為鈦合金,按質量份計,含A1 :8. 0?8. 5 ;Sn :5. 6?5. 7 ;Cr :5. 6? 5. 7 ;Mo :5· 6 ?5. 7 ;Zr :5· 6 ?5. 7 ;Fe :0· 29 ?0· 32 ;C :0· 08 ?0· 15 ;0 :0· 11 ?0· 25 ;N : 0. 004?0. 1 ;H :0. 0015?0. 025 ;Si :0. 1?0. 25,其余為鈦和不可避免的雜質。
      2. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質量比 =3?6 :15?30 :5?15 :9?17 :2?8 :3?12 :1?7 :2?10,粒徑為5?30nm ;所述鈦 合金含 A1 :8. 1 ?8. 4 ;Sn :5. 6 ;Cr :5· 6。
      3. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質量比 =3?6 :15?29 :6?15 :9?15 :2?7 :3?11 :1?6 :2?9,粒徑為5?30nm ;所述鈦 合金含 Mo :5. 6 ;Zr :5. 6 ;Fe :0· 3 ?0· 32。
      4. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質量比 =3?5 :17?29 :7?15 :10?15 :3?7 :4?11 :2?6 :3?9,粒徑為5?30nm ;所述鈦 合金含 C :0· 1 ?0· 13 ;0 :0· 18 ?0· 22 ;N :0· 009 ?0· 1。
      5. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述燒結溫度為400?450°C,所述錳:鈷: 鉬:鈰:禮:銪:金:銻質量比=3?5 :19?29 :8?15 :11?15 :4?7 :4?10 :2?5 :3? 8,粒徑為5?30nm ;所述鈦合金含Η :0· 0023?0· 023 ;Si :0· 17?0· 21。
      6. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質量比 =3?5 :19?27 :8?13 :11?14 :4?6 :4?9 :2?4 :3?6,粒徑為5?30nm ;所述鈦 合金含 A1 :8· 2 ?8. 4 ;Sn :5. 7 ;Cr :5. 7 ;M。:5. 7 ;Zr :5· 6。
      7. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述錳:鈷:鉬:鈰:釓:銪:金:銻質量比 =3?5 :19?25 :8?11 :11?13 :4?6 :4?7 :2?4 :3?5,粒徑為5?30nm ;所述鈦 合金含 Fe :0· 3 ?0· 32 ;C :0· 1 ?0· 14 ;0 :0· 15 ?0· 21 ;N :0· 009 ?0· 1 ;Si :0· 17 ?0· 22。
      8. 根據(jù)權利要求1的凈化裝置,其特征在于所述超聲波換能器包括發(fā)射頭、絕緣墊片、 壓電薄片、質量片和電極;所說發(fā)射頭、絕緣墊片、壓電薄片和質量片依次設置在同一軸線 上;所述電極是由金屬Ag制備的電極;所述壓電薄片為30 μ m厚的聚乙炔和帶晶胞的聚二 塊;所述猛:鉆:銷:鋪:禮:錯:金:鋪質量比=4 :20 :9 :12 :5 :6 :3 :4,粒徑為5?30nm ;所 述鈦合金含 A1 :8· 2 ?8. 4 ;Sn :5. 6 ;Cr :5. 6 ;Fe :0· 29 ?0· 32 ;C :0· 12 ?0· 15 ;0 :0· 17 ? 0· 21 ;Si :0· 16 ?0· 22。
      9. 根據(jù)權利要求8的凈化裝置,其特征在于所述絕緣墊片分別位于所述發(fā)射頭和質量 片內(nèi)端的數(shù)目為兩個的絕緣片,其內(nèi)端設有向左或右轉10?90度的軸向剖面為凹字型且 其左右突出部分別位于所述壓電薄片間的、其底端到圓心的半徑大于所述絕緣片的半徑的 第一電極片;位于所述凹字型電極片的內(nèi)側軸向依次設置壓電材料片、直徑大于所述壓電 材料片的第二電極片和壓電材料片。
      【文檔編號】A61L2/18GK104054988SQ201310290290
      【公開日】2014年9月24日 申請日期:2013年7月11日 優(yōu)先權日:2013年3月21日
      【發(fā)明者】譚燕, 馮瑞芝, 曲玲玲 申請人:譚燕, 馮瑞芝
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