用于計(jì)算機(jī)x射線斷層掃描的x射線探測(cè)器系統(tǒng)和ct儀的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其具有至少一個(gè)探測(cè)器排，所述探測(cè)器排具有多個(gè)探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊分別具有多個(gè)探測(cè)器元件，其中，沿至少一個(gè)探測(cè)器排，第一部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第一柵格間距a1呈柵格狀布置，并且第二部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第二柵格間距a2呈柵格狀布置。
【專利說明】用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)和CT儀
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)和一種計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀(CT儀)，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有至少一個(gè)探測(cè)器排，所述探測(cè)器排具有多個(gè)探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊分別具有多個(gè)探測(cè)器元件，其中，沿所述至少一個(gè)探測(cè)器排，第一部分 探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第一柵格間距呈柵格狀布置，并且第二部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自的探測(cè)器元件的第二柵格間距呈柵格狀布置。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)代的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描成像中，為了改善圖像平面(沿β方向，其中，β是所謂的扇面角，例如參見圖1 ;扇面角表示探測(cè)器元件與中央射束12的角間距；所述中央射束是中央的X射線束，其連接所使用的X射線源的焦點(diǎn)10與所使用的X射線探測(cè)器11的探測(cè)器中點(diǎn))中的掃描，要么調(diào)節(jié)形成所謂的探測(cè)器四分之一錯(cuò)移，要么在X射線源中使用所謂的跳躍焦點(diǎn)技術(shù)(Springfokus-Technik)。在調(diào)節(jié)形成探測(cè)器四分之一錯(cuò)移時(shí)，X射線探測(cè)器和X射線源的焦點(diǎn)這樣相對(duì)彼此進(jìn)行調(diào)整，使得焦點(diǎn)的中央射束并不是準(zhǔn)確地照射到探測(cè)器中點(diǎn)內(nèi)并且準(zhǔn)確地照射在兩個(gè)探測(cè)器元件之間，而是與之錯(cuò)開X射線探測(cè)器的柵格的柵格間距(=相鄰探測(cè)器元件的中點(diǎn)之間的距離)的四分之一。中央射束相應(yīng)地也不延伸通過CT的旋轉(zhuǎn)中心，而是與之錯(cuò)開X射線探測(cè)器的探測(cè)器元件的投影到旋轉(zhuǎn)中心上的柵格間距a的四分之一。
[0003]四分之一錯(cuò)移的意義在于，使得直接的測(cè)量射束(扇面角β、投影角α )和在拍攝系統(tǒng)(X射線源和X射線探測(cè)器)約旋轉(zhuǎn)半圈之后得到的與所述直接的測(cè)量射束相補(bǔ)充或互補(bǔ)的測(cè)量射束彼此準(zhǔn)確地錯(cuò)開一半柵格間距，在補(bǔ)充的測(cè)量射束中X射線源和X射線探測(cè)器交換它們的位置(扇面角β丨=-β，投影角α ' =α + π+2β)。由此，直接的和補(bǔ)充的測(cè)量射束可以在重建時(shí)交織成“有效”掃描柵格為a/2的投影并且因此改善掃描效果。如果沒有調(diào)節(jié)形成四分之一錯(cuò)移，則補(bǔ)充的測(cè)量射束的位置落在直接的測(cè)量射束的位置上，并且有效的掃描柵格等于X射線探測(cè)器的柵格間距，從而沒有改善掃描。
[0004]作為備選，為了改善掃描，也可以在圖像平面內(nèi)使用所謂的跳躍焦點(diǎn)。通過電磁地使X射線源(X射束)中的焦點(diǎn)偏移，這樣在陽極盤上控制焦點(diǎn)的位置，從而在前后相續(xù)的投影之間形成一半柵格間距的位移。
[0005]使用跳躍焦點(diǎn)技術(shù)的前提條件是，X射線發(fā)射器配有相應(yīng)的電磁偏移裝置，其中，焦點(diǎn)的偏移需要與X射線探測(cè)器的讀取準(zhǔn)確地同步進(jìn)行。調(diào)節(jié)探測(cè)器的四分之一錯(cuò)移的前提條件是，X射線探測(cè)器和焦點(diǎn)在X射線發(fā)射器內(nèi)的位置必須能夠微調(diào)。為此，要么需要在X射線發(fā)射器內(nèi)具有將焦點(diǎn)向陽極盤上的期望位置移動(dòng)的電磁焦點(diǎn)偏移裝置，要么X射線發(fā)射器和X射線探測(cè)器需要是能夠機(jī)械微調(diào)的。這些解決方案都或多或少地較麻煩且貴。尤其是電磁焦點(diǎn)偏移(用于跳躍焦點(diǎn)或者也可只用于調(diào)節(jié)焦點(diǎn)位置)的前提條件是，X射線發(fā)射器配有相應(yīng)較復(fù)雜的偏移電子設(shè)備。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種可能性，在計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描中，在不對(duì)X射線探測(cè)器和焦點(diǎn)進(jìn)行機(jī)械微調(diào)或者使焦點(diǎn)在X射線源內(nèi)偏移的情況下也能夠在圖像平面內(nèi)實(shí)現(xiàn)改善的掃描效果。
[0007]該技術(shù)問題按本發(fā)明通過一種用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)和一種計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀(CT儀)解決。按照本發(fā)明的用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有至少一個(gè)探測(cè)器排，所述探測(cè)器排具有多個(gè)探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊分別具有多個(gè)探測(cè)器元件，其中，沿所述探測(cè)器排的縱向(即沿扇面角β的方向)，第一部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第一柵格間距呈柵格狀布置，并且第二部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第二柵格間距呈柵格狀布置。如果將按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)使用在計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描中，則能夠以簡(jiǎn)單的方式在不進(jìn)行調(diào)整或者偏移焦點(diǎn)的情況下實(shí)現(xiàn)改善的掃描效果。
[0008]與X射線源焦點(diǎn)在X射線探測(cè)器中點(diǎn)上的準(zhǔn)確位置無關(guān)(也就是與X射線探測(cè)器在探測(cè)器通道中的所謂“準(zhǔn)直”無關(guān))地，在所有情況下實(shí)現(xiàn)在平均上改善的掃描，其中，有效掃描柵格根據(jù)準(zhǔn)直情況而定最大等于最小的柵格間距并且在大多數(shù)情況下(準(zhǔn)直)甚至明顯更小。因此可以取消機(jī)械微調(diào)設(shè)備，并且X射線源也不需要復(fù)雜的偏移機(jī)構(gòu)。由此可在高質(zhì)量X射線成像的同時(shí)實(shí)現(xiàn)成本的降低，因?yàn)槿〈厥忾_發(fā)的X射線源可以使用“現(xiàn)成的”簡(jiǎn)單X射線源，并且取代可機(jī)械微調(diào)的X射線探測(cè)器可以使用固定安裝的X射線探測(cè)器。同樣不再需要相應(yīng)的控制和調(diào)解機(jī)構(gòu)。
[0009]按照本發(fā)明的一種設(shè)計(jì)方案，相對(duì)于β方向，交替地以連續(xù)的順序布置由至少兩個(gè)或多個(gè)探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的所述第一柵格間距排列構(gòu)成的組，以及由至少兩個(gè)或多個(gè)探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的所述第二柵格間距排列構(gòu)成的組。因此，例如可以分別設(shè)置十個(gè)以第一柵格間距布置的探測(cè)器元件和十個(gè)以第二柵格間距布置的探測(cè)器元件等。通過這種分布，可以與準(zhǔn)直無關(guān)地特別簡(jiǎn)單而有效地減小平均有效掃描柵格?！?br> [0010]按照本發(fā)明的另一種設(shè)計(jì)方案，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊只具有相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件以相同的柵格間距布置的探測(cè)器元件。由此使探測(cè)器模塊和整個(gè)X射線探測(cè)器的制造毫不費(fèi)力。
[0011]以有利的方式，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊具有以兩個(gè)不同的柵格間距布置的探測(cè)器元件。以此方式能夠特別簡(jiǎn)單地安裝X射線探測(cè)器。
[0012]按照本發(fā)明的另一種設(shè)計(jì)方案，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件以至少一個(gè)與所述第一和第二柵格間距不同的另一柵格間距布置的探測(cè)器元件。通過三個(gè)或多個(gè)不同的柵格間距，可以進(jìn)一步減小平均有效掃描柵格的大小并且因此進(jìn)一步改善掃描和成像。
[0013]按照本發(fā)明的另一種設(shè)計(jì)方案，所述按第一柵格間距排列的所有第一探測(cè)器元件分別并排地布置，并且所述按第二柵格間距排列的所有第二探測(cè)器元件分別并排地布置。由此，例如處于探測(cè)器排一側(cè)上的所有探測(cè)器元件均能以第一柵格間距布置，另一側(cè)上的探測(cè)器元件能以第二柵格間距布置。由此也可以減小有效掃描柵格。[0014]以有利的方式，對(duì)于所述兩個(gè)柵格間距適用:0.5.B1 ^ a2 ^ 0.99.，尤其適用a2=0.9.a”也可以存在其它大小比例。
[0015]按照本發(fā)明的另一種設(shè)計(jì)方案，所述探測(cè)器元件沿著所述至少一個(gè)探測(cè)器排尤其根據(jù)其各自的柵格間距具有不同的長(zhǎng)度(并且因此通常也具有不同的傳感器面)。由此，例如在柵格間距較大時(shí)，也可以使用具有比在柵格間距較小時(shí)相應(yīng)更大長(zhǎng)度的探測(cè)器元件。也可以使用兩種或者多種探測(cè)器元件長(zhǎng)度或者傳感器面尺寸。如果在柵格間距較大時(shí)使用相同長(zhǎng)度的探測(cè)器元件，則必須在探測(cè)器元件之間設(shè)置更大的間隙。
[0016]在使用不同長(zhǎng)度的探測(cè)器元件時(shí)有利的是，所述探測(cè)器元件的傳感器面設(shè)計(jì)為，使得待照射表面被傳感器面基本上均勻地或基本上尺寸一致地覆蓋。尤其值得期待的是，實(shí)現(xiàn)至少70%的覆蓋?！案采w”理解為傳感器面的面積與探測(cè)器元件的總面積之比。此比例明顯是小于100%的，因?yàn)槌藗鞲衅髅孢€必須在探測(cè)器元件上安裝開關(guān)元件。
[0017]本發(fā)明的范圍內(nèi)還提供一種具有按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀，其具有可旋轉(zhuǎn)的機(jī)架，其中，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)布置在機(jī)架中并且與X射線探測(cè)器系統(tǒng)相對(duì)地布置有X射線源。借助這種計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀可以在不進(jìn)行費(fèi)力調(diào)節(jié)的情況下以簡(jiǎn)單的方式實(shí)現(xiàn)改善的掃描并且由此實(shí)現(xiàn)改善的圖像分辨率。 【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]以下根據(jù)在附圖中示意性示出的實(shí)施例進(jìn)一步闡述本發(fā)明以及其它有利的設(shè)計(jì)方案，但本發(fā)明不局限于這些實(shí)施例。在附圖中:
[0019]圖1示出具有X射線源和X射線探測(cè)器的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀的幾何形狀的視圖；
[0020]圖2示出在已知的不具有錯(cuò)移或者不進(jìn)行調(diào)整的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描中有關(guān)在直接的測(cè)量射束與補(bǔ)充的測(cè)量射束之間的錯(cuò)移情況的視圖；
[0021]圖3示出在已知的具有四分之一錯(cuò)移的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀中在直接的測(cè)量射束與補(bǔ)充的測(cè)量射束之間的錯(cuò)移視圖；
[0022]圖4至圖6示出在將按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)用于不同的準(zhǔn)直時(shí)在直接的測(cè)量射束與補(bǔ)充的測(cè)量射束之間的錯(cuò)移視圖；
[0023]圖7示出按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)的探測(cè)器元件的布置并且
[0024]圖8示出按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)的探測(cè)器元件的另一布置。
【具體實(shí)施方式】
[0025]圖1示意性地示出已知的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀中的幾何結(jié)構(gòu)，其具有帶至少一個(gè)探測(cè)器排的X射線探測(cè)器11和帶焦點(diǎn)10的X射線源。X射線探測(cè)器11和X射線源相互對(duì)置地布置在計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀的未示出的機(jī)架內(nèi)并且可在圓形軌道14上圍繞等中心運(yùn)動(dòng)。X射線源發(fā)出X射線，其中，所謂的中央射束12基本上指向X射線探測(cè)器的中點(diǎn)。所謂的扇面角β表示探測(cè)器元件(像素元件)與中央射束12的角間距。在機(jī)架旋轉(zhuǎn)時(shí)，在不同的投影角α處拍攝多個(gè)投影圖像并且接著相應(yīng)地重建，例如重建為3D體積圖像。計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描圖像的一般拍攝和重建是已知的。
[0026]已知的X射線探測(cè)器11具有均勻的柵格，其確定了探測(cè)器元件的布置，也就是探測(cè)器元件的柵格間距(一個(gè)探測(cè)器元件的中點(diǎn)到最近的另一個(gè)探測(cè)器元件的中點(diǎn)的間距)是相同的。X射線探測(cè)器的柵格在此不理解為機(jī)械的柵格，而是一種呈柵格狀的布置方式。
[0027]如果X射線源的中央射束這樣定向，使得其精確地射到X射線探測(cè)器的中心(即準(zhǔn)確地落在兩個(gè)探測(cè)器元件之間)，則直接的測(cè)量射束與所謂補(bǔ)充的測(cè)量射束(在機(jī)架旋轉(zhuǎn)大約半圈之后，當(dāng)X射線探測(cè)器和焦點(diǎn)交換位置時(shí)的測(cè)量射束)落在相同位置上，并且產(chǎn)生了相當(dāng)于X射線探測(cè)器的柵格的有效掃描柵格。在圖2中示出了直接測(cè)量射束D和補(bǔ)充測(cè)量射束K與扇面角β有關(guān)的位置。
[0028]為了改善掃描，在這些情況下調(diào)節(jié)形成所謂的探測(cè)器四分之一錯(cuò)移，這表示在X射線探測(cè)器和焦點(diǎn)之間進(jìn)行機(jī)械微調(diào)，使得中央射束與X射線探測(cè)器的中心偏離(探測(cè)器)柵格的四分之一。通過這種調(diào)整改善了掃描，因?yàn)槿鐖D3所示，直接測(cè)量射束D與補(bǔ)充測(cè)量射束K彼此錯(cuò)移半個(gè)柵格間距地到達(dá)。當(dāng)a為柵格間距時(shí)，這種結(jié)構(gòu)的有效掃描柵格為a/2。然而實(shí)現(xiàn)這種微調(diào)的設(shè)備非常復(fù)雜且貴。
[0029]按照本發(fā)明的用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀的X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有至少兩組探測(cè)器元件，這兩組的區(qū)別在于它們沿扇面角β的方向具有不同的柵格間距；即X射線探測(cè)器沿其至少一個(gè)探測(cè)器排具有至少兩個(gè)不同的(探測(cè)器)柵格。為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，例如通過柵格連續(xù)地交替變化，可以存在多個(gè)不同的設(shè)計(jì)方案。通過本發(fā)明，與X射線源焦點(diǎn)相對(duì)于探測(cè)器中心的位置的錯(cuò)移(如四分之一錯(cuò)移)無關(guān)地在所有情況下實(shí)現(xiàn)在平均上改善的掃描，其中有效的掃描柵格最大等于最小的柵格間距。在一些準(zhǔn)直時(shí)，有效的掃描柵格甚至明顯更小。
[0030]在圖7和圖8中，只局部地示出了按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)的探測(cè)器排，其沿β方向具有間隔第一柵格間距B1的第一探測(cè)器元件13.1和間隔第二柵格間距a2的第二探測(cè)器元件a2。在兩種情況下，間隔第一柵格間距B1的由多個(gè)第一探測(cè)器元件13.1構(gòu)成的組分別與間隔第二柵格間距a2的由多個(gè)第二探測(cè)器元件13.2構(gòu)成的組交替排列。所述各組分別具有至少兩個(gè)，例如五個(gè)(如圖所示)、十個(gè)或者十五個(gè)探測(cè)元件。在X射線探測(cè)器系統(tǒng)內(nèi)，沿至少一個(gè)探測(cè)器排(從探測(cè)器排的開始端至結(jié)束端共計(jì))具有例如一系列十個(gè)相隔第一柵格間距的第一探測(cè)器元件，隨之是十個(gè)相隔第二柵格間距的第二探測(cè)器元件，然后又是十個(gè)第一探測(cè)器元件等。
[0031]彼此不同的柵格間距同樣能夠以不同方式實(shí)現(xiàn)。在圖7中，探測(cè)器元件沿扇面角β的方向大小相同，但相鄰探測(cè)器元件之間以更大的間隙布置。在圖8中，第二探測(cè)器元件13.2沿扇面角β的方向具有比第一探測(cè)器元件13.1更大的長(zhǎng)度。所有探測(cè)器元件的寬度(即垂直于探測(cè)器排的縱向)可以是相同的。
[0032]例如，X射線探測(cè)器系統(tǒng)的探測(cè)器排通常這樣構(gòu)造，使得分別具有例如16或者20個(gè)探測(cè)器元件的探測(cè)器模塊沿β方向依次排列。為了實(shí)現(xiàn)按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器可以規(guī)定，使用這樣的探測(cè)器模塊，其探測(cè)器元件具有兩種(或者更多種)不同的柵格間距。因此，例如可以在具有20個(gè)探測(cè)器元件的探測(cè)器模塊上分別布置10個(gè)第一探測(cè)器元件和10個(gè)第二探測(cè)器元件。探測(cè)器模塊以適當(dāng)順序依次排列，因此例如產(chǎn)生了分別由10個(gè)第一探測(cè)器元件和10個(gè)第二探測(cè)器元件構(gòu)成的連續(xù)的順序。朝X射線探測(cè)器的中心定向的中央射束從焦點(diǎn)出發(fā)大約在不同柵格間距的兩個(gè)探測(cè)器模塊之間的中點(diǎn)射中探測(cè)器排。在準(zhǔn)確定向(錯(cuò)移為零)或者在不太準(zhǔn)確的定向(即例如中央射束由于機(jī)械固定而與探測(cè)器排中點(diǎn)錯(cuò)移少于+/-五個(gè)探測(cè)器元件)時(shí)，通過這種X射線探測(cè)器，射到第一探測(cè)器元件上的直接測(cè)量射束與射到第二探測(cè)器元件上的補(bǔ)充測(cè)量射束重疊(反之亦然)。也就是補(bǔ)充測(cè)量射束的位置落在直接測(cè)量射束的位置之間。
[0033]因此在按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器系統(tǒng)中，形成這樣的掃描柵格，其在平均上如柵格間距的較小掃描柵格那樣精細(xì)或者比之更精細(xì)。由此明顯地改善了圖像質(zhì)量。在此指的不是如在傳統(tǒng)裝置中的固定掃描柵格(例如在四分之一錯(cuò)移下時(shí)一半的柵格間距)，而是測(cè)量射束之間不同的掃描柵格。焦點(diǎn)在X射線探測(cè)器上的真正位置可由簡(jiǎn)單的校準(zhǔn)測(cè)量，例如通過拍攝線幻象(Drahtphantom),針對(duì)計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀的確定運(yùn)行狀態(tài)一次性確定。因此，直接測(cè)量射束和補(bǔ)充測(cè)量射束的柵格間距的各個(gè)相對(duì)位置是已知的并且可以在重建時(shí)進(jìn)行考慮。
[0034]在圖4至圖6中示出在焦點(diǎn)的不同位置和因而中央射束的不同位置上的三種不同的掃描情形，其中，在所有情況中形成在平均上比在圖2所示的情況下(無錯(cuò)移的相等柵格間距)更精細(xì)的掃描和改善的圖像顯示。圖中所示示例用于顯示在X射線探測(cè)器中直接測(cè)量射束D和補(bǔ)充測(cè)量射束K的重疊，所述X射線探測(cè)器沿β方向分別具有十個(gè)相隔第一柵格間距B1的第一探測(cè)器元件和十個(gè)相隔第二柵格間距a2的第二探測(cè)器元件，其中，a2=0.Qa10在圖4中顯示的錯(cuò)移為0.25個(gè)探測(cè)器元件(四分之一錯(cuò)移)，在圖5中沒有錯(cuò)移并且在圖6中的錯(cuò)移為2.75個(gè)探測(cè)器元件。
[0035]與錯(cuò)移(也稱為準(zhǔn)直)無關(guān)，在所有情況下均形成在平均上改善的掃描，其有效掃描柵格( a2。
[0036]較小的柵格間距可以例如在較大的柵格間距的0.5至0.99倍之間。其它大小也是可行的。
[0037]為了實(shí)現(xiàn)按照本發(fā)明的X射線探測(cè)器也可以規(guī)定，使用這樣一些探測(cè)器模塊，其中的每種探測(cè)器模塊類型只具有柵格間距相等的探測(cè)器元件，但各種探測(cè)器模塊類型彼此在其探測(cè)器元件的柵格間距的`大小上有所不同。X射線探測(cè)器的探測(cè)器排配有不同類型的探測(cè)器模塊。在此可以規(guī)定，交替地布置第一類型的探測(cè)器模塊(例如具有第一柵格間距的第一探測(cè)器元件)和第二類型的探測(cè)器模塊(例如具有第二柵格間距的第二探測(cè)器元件)。例如也可以規(guī)定，探測(cè)器排在相對(duì)于其中心(沿β方向)的一側(cè)上配有具有第一柵格間距的第一探測(cè)器元件的探測(cè)器模塊并且在探測(cè)器排的另一側(cè)配有具有第二柵格間距的第二探測(cè)器元件的探測(cè)器模塊。也可以考慮任意的布置結(jié)構(gòu)。
[0038]X射線探測(cè)器可以具有一個(gè)或多個(gè)探測(cè)器排。作為對(duì)第一和第二柵格間距的探測(cè)器元件的補(bǔ)充，也可以具有其它柵格間距的其它探測(cè)器元件。
[0039]本發(fā)明可按以下方式簡(jiǎn)短地總結(jié)為:為了改善掃描，設(shè)置用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其具有至少一個(gè)探測(cè)器排，所述探測(cè)器排具有多個(gè)探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊分別具有多個(gè)探測(cè)器元件，其中，沿至少一個(gè)探測(cè)器排，第一部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第一柵格間距S1呈柵格狀布置，并且第二部分探測(cè)器元件以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第二柵格間距a2呈柵格狀布置。
【權(quán)利要求】
1.一種用于計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，具有至少一個(gè)探測(cè)器排，所述探測(cè)器排具有多個(gè)探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊分別具有多個(gè)探測(cè)器元件(13.1 ；13.2)，其中，沿所述至少一個(gè)探測(cè)器排，第一部分探測(cè)器元件(13.1)以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第一柵格間距(?)呈柵格狀布置，并且第二部分探測(cè)器元件(13.2)以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的第二柵格間距(a2)呈柵格狀布置。
2.按權(quán)利要求1所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，沿所述至少一個(gè)探測(cè)器排交替地以連續(xù)的順序布置有由至少兩個(gè)或多個(gè)第一探測(cè)器元件(13.1)以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的所述第一柵格間距(?)排列構(gòu)成的組，以及由至少兩個(gè)或多個(gè)第二探測(cè)器元件(13.2)以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件的所述第二柵格間距(a2)排列構(gòu)成的組。
3.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊只具有相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件以相同的柵格間距布置的探測(cè)器元件(13.1 ；13.2)。
4.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有探測(cè)器模塊，所述探測(cè)器模塊具有相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件以兩個(gè)不同的柵格間距布置的探測(cè)器元件(13.1 ；13.2)。
5.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)具有以相對(duì)于其各自相鄰的探測(cè)器元件以至少一個(gè)與所述第一和第二柵格間距不同的另一柵格間距布置的其它探測(cè)器元件。
6.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述第一柵格間距(B1)的所有第一探測(cè)器元件(13.1)分別并排地布置，并且所述第二柵格間距(a2)的所有第二探測(cè)器元件(13.2)分別并排地布置。
7.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，對(duì)于所述兩個(gè)柵格間距適用0.5.B1 ^ a2 ^ 0.99.S1,尤其適用 a2=0.9.a1D
8.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述探測(cè)器元件沿著所述至少一個(gè)探測(cè)器排尤其根據(jù)其各自的柵格間距具有至少兩種不同的長(zhǎng)度。
9.按前述權(quán)利要求之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)，其中，所述探測(cè)器元件的傳感器面設(shè)計(jì)為，使得待照射表面被傳感器面基本上均勻地覆蓋。
10.一種具有按權(quán)利要求1至9之一所述的X射線探測(cè)器系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描儀，具有可旋轉(zhuǎn)的機(jī)架，其中，所述X射線探測(cè)器系統(tǒng)布置在機(jī)架中并且與X射線探測(cè)器系統(tǒng)相對(duì)地布置有X射線源。
【文檔編號(hào)】A61B6/03GK103705267SQ201310456972
【公開日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月28日
【發(fā)明者】T.弗洛爾, M.格拉斯拉克, K.施蒂爾斯托弗 申請(qǐng)人:西門子公司