本發(fā)明一般涉及一種用于皮膚的處理設(shè)備，特別地，涉及一種通過使用射頻(r.f.)電流用于皮膚處理的非侵入性處理設(shè)備。

背景技術(shù)：

各種形式的電磁輻射(特別地，激光束)，多年來已經(jīng)用于皮膚的各種治療性和非治療性處理，諸如脫毛、皮膚再生以減少皺紋、以及處理如痤瘡、光化性角化病、瑕疵、瘢痕組織、變色、血管損傷、脂肪團和紋身移除之類的狀況。這些處理中的大多數(shù)處理依賴于光熱解，其中，皮膚中的處理位置由處理輻射來靶向。例如，為了處理皺紋，皮膚的真皮層通過加熱(熱分解)以誘導(dǎo)傷口響應(yīng)而被損傷，同時使對皮膚的表皮層的損傷最小化。

在專業(yè)和家用美容處理設(shè)備市場中，射頻(通常縮寫為r.f.或rf)能量也已經(jīng)用于皮膚再生和皮膚收緊。家用設(shè)備經(jīng)常用于非治療或美容處理。與激光處理設(shè)備相比，射頻處理設(shè)備具有顯著較低的成本價格并且可以提供較大體積的深部組織收縮。附加地，射頻能量耗散不依賴于發(fā)色團對光的吸收，以使組織色素沉著不會干擾能量的遞送。射頻處理優(yōu)于激光處理的優(yōu)點以及已知射頻處理設(shè)備的一些實施例在R.Stephen Mulholland的文章“Radio Frequency Energy for Non-invasive and Minimally Invasive Skin Tightening”，Clin Plastic Surg 38(2011)437-448中有所描述。

射頻在皮膚表面向皮膚組織的能量遞送的基本原理是在與皮膚的閉合回路中施加交流電。射頻能量主要由于分子內(nèi)振動而作為熱能來耗散。熱效應(yīng)的范圍從亞表皮組織收縮到皮膚表面損傷，例如，細胞壞死和消融。這些效應(yīng)對皮膚具有不同的期望效果。皮膚表面損傷用于皮膚的表皮再生或增強物質(zhì)的滲透，而亞表皮組織收縮主要用于皮膚收緊目的和刺激新的膠原合成。

所產(chǎn)生的熱效應(yīng)取決于所遞送的射頻能量(頻率、功率、持續(xù)時間)的特性、處理機制和電極配置(尺寸、電極間距離、導(dǎo)電物質(zhì)的使用)。射頻處理某一狀況可能需要在相同或近端位置執(zhí)行多于一次的處理以產(chǎn)生相同、相似或不同的熱效應(yīng)。傳統(tǒng)設(shè)備不可避免地需要一系列射頻處理頭或探針以執(zhí)行每個單獨的處理，因為在每個探針中使用的射頻電極的尺寸和配置是固定的，并且每個探針只能提供有限范圍的處理。這增加了射頻處理設(shè)備的成本，并且可能需要在單個處理療程期間使用多于一個探針。這使任何處理機制復(fù)雜化，并且增加操作誤差的風(fēng)險，并且在一些情況下可能導(dǎo)致無效處理。在極端情況下，關(guān)于處理設(shè)置和待應(yīng)用的適當探針的混淆還可能導(dǎo)致被處理的人感覺不必要的疼痛，或不必要的皮膚損傷(諸如燒傷或燒焦)。

US 2013/0289679A1公開了一種用于個人美容皮膚處理的裝置，其包括具有由公共返回電極包圍的多個小型電壓至皮膚施加電極的載體。使用該裝置，沿著電壓至皮膚施加電極和公共返回電極之間的不同電流路徑來提供阻抗的不對稱分布。特別地，在電壓至皮膚施加電極下存在高阻抗，而在至返回電極的返回路徑中存在低阻抗。結(jié)果，皮膚組織的加熱集中于電壓至皮膚電極下面的皮膚的小體積，從而導(dǎo)致皮膚組織的部分處理。

US 8,700,176B2公開了一種用于向皮膚遞送RF能量的皮膚處理設(shè)備，包括一個或多個RF產(chǎn)生單元、多個RF電極組、以及用于通過任何選定的RF電極組或任何選定的RF電極組組合來向皮膚可控地施加RF能量的控制器。RF電極可以是靜止的和/或可移動的。可以使用不同的RF頻率。使用該設(shè)備，通過不同電極組在不同時間交替施加能量和/或通過使用移動RF電極來改變電極間距離和配置可以減少或防止電極過熱，控制皮膚內(nèi)的RF能量分布，并且使得能夠?qū)⒃撛O(shè)備用于不同的皮膚處理應(yīng)用。

US 2012/0310232 A1公開了一種使用多種能量類型來處理皮膚組織的系統(tǒng)。該系統(tǒng)可以包括至少兩個換能器，其被配置成在皮膚的表面處和內(nèi)層中產(chǎn)生聲波。另外，多個RF電極可以被配置成發(fā)射多個RF信號。在實施例中，選定的RF電極和RF電極的第一子集用于在皮膚的第一層中感應(yīng)第一電磁場。隨后地或同時地，選定的RF電極和RF電極的第二子集用于在皮膚的第二層中感應(yīng)第二電磁場。

US 2013/0282085A1公開了一種家用皮膚處理設(shè)備，通過該皮膚處理設(shè)備將RF能量遞送到皮膚的相對小且良好局部化的體積，從而避免皮膚表面的過度加熱。使用該設(shè)備，通過溫度測量和設(shè)備的移動監(jiān)測來監(jiān)測皮膚表面加熱，以確保正確使用并且防止皮膚過熱和與其相關(guān)聯(lián)的疼痛。該設(shè)備包括RF電極的線性陣列、以及控制單元，該控制單元被配置成向電極的子組指定相反的極性并且控制每個電極的相位。特別地，控制單元可以被布置成在任何兩個電極之間設(shè)置任何指定的相位，以精確地控制到皮膚的能量遞送。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是改進使用射頻電流的非侵入性處理設(shè)備。特別地，本發(fā)明的目的是要提供射頻皮膚處理設(shè)備，其是非侵入性的并且為多種處理提供有效和可重現(xiàn)的結(jié)果。

根據(jù)本發(fā)明，該目的通過一種非侵入性處理設(shè)備實現(xiàn)，該非侵入性處理設(shè)備用于使用射頻(r.f.)電流來加熱皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域和第二內(nèi)部區(qū)域，第二內(nèi)部區(qū)域位于皮膚中比第一內(nèi)部區(qū)域更深的位置處，該設(shè)備包括：

-第一射頻處理電極，其被配置和被布置成允許射頻電流通過皮膚的外表面并且通過第一內(nèi)部區(qū)域；

-返回電極，其被配置和被布置成允許射頻電流通過第一內(nèi)部區(qū)域和皮膚的外表面；

-第一射頻發(fā)生器，其被配置和被布置成使得在用于加熱第一內(nèi)部區(qū)域時，第一射頻電流通過第一內(nèi)部區(qū)域而施加在第一射頻處理電極和以雙極模式操作的返回電極之間；

-第二射頻處理電極，其被配置和被布置成允許射頻電流通過皮膚的外表面并且通過第二內(nèi)部區(qū)域；

-返回電極進一步被配置和被布置成允許射頻電流通過第二內(nèi)部區(qū)域和皮膚的外表面；和

-第二射頻發(fā)生器，其被配置和被布置成使得在用于加熱第二內(nèi)部區(qū)域時，第二射頻電流通過第二內(nèi)部區(qū)域而施加在以雙極模式操作的第二射頻處理電極和返回電極之間；

該設(shè)備還被布置成使得第一射頻處理電極和返回電極之間的最小距離小于第二射頻電極和返回電極之間的最小距離。

其中，第一射頻處理電極、第二射頻處理電極和返回電極各自包括電皮膚接觸區(qū)域，返回電極的電皮膚接觸區(qū)域是第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍。

該處理設(shè)備的特征在于第二射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域是第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍。

并且，該處理設(shè)備的特征在于還包括控制器，以選擇性地同時地或交替地激活第一射頻發(fā)生器和第二射頻發(fā)生器。

射頻能量通常施加在兩個主要感興趣的領(lǐng)域，即，皮膚再生和皮膚收緊。目前，這些感興趣區(qū)域中的每個感興趣區(qū)域需要用于完全功效的單獨設(shè)備，或者至少兩個或更多個不同的探針或手持件。

皮膚再生通常通過有意地加熱接近皮膚表面和射頻處理電極的皮膚的內(nèi)部(或第一)區(qū)域來達到顯著高于正常體溫的溫度(通常達到高于55℃的溫度)，以便誘導(dǎo)表皮皮膚組織的膠原變性和/或凝固和/或完全消融。這種加熱導(dǎo)致膠原和表皮組織重新建模，從而導(dǎo)致再生皮膚。為了最小化停機時間和副作用，同時保持足夠高的功效水平，通常通過在靠近皮膚表面的皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域中產(chǎn)生分布的小病變，對皮膚表面的部分區(qū)域執(zhí)行皮膚再生，尺寸通常為100微米至300微米并且通常通過達到65℃至90℃之間的范圍內(nèi)的溫度。用于產(chǎn)生皮膚的這種第一內(nèi)部區(qū)域的部分圖案的射頻處理設(shè)備在PCT申請WO 2012/023129中公開。

皮膚收緊是基于通過加熱皮膚的內(nèi)部(或第二)區(qū)域(特別地，在真皮皮膚層中)的熱解而進行的非消融處理，其中，第二內(nèi)部區(qū)域在皮膚中基本上更深的位置，并且在大多數(shù)情況下，其體積大于作為皮膚再生的靶向處理區(qū)域的第一內(nèi)部區(qū)域。通常，第二內(nèi)部區(qū)域的靶標是真皮層，其在皮膚的外表面下方至少0.5mm。

特別地，對于皮膚收緊，加熱發(fā)生得更遠離射頻處理電極，即，在皮膚中更深的位置處，并且在與皮膚再生相比更大的體積上。當在高于55℃的溫度下加熱時，真皮膠原變性并且收縮或縮小。一般而言，處理溫度升高5度會導(dǎo)致處理時間減少十倍。例如，65℃的處理溫度需要大約200s的處理時間，70℃的處理溫度需要大約20s的處理時間。膠原組織的縮小可以達到經(jīng)加熱的組織體積的幾十個百分數(shù)，并且導(dǎo)致皮膚收緊和減少皺紋、細紋和皮膚松垂。更進一步地，該熱處理還通過刺激新膠原的合成來再生皮膚。射頻處理設(shè)備廣泛地用于皮膚收緊的常規(guī)技術(shù)中，如上述Mulholland的文章中所公開的，其中，皮膚的第二內(nèi)部區(qū)域被加熱，其位于皮膚中的更深位置并且具有比在再生處理期間加熱的第一內(nèi)部區(qū)域更大的體積。

皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域位于第一射頻處理電極和返回電極之間。在使用期間，為了促進皮膚再生，第一電極和返回電極以雙極模式進行操作。

皮膚的第二內(nèi)部區(qū)域位于第二射頻處理電極和返回電極之間。在使用期間，為了促進皮膚收緊，第二電極和返回電極以雙極模式進行操作。

第一內(nèi)部區(qū)域和第二內(nèi)部區(qū)域都從皮膚的外表面延伸到皮膚的內(nèi)部區(qū)域。第二內(nèi)部區(qū)域比第一內(nèi)部區(qū)域更深地延伸到皮膚中，因為通過加熱真皮膠原組織使其變性和縮小來促進收緊效果。在操作期間，第一內(nèi)部區(qū)域比第二內(nèi)部區(qū)域更接近皮膚表面和處理設(shè)備的電極，并且通過誘導(dǎo)皮膚的上層(諸如表皮或上部真皮)中的皮膚組織的膠原變性和/或凝固和/或完全消融來促進再生效果。

第一內(nèi)部區(qū)域的體積尤其通過第一射頻處理電極和返回電極的電皮膚接觸區(qū)域來確定。第二內(nèi)部區(qū)域的體積尤其通過第二射頻處理電極和返回電極的電皮膚接觸區(qū)域來確定。

一般而言，第二內(nèi)部區(qū)域的體積顯著大于第一內(nèi)部區(qū)域的體積。第二內(nèi)部區(qū)域和第一內(nèi)部區(qū)域的體積比例尤其由第二對電極與第一對電極相比的電皮膚接觸區(qū)域的比例來確定。

本發(fā)明基于這樣的認識：提供能夠在多個組織深度和區(qū)域提供更寬范圍的皮膚處理的射頻皮膚處理設(shè)備是有利的，其中，可以更精確地控制皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域和第二內(nèi)部區(qū)域的接近度。使用不同探針的主要原因在于用于皮膚再生的電極配置(例如，Syneron-Candela的e-Matrix)不適合于皮膚收緊應(yīng)用，主要是由于其非常小的處理電極尺寸。即使使用多個處理電極的陣列也不會改善對皮膚收緊的適用性，因為每個處理電極僅加熱皮膚的單獨的第一內(nèi)部區(qū)域。

通過將收緊電極的功能性添加到處理設(shè)備，利用相同的探針或手持件，皮膚再生和皮膚收緊處理會成為可能。這些處理可以交替地或同時地執(zhí)行，并且以任何順序進行重復(fù)。根據(jù)本發(fā)明，返回電極與第一射頻處理電極組合使用用于皮膚再生，并且與第二射頻處理電極組合用于皮膚收緊，以使實現(xiàn)電極的相對簡單的配置。

當在沒有改變探針在皮膚上的位置的情況下進行皮膚再生處理和皮膚收緊處理時，能夠?qū)崿F(xiàn)附加的優(yōu)點。皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域和第二內(nèi)部區(qū)域之間的預(yù)先確定的空間關(guān)系可以在某些狀況下減少愈合時間。例如，WO 2014/045216描述了如何通過在接近真皮病變區(qū)域或與真皮病變區(qū)域重合的區(qū)域中施加表皮熱刺激來加速真皮病變的愈合時間。通過使用多于一個探針來執(zhí)行這樣的處理機制通常需要標記皮膚以指示探針應(yīng)當相對于彼此放置的位置，或使用某種其它類型的參考。

本發(fā)明的另一優(yōu)點是通過在相同位置施加皮膚再生和皮膚收緊處理來協(xié)同改善皮膚外觀。特別地，當要處理細紋和皺紋的外觀時，已知皮膚再生和皮膚收緊都具有積極效果。本發(fā)明提供了一種能夠在皮膚上的相同位置提供兩種處理的設(shè)備。該設(shè)備還可以被布置成具有相對小的皮膚接觸表面積，從而允許方便地處理面部紋路。

通過為返回電極提供是第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍的電皮膚接觸區(qū)域，被射頻電流有效加熱的皮膚區(qū)域?qū)⒔咏谝簧漕l處理電極，從而降低接近返回電極的不期望的熱點的可能性。

在根據(jù)本發(fā)明的處理設(shè)備的實施例中，當處理設(shè)備在操作中用于加熱第一內(nèi)部區(qū)域時，第二射頻處理電極被配置和被布置為另一返回電極，以允許射頻電流通過第一內(nèi)部區(qū)域和皮膚的外表面，并且其中，第一射頻發(fā)生器被配置和被布置成使得在第一射頻處理電極、以及返回電極和另一返回電極之間通過第一內(nèi)部區(qū)域來施加射頻電流，并且其中，返回電極和另一返回電極的電皮膚接觸區(qū)域的總和是第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍。

另一返回電極的附加使用增加了返回電極的電皮膚接觸區(qū)域的總和。這種增加的電皮膚接觸區(qū)域甚至更加降低在加熱皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域期間在返回電極下面的不期望的加熱的風(fēng)險，以使所產(chǎn)生的熱量在較小的第一射頻處理電極下面集中到更高的程度。通過利用另一返回電極，返回電極和第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域之間的比率在較小的設(shè)備內(nèi)可以超過5或更多。

在根據(jù)本發(fā)明的處理設(shè)備的實施例中，接近第一射頻處理電極的電皮膚接觸區(qū)域的第一射頻處理電極的最大尺寸小于或等于1mm。該最大尺寸在電皮膚接觸區(qū)域的橫截面中測量，該橫截面在使用期間接近并且大致平行于皮膚的外表面。因為皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域的加熱將發(fā)生得更接近第一射頻處理電極，所以該最大尺寸是有利的。

在根據(jù)本發(fā)明的處理設(shè)備的實施例中，該設(shè)備包括多個第一射頻處理電極，多個第一射頻處理電極和返回電極被配置和被布置成允許射頻電流通過皮膚的外表面并且通過多個第一內(nèi)部區(qū)域，并且第一射頻發(fā)生器被配置和被布置成將射頻電流交替地或同時地施加到多個第一射頻處理電極中的每個第一射頻處理電極和皮膚的多個第一內(nèi)部區(qū)域中的每個第一內(nèi)部區(qū)域。

在該實施例中，皮膚的多于一個第一內(nèi)部區(qū)域可以用適當?shù)纳漕l電流進行處理。在簡單的實施例中，多個第一射頻處理電極中的每個第一射頻處理電極同時設(shè)置有相同的射頻電流。然而，第一個射頻處理電極也可以在相互不同的時間設(shè)置有相互不同的射頻電流，或第一射頻處理電極可以分組設(shè)置有類似的射頻能量。這允許更大的區(qū)域被處理用于皮膚再生，其中設(shè)備在皮膚上的單個位置，并且更好地控制多個深度處的內(nèi)部皮膚區(qū)域內(nèi)的能量分布。

在根據(jù)本發(fā)明的處理設(shè)備的實施例中，其以類似的方式在處理中提供最大程度的靈活性，該設(shè)備包括多個第二射頻處理電極，多個第二射頻處理電極和返回電極被配置和被布置成允許射頻電流通過皮膚的外表面并且通過皮膚的多個第二內(nèi)部區(qū)域，并且第二射頻發(fā)生器被配置和被布置成將射頻電流交替地或同時地施加到多個第二射頻處理電極中的每個第二射頻處理電極和施加到皮膚的多個第二內(nèi)部區(qū)域中的每個第二內(nèi)部區(qū)域。

在該實施例中，皮膚的多于一個第二內(nèi)部區(qū)域可以用適當?shù)纳漕l電流進行處理。在簡單的實施例中，多個第二射頻處理電極中的第二射頻處理電極在處理時間期間設(shè)置有相同的射頻電流。然而，第二射頻處理電極也可以在相互不同的時間設(shè)置有相互不同的射頻電流，或第二射頻處理電極可以分組設(shè)置有類似的射頻能量。這允許較大區(qū)域被處理用于皮膚收緊，其中設(shè)備在皮膚上的單個位置，并且更好地控制多個深度處的內(nèi)部皮膚區(qū)域內(nèi)的能量分布。

根據(jù)本發(fā)明的處理設(shè)備可以有利地用于處理皮膚狀況，該皮膚狀況特別地是皺紋、細紋、松弛、下垂皮膚、痤瘡、光化性角化病、瑕疵、瘢痕組織或變色。這些狀況中的許多狀況是在非治療或美容處理中進行處理。

附圖說明

圖1示意性地示出了當處理皮膚時使用的根據(jù)本發(fā)明的非侵入式處理設(shè)備的第一實施例300，

圖2示出了當向皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域提供第一射頻電流時使用的根據(jù)本發(fā)明的非侵入式處理設(shè)備的第二實施例400，

圖3A至圖3D描繪了包括單個第一射頻處理電極的電極幾何形狀和配置的四個示例，和

圖4A至圖4D描繪了包括多個第一射頻處理電極和兩個另外的電極的電極幾何形狀和配置的四個示例。

應(yīng)當指出，在不同的附圖中具有相同附圖標記的項具有相同的結(jié)構(gòu)特征和相同的功能，或者表示類似的信號。在已經(jīng)解釋了這種項的功能和/或結(jié)構(gòu)的情況下，在具體實施方式中不必重復(fù)解釋。

具體實施方式

圖1示意性地示出了非侵入性皮膚處理設(shè)備300的第一實施例，其包括第一射頻處理電極10、返回電極340和第二射頻處理電極20，其每個都具有電皮膚接觸區(qū)域。該設(shè)備300還包括第一射頻發(fā)生器18，其被配置和被布置成通過電連接到第一射頻處理電極10和返回電極340而在雙極模式下進行操作。

該設(shè)備300還包括第二射頻發(fā)生器28，其被配置和被布置成通過電連接到第二射頻處理電極20和返回電極340而在雙極模式下進行操作。返回電極340被配置和被布置成允許電流通過皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25以及皮膚的外表面。第二射頻發(fā)生器28被配置和被布置成使得在用于加熱時，射頻電流通過第一內(nèi)部區(qū)域15被施加在第二射頻處理電極20和組合的返回電極340之間。

該設(shè)備可以具有兩個不同的射頻發(fā)生器或單個射頻發(fā)生器，其被配置成分別在第一使用和第二使用期間提供第一射頻電流和第二射頻電流兩者。例如，對于同時施加第一射頻電流和第二射頻電流，單個變壓器可以與具有大約1：2電壓比(例如，對于第二射頻電流為40V，且對于第一射頻電流為80V)的電位分接一起使用。設(shè)備300還包括控制器30，其電連接到第一射頻發(fā)生器18和第二射頻發(fā)生器28，并且被配置和被布置成選擇性地同時地、單獨地或交替地激活第一射頻發(fā)生器18和第二射頻發(fā)生器。

設(shè)備300被配置和被布置成靠近人或動物皮膚60，其中處理電極10、20和返回電極340面向皮膚的外層。每個電極包括皮膚接觸區(qū)域，其在使用該電極期間提供與皮膚60的電接觸。處理電極和返回電極可以與皮膚的外層物理接觸，或者可以被布置在離皮膚的小距離處，其中在電極和皮膚之間具有小間隙。通常，將導(dǎo)電物質(zhì)(諸如凝膠)施加在皮膚和皮膚接觸區(qū)域之間的該間隙中，以減少電極和皮膚的外層之間的任何接觸阻抗。

處理設(shè)備300被配置和被布置成使用射頻電流來加熱皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25，第一內(nèi)部區(qū)域15的體積基本上小于第二內(nèi)部區(qū)域25。這尤其通過處理電極10、20和返回電極340的布置和配置，以及電極10，20，340的電皮膚接觸區(qū)域的比例來確定。

在該示例中，返回電極340的電皮膚接觸區(qū)域是第一射頻處理電極10的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍。該比率是預(yù)先確定的和/或被控制的，以優(yōu)選地提供接近(即，緊接在其下方)第一處理靶標區(qū)域90處的第一內(nèi)部區(qū)域15中的第一射頻處理電極10的射頻加熱。如果返回電極340的電皮膚接觸區(qū)域與第一射頻電極10的電皮膚接觸區(qū)域相比增加，則這將導(dǎo)致處理靶標區(qū)域90更加接近第一射頻處理電極10。

內(nèi)部區(qū)域15，25可以尤其位于皮膚的表皮或真皮中。附圖是非常示意性的，并且在實踐中，第二內(nèi)部區(qū)域25可以僅位于皮膚60中比第一內(nèi)部區(qū)域15稍微更深的位置。

第一射頻處理電極10被配置和被布置成允許來自第一射頻發(fā)生器18的電流通過皮膚的外表面并且通過皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域15。第二射頻處理電極20被配置和被布置成允許來自第二射頻發(fā)生器28的電流通過皮膚的外表面并且通過皮膚的第二內(nèi)部區(qū)域25。第一射頻處理和第二射頻處理兩者通過在雙極模式下操作電極來提供。

用戶希望處理的區(qū)域可以位于通過皮膚或緊鄰該路徑的射頻電流路徑。在皮膚中由射頻電流產(chǎn)生的熱量可以擴散到相鄰的組織區(qū)域。處理連續(xù)和不連續(xù)的多個區(qū)域也是可能的。該設(shè)備300因此可以被配置成使得第一處理靶標90(諸如緊接在皺紋下方的膠原)位于第一內(nèi)部區(qū)域15體積內(nèi)，或者第一內(nèi)部區(qū)域15接近第一處理靶標90。類似地，設(shè)備300可以被配置成使得第二處理靶標95(諸如緊接在皺紋下方的膠原)位于第二內(nèi)部區(qū)域25體積內(nèi)，或者第二內(nèi)部區(qū)域25接近第二處理靶標95。

當在用于加熱第一內(nèi)部區(qū)域15時，第一射頻發(fā)生器18產(chǎn)生射頻電流，其適于加熱皮膚60。換句話說，加熱會發(fā)生在第一射頻處理電極10的附近。第一射頻處理電極10允許射頻電流通過皮膚的外表面并且通過皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域15，使得第一靶標區(qū)域90被流過第一內(nèi)部區(qū)域15的電流適當?shù)丶訜帷ｋ娏鬟€流過皮膚的另一外表面到返回電極340。

用于加熱第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25的射頻電流可以具有AC波形，頻率在0.3MHz至100MHz的范圍內(nèi)，功率在1W至400W的范圍內(nèi)。所使用的典型頻率為0.5MHz至1MHz，功率為25W至100W。第一射頻能量和第二射頻能量的電壓和電流可以彼此不同，并且尤其取決于所執(zhí)行的處理以及皮膚外層下方的內(nèi)部區(qū)域15，25的深度。

例如，第一個射頻處理電極10在通過電皮膚接觸區(qū)域的橫截面中可以是圓形的。在使用期間，電皮膚接觸區(qū)域接近并且大致平行于皮膚60的外層。如果第一射頻處理電極10在該橫截面中具有0.5mm的直徑，并且在電極10，340的接觸區(qū)域的平面中的距離為1mm，則第一射頻的典型電壓可以是15V至60V。在單個脈沖或多個脈沖中，處理持續(xù)時間通常小于1秒。

第二射頻處理電極20的電皮膚接觸區(qū)域顯著大于第一射頻處理電極10的電皮膚接觸區(qū)域，電極區(qū)域中的這個比率是在確定第二體積25和第一體積15之間的比率中的主要因子。在該示例中，第二射頻處理電極20的電皮膚接觸區(qū)域是第一射頻處理電極10的電皮膚接觸區(qū)域的5倍或更多倍。然而，第二射頻處理電極20的電皮膚接觸區(qū)域可以等于或顯著小于返回電極340的電皮膚接觸區(qū)域。

第二射頻處理電極20的電皮膚接觸區(qū)域的最小尺寸優(yōu)選地大于1mm。第二射頻處理通常使用持續(xù)的單脈沖或持續(xù)時間內(nèi)的多個脈沖在50V至100V的電壓下進行，并且第二處理持續(xù)時間通常將大于1秒。

射頻電流通過皮膚60的第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25的路徑尤其通過處理電極10，20的位置、幾何形狀和尺寸以及皮膚外層上的電接觸位置來確定。對其中射頻電流流動的所采用的路徑的較小影響可能是由于尤其是不同組織類型的阻抗。通過在相同的設(shè)備中提供第二射頻處理電極20和第一射頻處理電極10，第二內(nèi)部區(qū)域25和第一內(nèi)部區(qū)域15之間的位置關(guān)系可以是固定的，或者至少與現(xiàn)有技術(shù)中發(fā)現(xiàn)的單獨的探針相比較是更可預(yù)測的。

通常，包括在電皮膚接觸區(qū)域中的其在橫截面中最大尺寸為0.1mm至1mm的第一射頻處理電極10用于消融或非消融皮膚再生。第二射頻處理電極20的電皮膚接觸區(qū)域?qū)@著更大。在該示例中，對應(yīng)的第二射頻處理電極20具有的包括在電皮膚接觸區(qū)域中的最大尺寸為5mm至10mm以用于皮膚收緊。

第一射頻處理電極10在包括在電皮膚接觸區(qū)域中的橫截面中可以是圓形、環(huán)形、橢圓形或矩形。第二射頻處理電極20在包括在電皮膚接觸區(qū)域中的橫截面中的幾何形狀尤其取決于在使用期間的優(yōu)選移動模式(例如，設(shè)備300是否將被逐步壓印到皮膚60的外層上或連續(xù)滑動)、待處理的皮膚區(qū)域、用于第二次加熱的期望加熱體積、以及皮膚組織的第一內(nèi)部區(qū)域和第二內(nèi)部區(qū)域之間的期望平衡。這些因子還可以取決于身體上的部位、以及正在處理的第一處理靶標90/第二處理靶標95。

在通過接觸平面的橫截面中觀察的電極幾何形狀的示例對于圖1的設(shè)備300是如圖3A所描繪的。當在包括所有三個電極的電皮膚接觸區(qū)域的平面中考慮時，第一射頻處理電極10的橫截面是圓形的，并且位于矩形的第二射頻處理電極20和矩形的第一返回電極340之間。例如，如果在包括皮膚電接觸區(qū)域的平面中，返回電極340位于離第二射頻處理電極20的橫截面的質(zhì)心約10mm處，則第二射頻處理電極在操作以促進皮膚收緊時的電壓范圍可以在大于1秒的持續(xù)時間內(nèi)為50V至100V的范圍。

多個第一射頻處理電極10的陣列還可以被提供以用于部分處理。在通過皮膚接觸區(qū)域的橫截面中觀察到的這種電極幾何形狀的示例對于圖1的設(shè)備300如圖4A所描繪的。橫截面是圓形的多個第一射頻處理電極10在包括電皮膚接觸區(qū)域的平面中成行地進行布置，并且近似等距地布置在延伸的矩形的第二射頻處理電極20和延長的矩形的第一返回電極340之間。

圖4B還描繪了在延伸的矩形的第二射頻處理電極20和延伸的矩形的第一返回電極340之間的、橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10。在該示例中，射頻處理電極10在包括電皮膚接觸區(qū)域的平面中布置成三行，中心行在行的延伸方向上偏移第一射頻處理電極10的節(jié)距的一半。

圖4C描繪了布置在單個圓形路徑中、近似等距地布置在圓形的第二射頻處理電極20和環(huán)形的第一返回電極340之間的、橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10，第一返回電極340在包括皮膚接觸區(qū)域的平面中圍繞第二射頻處理電極20和第一射頻處理電極10。

圖4D描繪了布置在單個矩形路徑中、近似等距地布置在正方形的第二射頻處理電極20和方框的第一返回電極340之間的、橫截面是圓形的多個第一射頻處理電極10，第一返回電極340在包括皮膚接觸區(qū)域的平面中圍繞射頻處理電極20和第一射頻處理電極10兩者。

在使用中，處理設(shè)備300可以被配置和被布置成通過尤其以下各項來影響第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25的重合程度：將第二射頻處理電極20布置成更接近第一射頻處理電極10；通過改變電極10、20、340的橫截面幾何形狀；通過改變返回電極340和第一射頻處理電極10之間的距離；和/或通過仔細選擇射頻能量參數(shù)。

處理設(shè)備300可以在第一射頻加熱模式、第二射頻加熱模式、以及使用第一射頻加熱電流和第二射頻加熱電流的同時處理模式下操作。射頻發(fā)生器可以由控制器30控制，以提供一致的能量劑量或可變能量劑量作為處理機制的一部分。順序或交替處理的組合是可能的。這可以提供逐漸的組織收縮。還可以優(yōu)化脈沖序列以最小化用戶所經(jīng)受的疼痛或不適。

例如，設(shè)備300可以被配置成使得第一內(nèi)部區(qū)域15完全包括在第二內(nèi)部區(qū)域25中。該機制中的第一步驟可以是適當長地施加第二射頻電流以收緊皮膚持續(xù)幾秒，隨后是300毫秒或更短的延遲，以允許在第二內(nèi)皮膚區(qū)域中的一些熱耗散，隨后是小于第一射頻電流的1秒的短暫脈沖以提供皮膚再生。

第二處理和第一處理之間的延遲時間不應(yīng)超過真皮的熱弛豫時間(100ms)，甚至可以近似為零。短的延遲時間允許經(jīng)加熱的組織由第一射頻電流處理，其可以有利地提供更深和更寬的病變，其中與其中僅施加第一射頻電流的常規(guī)設(shè)備相比較，第一射頻電壓更低。

該順序可以顛倒，以使首先發(fā)生第一射頻加熱，然后是第二射頻加熱；經(jīng)加熱的組織的第一內(nèi)部區(qū)域15被第二射頻電流進一步加熱，并且可以在第二加熱期間影響第二射頻電流的路徑。

在通過電極的電皮膚接觸區(qū)域的橫截面中看到的電極幾何形狀的其它示例在圖3B至圖3D中描繪。通常，在包括電皮膚接觸區(qū)域的平面中，第一射頻處理電極10的邊緣和返回電極340的邊緣之間的間距將在500微米至1mm的范圍內(nèi)。

在圖3B中，橫截面為圓形的第一射頻處理電極10位于環(huán)形返回電極340的中心。在圖3C中，橫截面為圓形的第一射頻處理電極10沿著返回電極340的對稱軸線位于“v形”返回電極340附近，并且被所述返回電極340部分地圍繞。

盡管描繪和描述了單個電極，但是對于一些實施例，可以可替代地應(yīng)用用于第一/第二處理和/或第一/第二返回電極的多個電極或電極陣列。這樣的多個電極可以單獨地、成組地或全部一起操作，以提供對通過皮膚60的射頻電流的路徑的高度控制。例如，在圖3D中，橫截面為圓形的第一射頻處理電極10近似等距地位于四個截面為正方形的返回電極340之間。四個正方形返回電極340可以使用相同的第二射頻能量參數(shù)進行電性互連和操作，或者它們可以各自接收單獨的第二射頻能量參數(shù)。它們還可以在作為返回電極340工作時作為一組或單獨地進行操作，這種靈活性允許對通過皮膚60的第一內(nèi)部區(qū)域15的第一射頻電流的路徑的高度控制。

圖2描繪了與圖1相比具有以下差異的處理設(shè)備的第二實施例400：

-第二射頻處理電極20已經(jīng)被另一返回電極420替代；

-處理設(shè)備400還包括電極功能控制器470，其電性連接到組合電極420并且連接到第一射頻發(fā)生器18和第二射頻發(fā)生器28兩者，使得功能可以在它們之間切換；

-另一返回電極420被配置成單獨地作為提供與返回電極340組合的雙極處理的第二射頻處理電極、或作為提供與第一射頻處理電極10組合的雙極處理的返回電極進行操作。

注意，為了清楚起見，未描繪第二內(nèi)部皮膚區(qū)域25和皮膚60。然而，這些方面將類似于圖1中所描繪的那些方面。

換句話說，在加熱第一內(nèi)部區(qū)域15期間，雙極處理由第一射頻處理電極10和兩個返回電極——返回電極340和另一返回電極420來提供。第一射頻發(fā)生器18被配置和被布置成使得將射頻電流通過第一內(nèi)部區(qū)域15而施加在第一射頻處理電極10以及返回電極340和另一返回電極420兩者之間。

在加熱第二內(nèi)部區(qū)域25期間，雙極處理由第二射頻處理電極420和返回電極340來提供。第二射頻發(fā)生器28被配置和被布置成使得將射頻電流通過第二內(nèi)部區(qū)域25施加在第二射頻處理電極420和返回電極340之間。電極功能控制器470被配置和被布置成選擇由另一返回電極420執(zhí)行的功能——作為返回電極或作為第二射頻處理電極。在該實施例中，不可能同時執(zhí)行兩種處理。然而，交替處理和順序處理仍然是可能的。

該實施例400在第一加熱期間增加了第一返回電極340的區(qū)域，以使在第一返回電極340下方的過度加熱的可能性降低，并且加熱集中在第一射頻處理電極10附近。

另一返回電極420可以被實現(xiàn)為經(jīng)由電極功能控制器470而電性連接到第一射頻發(fā)生器18和第二射頻發(fā)生器28的相同導(dǎo)電體?？商娲?，另一返回電極420可以包括物理上不同但電性耦合的第二射頻處理電極和返回電極。

當與圖1的處理設(shè)備相比較時，圖2的設(shè)備400可以在第一內(nèi)部區(qū)域15和第二內(nèi)部區(qū)域25之間提供更高重合程度。對于一些處理，設(shè)備400可以被配置和被布置成諸如使得第一內(nèi)部區(qū)域15完全包括在第二內(nèi)部區(qū)域25中。

如圖1所示，電皮膚接觸區(qū)域的橫截面中的電極幾何形狀可以是如圖3A所描繪的。第一個射頻處理電極10的橫截面是圓形的并且在包括電極的電皮膚接觸區(qū)域的平面中位于矩形的另一返回電極420和矩形的返回電極340之間。

圖4A中描繪了設(shè)備400的電極幾何形狀的另一示例。橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10在包括皮膚接觸區(qū)域的平面中布置成一行，近似等距地布置在另一返回電極420和返回電極340之間。

圖4B還描繪了布置在另一返回電極420和返回電極340之間的橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10。在該示例中，射頻處理電極在包括皮膚接觸區(qū)域的平面中布置成三行，中心行在行的延伸方向上偏移第一射頻處理電極10的節(jié)距的一半。

圖4C描繪了布置在單個圓形路徑中的、近似等距地布置在圓形的另一返回電極420和環(huán)形的返回電極340之間的、橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10，環(huán)形的返回電極340在包括電皮膚接觸區(qū)域的平面中圍繞另一返回電極420和第一射頻處理電極10兩者。

圖4D描繪了布置在單個矩形路徑中的、近似等距地布置在方形的另一返回電極420和方框的返回電極340之間的、橫截面為圓形的多個第一射頻處理電極10，返回電極340在包括電皮膚接觸區(qū)域的平面中圍繞另一返回電極420和第一射頻處理電極10兩者。

如果處理設(shè)備還包括阻抗測量電路(其連接到電極中的一個電極，并且被配置和被布置成在使用中測量通過皮膚的內(nèi)部區(qū)域的射頻電流路徑的阻抗)，則其是有利的。較低的阻抗可能增加通過皮膚的射頻電流的電傳輸。如果阻抗測量電路連接到射頻發(fā)生器，則其可以被配置和被布置成根據(jù)所測量的阻抗來選擇射頻處理電流的至少一個參數(shù)。合適的參數(shù)可以是：施加電流的持續(xù)時間、電壓、頻率、脈沖持續(xù)時間和占空比、以及要施加的最大電流。

類似地，可以通過使用適當?shù)膫鞲衅?例如，電容傳感器)或通過用約20V的小測量(預(yù))脈沖測量皮膚阻抗來檢測皮膚接觸。

應(yīng)當指出，上文所提及的實施例對本發(fā)明進行說明而非限制，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員將能夠設(shè)計許多備選實施例。

在權(quán)利要求中，置于括號之間的任何附圖標記不應(yīng)被解釋為限制權(quán)利要求。動詞“包括”及其變形的使用不排除存在除了權(quán)利要求中所述的元件或步驟之外的元件或步驟。元件之前的冠詞“一”或“一個”不排除存在多個這樣的元件。本發(fā)明可以通過包括幾個不同元件的硬件以及通過合適編程的計算機來實現(xiàn)。

詞語“模塊”不應(yīng)被解釋為意味著功能性和硬件在設(shè)備中是可區(qū)分的。其用于指示設(shè)備包括的功能性，并且在實踐中，不同的“模塊”可以使用部分相同或完全相同的硬件和光學(xué)部件。

在列舉了幾個器件的設(shè)備權(quán)利要求中，這些器件中的幾個器件可以由同一個硬件項來體現(xiàn)。在相互不同的從屬權(quán)利要求中陳述某些措施的純粹事實并不指示不能有利地使用這些措施的組合。

附圖標記的概述

10第一射頻處理電極

15其中射頻處理電流可以流動的皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域

18第一射頻發(fā)生器

20第二射頻處理電極

25其中射頻處理電流可以流動的皮膚的第二內(nèi)部區(qū)域

28第二射頻發(fā)生器

30控制器

60皮膚

90第一處理靶標(在皮膚的第一內(nèi)部區(qū)域中)

95第二處理靶標(在皮膚的第二內(nèi)部區(qū)域中)

300雙極皮膚處理設(shè)備(第一實施例)

340返回電極

400雙極皮膚處理設(shè)備(第二實施例)

420另一返回電極—第一返回和第二處理

470電極功能控制器