本實用新型涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域，具體涉及一種注射用腦蛋白水解物凍干粉針用安瓿瓶。

背景技術(shù)：

安瓿瓶的的使用已經(jīng)極其廣泛了，傳統(tǒng)工藝的玻璃制品由于當(dāng)時電能沒有廣泛利用，所以沒有考慮到當(dāng)今如此泛濫的電磁輻射污染，而電磁輻射也是某些藥物的誘變條件之一，所以防止電磁輻射就為滿足當(dāng)今世界需要的首要課題，而傳統(tǒng)的安瓿瓶仍然存在切口碎屑入瓶這一有待解決的缺陷。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有安瓿瓶不具備防電磁輻射效果和切口玻璃碎屑入瓶兩大缺陷，本實用性型提供一種注射用腦蛋白水解物凍干粉針用安瓿瓶。

安瓿瓶包括瓶身和乳頭，所述瓶身壁內(nèi)植入金屬銅網(wǎng)，瓶身與乳頭連接處刻有三條切口刻痕，所述切口刻痕包括位于中部的虛線刻痕和位于所述虛線刻痕上下兩側(cè)的單點劃線刻痕；所述瓶身內(nèi)與切口刻痕對應(yīng)處設(shè)有防屑套。

優(yōu)選的是，所述金屬銅網(wǎng)為蜂巢網(wǎng)狀空間結(jié)構(gòu)，延伸至瓶身與乳頭的網(wǎng)狀末端直徑遞減。

優(yōu)選的是，所述乳頭靠近所述切口刻痕的一端壁內(nèi)設(shè)有金屬銅環(huán)。

優(yōu)選的是，所述防碎屑套包括內(nèi)套和套設(shè)于內(nèi)套外的外套。

優(yōu)選的是，所述內(nèi)套下底面設(shè)有外套限位沿，所述外套只能沿所述內(nèi)套單向滑動。

優(yōu)選的是，所述切口刻痕為環(huán)形陣列的盲孔，最下方的刻痕為雙點劃線刻痕。

優(yōu)選的是，所述平身底部外壁設(shè)有防靜電貼片。

該方案可以防電磁輻射，通過特種刻痕降低碎屑生成的量，通過防碎屑套進(jìn)一步阻擋飛屑入瓶。

附圖說明

圖1為實施例1的注射用腦蛋白水解物凍干粉針用安瓿瓶；

圖2為實施例2的注射用腦蛋白水解物凍干粉針用安瓿瓶；

瓶身 1、金屬銅網(wǎng) 1-1、防靜電貼片 1-2、乳頭 2、金屬銅環(huán) 2-1、切口刻痕 3、虛線刻痕 3-1、單點劃線刻痕 3-2、防屑套 4、內(nèi)套 4-1、外套 4-2、外套限位沿 4-3。

具體實施方式

實施例1

如圖1所示，一種注射用腦蛋白水解物凍干粉針用安瓿瓶，包括瓶身1和乳頭2，其特征在于，所述瓶身1壁內(nèi)植入金屬銅網(wǎng)1-1，所述瓶身與所述乳頭連接處刻有三條切口刻痕3，所述切口刻痕3包括位于中部的虛線刻痕3-1和位于所述虛線刻痕3-1上下兩側(cè)的單點劃線刻痕3-2；所述瓶身1內(nèi)與切口刻痕3對應(yīng)處設(shè)有防屑套4。

瓶壁內(nèi)設(shè)有防輻射銅網(wǎng)可以有效抵抗電磁輻射，避免內(nèi)部存放物收到電磁輻射的影響，虛線刻痕優(yōu)先斷裂，兩邊的單點劃線刻痕可以在斷面不在虛線刻痕處時發(fā)生次級斷裂，避免產(chǎn)生玻璃碎屑，防屑套可以是斷面略低于口，玻璃屑不至于到瓶內(nèi)。

實施例2

所述金屬銅網(wǎng)1-1為蜂巢網(wǎng)狀空間結(jié)構(gòu)，所述金屬銅網(wǎng)1-1延伸至所述切口刻痕3的網(wǎng)狀末端直徑遞減；所述乳頭2靠近所述切口刻痕3的一端壁內(nèi)設(shè)有金屬銅環(huán)2-1；所述防碎屑套4包括內(nèi)套4-1和套設(shè)于所述內(nèi)套4-1外的外套4-2；所述內(nèi)套4-1下端設(shè)有外套限位沿4-3；所述外套4-2只能沿所述內(nèi)套4-1單向滑動；所述切口刻痕3為環(huán)形陣列的盲孔，最下方的刻痕為雙點劃線刻痕3-3；所述瓶身1底部外壁設(shè)有防靜電貼片1-2。

蜂巢狀的銅網(wǎng)可以以最少的材料得到最大的覆蓋密度，銅網(wǎng)末梢直徑遞減可以形成電磁場干涉帶；乳頭部的金屬環(huán)可以和遞減的銅網(wǎng)末梢形成一個電磁屏蔽場；雙點劃線的刻痕可以進(jìn)一步誘導(dǎo)為下刻痕斷裂，進(jìn)一步減小碎屑飛濺高度。外套和內(nèi)套的套設(shè)可以讓斷裂碎屑沖擊外套而非內(nèi)套進(jìn)一步減小碎屑飛濺量，底部的防靜電貼片，可以進(jìn)一步避免靜電造成的小顆粒物質(zhì)電磁懸浮現(xiàn)象出現(xiàn)，避免飛屑入瓶。

本實用新型所例舉的“首、末、前、后、內(nèi)、外、上、下”等方位性描述詞語僅是為了便于說明而非對具體結(jié)構(gòu)舉例加以限定。

本實用新型不局限于上述最佳實施方式，任何人在本實用新型的啟示下都可得出其他各種形式的產(chǎn)品，但不論在其形狀或結(jié)構(gòu)上作任何變化，凡是具有與本申請相同或相近似的技術(shù)方案，均落在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。