專利名稱：一種絕緣子專用清潔劑及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清潔劑，具體地說，本發(fā)明涉及一種絕緣子專用清潔劑。
背景技術(shù)：
由J、程控交換機(jī)、移動(dòng)通訊設(shè)備、微波通訊設(shè)備、無線尋呼設(shè)備、電腦系統(tǒng)、白
動(dòng)化控制設(shè)各、影視設(shè)備、廣電設(shè)備、遙控、遙感、遙測(cè)設(shè)備、高精密儀器、家用電
器等設(shè)備在運(yùn)行過程中，時(shí)刻受到污穢及靜屯的侵害，形成屯路(板)漏電，屯化學(xué)腐蝕， 靜電放屯引起的元器件擊穿會(huì)造成元器件介質(zhì)硬,—l;-穿、燒毀或永久性失效，軟擊穿則會(huì)
造成器件性能劣化或參數(shù)指標(biāo)卜降。
電力設(shè)備事故的報(bào)木原閃是由于絕緣-f、母排、端了-、幵關(guān)、互感器、刀間、接 觸器、繼電器、觸頭等表面沉枳了污穢物質(zhì)，使絕緣性降低，泄露!ii流增大，造成短 路、電弧、散熱不良及W絡(luò)事故。由于污W跳閘后的歪合成功率很低，絕緣子的污閃 容易大面積發(fā)展，造成K時(shí)間的惡性停電事故，危苦極大。
傳統(tǒng)的電f電力設(shè)備維護(hù)技術(shù)方法冇-
1、 事后搶修，即更換硬件；
2、 停機(jī)丁作后采用皮老虎、吹風(fēng)機(jī)吹走表面浮塵，用刷子刷十.，或用揮發(fā)性、易 燃溶劑(如酒精、汽油、四氯化碳)進(jìn)行擦洗。
fl足，使用這些方法對(duì)T深層及細(xì)小罅隙的灰塵、油污、碳漬等有害物質(zhì)很難消 洗干凈，且危害性大，并且受到時(shí)間和空間的限制。
與傳統(tǒng)方法相比，采用精密電路的帶屯清洗維護(hù)技術(shù)，可以迅速、徹底清除各種 精密設(shè)備電路表向-及深層的灰塵、油污、炭漬、鹽份、潮1、金屬塵埃及各種帶屯粒 ./-，有效消除"軟性故障"，避免造成設(shè)備電路短路、電弧、散熱不良，影響信號(hào)的
準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性，保證設(shè)備最佳工作狀態(tài)和穩(wěn)定運(yùn)行，防止:歪大惡性事故發(fā)生。 但是，現(xiàn)在市場(chǎng)上使用的帶電清洗劑通常均偏酸性或堿性，揮發(fā)快，其動(dòng)態(tài)絕緣
值偏低，易造成閃絡(luò)。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種中性、去污力強(qiáng)、腐蝕性低的絕緣子專用清潔劑。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種絕緣子專用清潔劑，包含以下質(zhì)量百分比的組成成分聚乙二醇
辛基苯醚1 20%，壬基酚聚氧乙烯醚1 20%， 二氯甲烷1 3%， C5H2F10 5 20%， C3HC12F5
10 30%， C2C13H3 5 15%。
所述聚乙二醇辛基苯醚含量?jī)?yōu)選1 5%，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量?jī)?yōu)選5 10%。 所述清潔劑還包括選自以下組分的一種或多種低級(jí)烷烴、具有碳原子數(shù)為1 4
的烷基取代基的低級(jí)烷烴、低級(jí)醇類、低級(jí)烯烴。
所述低級(jí)烷烴包括庚垸0 1%、己垸0 1%、辛垸0 1%。
所述具有碳原子數(shù)為1 4的垸基取代基的低級(jí)烷烴包括甲基戊烷0 1%、甲基己 烷0 1%、 二甲基己烷0 1%、甲基庚烷0 1%、甲基環(huán)己烷0 1%、乙基戊烷0 1%、 二甲基環(huán)戊垸0 1%、四甲基丁垸0 1%、甲基乙基己烷0 1%、三甲基戊垸0 1%。
所述低級(jí)醇類包括乙醇0 1%。
所述低級(jí)烯烴包括乙烯0 1%。
所述清潔劑的PH值為6. 8 7. 2。
本發(fā)明還提供所述絕緣子專用清潔劑的制備方法，包括以下步驟將上述各組分 按比例裝入密閉容器，在溫度為20 30。C，常壓下反應(yīng)l小時(shí)。
本發(fā)明的有益效果為
本清潔劑無環(huán)境污染，腐蝕性低，物理分解能力強(qiáng)，使用安全可靠，可迅速、徹 底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒 子，有效消除"軟性故障"，保證設(shè)備的最佳工作狀態(tài)，降低維護(hù)成本，已被成功用于 潔神JS-169D絕緣子專用清潔劑中。
具體實(shí)施例方式
以下用實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作更詳細(xì)的描述。這些實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明最佳實(shí)施方 式的描述，并不對(duì)本發(fā)明的范圍有任何限制。
實(shí)施例1:
聚乙二醇辛基苯醚lkg，壬基酚聚氧乙烯醚5kg，二氯甲烷lkg，C5H2Fn)5kg，C3HCl2F5
410kg， C2C13H3 5kg。
將上述原料裝入密閉容器，在溫度25'C，常壓下反應(yīng)l小時(shí)，制得精密電路清潔劑。
實(shí)施例2:
聚乙二醇辛基苯醚20kg，壬基酚聚氧乙烯醚20kg， 二氯甲垸3kg， C5H2Fuj20kg， C3HC12F5 20kg， C2C13H3 15kg。 制備方法同實(shí)施例1。
實(shí)施例3:
聚乙二醇辛基苯醚15kg，壬基酚聚氧乙烯醚10kg， 二氯甲烷2kg， C5H2Fu)10kg， C3HC12F5 30kg， C2C13H3 10kg,甲基戊烷0. 5kg，甲基戊垸0. 5kg，乙醇0. 5kg，乙基 戊烷0.5kg、庚烷O. 5kg。
制備方法同實(shí)施例1。
實(shí)施例4:
聚乙二醇辛基苯醚18kg，壬基酚聚氧乙烯醚14kg， 二氯甲烷3kg， C^Fu)18kg， C3HC12F5 25kg， C2C13H3 12kg,甲基己垸0. 5kg，己烷0. 5kg，甲基庚垸lkg， 二甲基 環(huán)戊烷0.5kg，甲基乙基己垸0.5kg，三甲基戊垸lkg。
制備方法同實(shí)施例1。
實(shí)施例5:
聚乙二醇辛基苯醚12kg，壬基酚聚氧乙烯醚10kg， 二氯甲垸2kg， C5H2F1() 20kg， C3HC12F5 28kg， C2C13H3 10kg， 二甲基己垸lkg，甲基戊垸0. 5kg、乙烯lkg、四甲基 丁烷0.5kg，辛垸lkg。
制備方法同實(shí)施例l。
本清潔劑無環(huán)境污染，腐蝕性低，物理分解能力強(qiáng)，使用安全可靠，可迅速、徹 底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒 子，有效消除"軟性故障"，保證設(shè)備的最佳工作狀態(tài)，降低維護(hù)成本，已被成功用 于潔神JS-169D絕緣子專用清潔劑中。
權(quán)利要求
1、一種清潔劑，其特征在于，包含以下質(zhì)量百分比的組成成分聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，二氯甲烷1～3％，C5H2F10 5～20％，C3HCl2F5 10～30％，C2Cl3H3 5～15％。
2、 如權(quán)利要求1所述的保潔劑，其特征在于，所述聚乙二醇辛基苯醚含量為l 5%，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量為5 10%。
3、 如權(quán)利要求1所述的清潔劑，其特征在于，還包括選自以下組分的一種或多種 低級(jí)烷烴、具有碳原子數(shù)為1 4的垸基取代基的低級(jí)垸烴、低級(jí)醇類、低級(jí)烯烴。
4、 如權(quán)利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級(jí)烷烴包括庚垸0 1%、己 烷0 1%、辛烷0 1%。
5、 如權(quán)利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述具有碳原子數(shù)為1 4的垸基 取代基的低級(jí)烷烴包括甲基戊垸0 1%、甲基己垸0 1%、 二甲基己垸0 1%、甲基庚 烷0 1%、甲基環(huán)己烷0 1%、乙基戊垸0 1%、 二甲基環(huán)戊垸0 1%、四甲基丁烷0 1%、甲基乙基己烷0 1%、三甲基戊烷0 1%。
6、 如權(quán)利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級(jí)醇類包括乙醇0 1%。
7、 如權(quán)利要求l所述的清潔劑，其特征在于，所述低級(jí)烯烴包括乙烯0 1%。
8、 如權(quán)利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述清潔劑的PH值為6. 8 7. 2。
9、 權(quán)利要求1所述清潔劑的制備方法，該清潔劑包含以下質(zhì)量百分比的組成成分: 聚乙二醇辛基苯醚1 20%，壬基酚聚氧乙烯醚1 20%， 二氯甲垸1 3%， C5H2F1Q 5 20%， C3HC12F5 10 30%， C2C13H3 5 15%，所述制備方法包括以下步驟將上述各組分 按比例裝入密閉容器，在溫度為20 30。C，常壓下反應(yīng)l小時(shí)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種絕緣子專用清潔劑，包含以下質(zhì)量百分比的組成成分聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，二氯甲烷1～3％，C₅H₂F₁₀ 5～20％，C₃HCl₂F₅10～30％，C₂Cl₃H₃ 5～15％。本發(fā)明還提供該絕緣子專用清潔劑的制備方法，包括以下步驟將上述各組分按比例裝入密閉容器，在溫度為20～30℃，常壓下反應(yīng)1小時(shí)。本清潔劑無環(huán)境污染，腐蝕性低，物理分解能力強(qiáng)，使用安全可靠，可迅速、徹底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒子，有效消除“軟性故障”，保證設(shè)備的最佳工作狀態(tài)，降低維護(hù)成本。
文檔編號(hào)C11D1/66GK101629129SQ20081004364
公開日2010年1月20日 申請(qǐng)日期2008年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月18日
發(fā)明者張思平 申請(qǐng)人:張思平