專利名稱：：掩模相關(guān)基板的洗凈方法、洗凈方法及洗凈液供給裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，特別涉及一種用以除去附著在掩模相關(guān)基板的表面上的硫酸離子、或是抑制微粒的發(fā)生的技術(shù)。
背景技術(shù)：
：以IC、LSI、VLSI等的半導(dǎo)體集成電路的制造為首，被使用于廣范圍的用途中的掩模，基本上，是根據(jù)以下方式來(lái)獲得在透光性基板(掩模用基板)上，先成膜由金屬或含有金屬化合物的薄膜所構(gòu)成的遮光膜，而作成空白掩模，然后使用電子束微影法來(lái)將該空白掩模的該遮光膜，加工成規(guī)定的遮光膜圖案。近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體集成電路的高集積化等的市場(chǎng)要求，圖案的微細(xì)化也急速地進(jìn)展，相對(duì)于此，為了提高曝光步驟中的光阻分辨率，是根據(jù)謀求曝光波長(zhǎng)的短波長(zhǎng)化及增大透鏡的開口數(shù)來(lái)加以對(duì)應(yīng)。在上述半導(dǎo)體集成電路的制造等之中所使用的微影法，是使用一種掩模，是作為原圖而將電路圖案轉(zhuǎn)印在光阻上，且相對(duì)于曝光光源，在透明的基板上，根據(jù)金屬化合物而形成有遮光部。但是，若掩模逐漸使用于極微細(xì)的圖案的曝光時(shí)，即便是極微細(xì)的異物及霧狀(模糊不清)也會(huì)成為缺陷，所以掩模及用以制造掩模的材料，要求極高的潔凈性。掩模，不論是具有將曝光光源幾乎完全地遮斷的遮光部的二進(jìn)制掩模；或是一邊使光減衰一邊相對(duì)于光透過部使光的相位反轉(zhuǎn)，并根據(jù)曝光光源的繞射(diffraction)來(lái)防止明暗對(duì)比降低的半色調(diào)相位移掩模(halftonephaseshiftmask)等，都已經(jīng)實(shí)用化。這些掩模，是在石英或CaF2等的透明基板上，具有鉻化合物或金屬硅化合物的遮光部。又，掩模，是先在上述般的透明基板上，成膜上數(shù)遮光膜材料的薄膜，然后根據(jù)電子束微影法等，在其上形成光阻圖案，并根據(jù)蝕刻來(lái)將圖案轉(zhuǎn)印在遮光材料上這樣的順序，而制作出來(lái)，但是如上所述，由于要求極高潔凈度，所以在各步驟中，要進(jìn)行極嚴(yán)格的洗凈。然而，作為曝光光源，若使用ArF準(zhǔn)分子激光這樣的高能量線，則由于殘留在基板上的硫酸離子與銨離子而會(huì)生成硫酸銨的微小結(jié)晶，且發(fā)現(xiàn)此微小結(jié)晶會(huì)變成微粒，并作為缺陷來(lái)計(jì)算其數(shù)量，因而成為問題(例如參照日本特開2005-202135號(hào)公報(bào))。利用加溫后的純水來(lái)沖淋掩模材料的方法，本案申請(qǐng)人已經(jīng)在日本特開2004-19994號(hào)公報(bào)中提出申請(qǐng)，此種使用溫水的方法，相較于使用常溫的水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況，除去硫酸離子的效果高，此已經(jīng)揭示于日本特開2004-53817號(hào)公報(bào)中。然而，即便是如此地使用加溫后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況，在基板干燥后，也會(huì)發(fā)生微粒。又，用以制造空白掩模的石英、Ca&等的基板、或是空白掩模的洗凈，當(dāng)使用界面活性劑來(lái)進(jìn)行洗凈之后，使用惰性水或臭氧水來(lái)進(jìn)行多段的洗凈，并根據(jù)需要，在各階段中，使用超純水來(lái)進(jìn)行沖淋(例如參照日本特開2001-96241號(hào)公報(bào)或特開2002-151453號(hào)公報(bào)等)。另一方面，即便是如上述般地進(jìn)行多段的洗凈后的情況，所得到的基板，并非一定是潔凈的，而是常會(huì)發(fā)生微細(xì)異物。例如，當(dāng)干燥方法不適當(dāng)?shù)那闆r，也有在使水滴干燥時(shí)，發(fā)生污染(異物)的情況(參照日本特開2004-19993號(hào)公報(bào))。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是基于此種問題點(diǎn)而發(fā)明出來(lái)，其目的是提供一種洗凈方法及用以將洗凈液供給至洗凈裝置中的洗凈液供給裝置；該洗凈方法，在洗凈從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)的掩模相關(guān)基板的情況，能利用簡(jiǎn)便的方法來(lái)提高對(duì)于硫酸離子的洗凈效率，進(jìn)而能極度地減少微小異物(微粒)的發(fā)生量。為了解決此問題，本發(fā)明提供一種掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其特征在于當(dāng)根據(jù)純水來(lái)洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)的掩模相關(guān)基板時(shí)，對(duì)在該洗凈中所使用的純水，預(yù)先進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟。若是此種本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，當(dāng)利用純水來(lái)洗凈被硫酸離子污染后的掩模相關(guān)基板時(shí)，由于對(duì)在洗凈中所使用的純水，預(yù)先進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟，所以能供給脫氣后的純水來(lái)作為洗凈液，可有效率地除去例如以大氣中的二氧化硫等為原因而附著在掩模相關(guān)基板上的硫酸離子。并且，能簡(jiǎn)便地進(jìn)行。以往，為了除去硫酸離子，也有使用將純水加溫的方法，但是若是使用本發(fā)明，即便沒有特意地加溫純水，也能充分地除去硫酸離子。因此，特別是能顯著地抑制起因于硫酸離子而發(fā)生的微粒，而可提供一種高質(zhì)量的掩模相關(guān)基板。此時(shí)，對(duì)在上述洗凈中所使用的純水，能預(yù)先進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟與加溫的加溫步驟。若是此種本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，當(dāng)利用純水來(lái)洗凈被硫酸離子污染后的掩模相關(guān)基板時(shí)，由于對(duì)在洗凈中所使用的純水，預(yù)先進(jìn)行將純水加溫的加溫步驟，亦即供給加溫后的純水來(lái)作為洗凈液，所以能有效率地除去例如以大氣中的二氧化硫等為原因而附著在掩模相關(guān)基板上的硫酸離子。而且，由于也進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟，所以能更有效率地除去硫酸離子。在已洗凈的基板干燥后，發(fā)生在基板表面上的微粒，能進(jìn)一步地抑制其發(fā)生。以往的使用加溫后的純水來(lái)進(jìn)行的洗凈，在基板干燥后，會(huì)發(fā)生微粒，但是在本發(fā)明中，所使用的純水，不僅是經(jīng)過加溫步驟，且也經(jīng)過脫氣步驟，所以能除去硫酸離子，且在已利用加溫水洗凈并干燥后的基板上發(fā)生微粒的情況，可加以抑制。并且，能簡(jiǎn)便地進(jìn)行。此時(shí)，進(jìn)行上述加溫步驟，能將在上述洗凈中所使用的純水，加熱至55°C以上。若使用55t:以上的加溫后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈，公知的方法中，在基板干燥后，容易發(fā)生微粒，但是若是本發(fā)明的洗凈方法，則即便是加溫至如此的溫度的情況，在已洗凈并干燥后的基板上發(fā)生微粒的情況，也能加以抑制。而能更有效地獲得本發(fā)明的效果。特別是，要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板，能設(shè)為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的基板。如此，要根據(jù)純水來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板，首先利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的基板，所以能有效地除去掩模相關(guān)基板表面上的有機(jī)物，且成本低。而且，本發(fā)明的洗凈方法，對(duì)于此種已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的掩模相關(guān)基板，也是有效的，即便由于硫酸等的殘?jiān)?，硫酸離子附著在基板表面上，也可有效率地除去該硫酸離子。此時(shí)，當(dāng)要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈時(shí)，理想是對(duì)上述掩模相關(guān)基板噴淋純水，來(lái)實(shí)行洗凈。進(jìn)行脫氣步驟后的純水，在脫氣后，理想的是盡可能地縮短與空氣或其它氣體接觸的時(shí)間，以此種狀態(tài)來(lái)進(jìn)行洗凈。因此，若是根據(jù)此種噴淋來(lái)進(jìn)行洗凈，則也可降低與空氣等接觸的時(shí)間，而能有效地利用根據(jù)溶解氣體的脫氣而可得到的效果，也就是效率佳地除去硫酸離子的效果，因而能更提高洗凈效率。又，上述脫氣步驟，理想是使用氣液分離膜。如此，若使用氣液分離膜來(lái)進(jìn)行脫氣步驟，則不易受到微?；螂x子的污染，且能有效率地將大量的純水脫氣。并且，理想是進(jìn)行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度，作成lppm以下。以溶解氣體的脫氣狀態(tài)作為標(biāo)準(zhǔn)，能將溶解氧作為指標(biāo)。通常，當(dāng)沒有對(duì)純水作特別的處理時(shí)，溶解氧濃度是8ppm左右，但是根據(jù)進(jìn)行脫氣步驟來(lái)作成lppm以下，可更有效果地除去硫酸離子。又，對(duì)在上述洗凈中所使用的純水，能更進(jìn)行利用過濾器來(lái)除去異物的異物除去步驟。若進(jìn)而進(jìn)行此種使用過濾器的異物除去步驟，能除去含在純水中的微細(xì)異物，對(duì)于洗凈后的基板，也能抑制起因于這些異物而發(fā)生的缺陷。根據(jù)此種本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，對(duì)于被硫酸離子污染后的掩模相關(guān)基板，根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈，便能除去附著在上述掩模相關(guān)基板的表面上的硫酸離子。而且，能效率佳且簡(jiǎn)便地除去。又，本發(fā)明提供一種洗凈方法，是將洗凈液供給至洗凈裝置中，來(lái)洗凈被洗凈基板的洗凈方法，其特征在于當(dāng)利用用以除去異物的過濾器來(lái)過濾上述洗凈液，并將該過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少在將上述過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，才將上述過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中。若是此種洗凈方法，在將過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，才將過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中，所以在停止將洗凈液往洗凈裝置供給的期間，即便在過濾后而滯留的洗凈液中發(fā)生微細(xì)氣泡，也能預(yù)先將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往系統(tǒng)外部排出。以此，當(dāng)將洗凈液往洗凈裝置供給時(shí)，相較于公知技術(shù)，能更抑制洗凈液中的微細(xì)氣泡的量，而能顯著地抑制由于基板的洗凈所帶來(lái)的起因于微細(xì)氣泡而發(fā)生的微小的異物缺陷，并能提高生產(chǎn)性、合格率。特別希望當(dāng)使上述過濾后的洗凈液通過供給管供給至上述洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少先將上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，直到將上述過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至上述洗凈裝置中為止，從上述排出管持續(xù)排出洗凈液。若是此種洗凈方法，先將過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，直到將過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至洗凈裝置中為止，從排出管持續(xù)排出洗凈液，所以即便在過濾后而滯留的洗凈液中發(fā)生微細(xì)氣泡，也能將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往系統(tǒng)外部排出。以此，能防止將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。因此，能更進(jìn)一步地抑制由于基板的洗凈所帶來(lái)的起因于微細(xì)氣泡而發(fā)生的微小的異物缺陷，并能提高生產(chǎn)性、合格率。此時(shí)，在開始供給上述過濾后的洗凈液后，能一邊通過上述供給管來(lái)供給過濾后的洗凈液，一邊同時(shí)地通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。若如此進(jìn)行，能更確實(shí)地防止洗凈液滯留、抑制氣泡的發(fā)生，而可將未含有氣泡的洗凈液提供至洗凈裝置中。又，當(dāng)停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，能通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。若如此進(jìn)行，利用過濾器過濾后的洗凈液，即便是在停止供給至洗凈裝置中的時(shí)候，也會(huì)被排出至系統(tǒng)外部，所以事實(shí)上能消除過濾后的洗凈液發(fā)生滯留的可能性，而在下次供給時(shí)，能抑制發(fā)生微細(xì)的氣泡。進(jìn)而，直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，能通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出上述過濾后的洗凈液。若如此進(jìn)行，使過濾后的洗凈液不會(huì)滯留，而且將洗凈液往系統(tǒng)外部排出的控制極為容易，所以能使作業(yè)簡(jiǎn)便化。又，當(dāng)要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，上述排出管的入口的高度位置，理想是設(shè)成比上述供給管的入口的高度位置更高。若如此地設(shè)定，在過濾后的洗凈液中所發(fā)生的微細(xì)氣泡，能將其更有效率地往排出管導(dǎo)引，并能更進(jìn)一步地防止將含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置中。并且，能將上述被洗凈基板，設(shè)為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。如此，對(duì)于這些需要精密的洗凈的基板，若應(yīng)用本發(fā)明的洗凈方法，則能因應(yīng)市場(chǎng)的要求，相較于公知的基板，提供一種異物發(fā)生量較少的基板。上述這些本發(fā)明的洗凈方法，能將上述純水設(shè)為超純水。由于微細(xì)氣泡所造成的洗凈不良，特別是利用超純水來(lái)實(shí)行沖淋時(shí)，容易引起，在根據(jù)超純水的洗凈中，根據(jù)應(yīng)用本發(fā)明，能強(qiáng)力地抑制在洗凈時(shí)所發(fā)生的微細(xì)異物。又，本發(fā)明提供一種洗凈液供給裝置，是將洗凈液供給至用以洗凈被洗凈基板的洗凈裝置中的洗凈液供給裝置，其特征在于至少具備用以從上述洗凈液除去異物的過濾器、用以將上述洗凈液供給至上述洗凈裝置中的供給管、用以將上述洗凈液往系統(tǒng)外部排出的排出管、及分別被配設(shè)在上述供給管與排出管上來(lái)控制上述洗凈液的液量的閥；上述供給管與上述排出管，被連接在上述過濾器的更下游側(cè)，并根據(jù)上述供給管與排出管的各個(gè)閥的開閉，將利用上述過濾器而被過濾后的洗凈液，往上述洗凈裝置供給及/或往系統(tǒng)外部排出。若是此種洗凈液供給裝置，不僅是可將利用過濾器過濾后的洗凈液，往洗凈裝置供給，也可以往系統(tǒng)外部排出。因此，例如即便在過濾后而滯留的洗凈液中發(fā)生微細(xì)氣泡，也能將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往系統(tǒng)外部排出，并能防止將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。以此，在基板上所發(fā)生的微小的異物缺陷，能顯著地加以抑制，并能提高生產(chǎn)性、合格率。此時(shí)，在上述供給管與上述排出管的連接部，排出管的入口的高度位置，理想是設(shè)成比供給管的入口的高度位置更高。若是此種裝置，在過濾后的洗凈液中所發(fā)生的微細(xì)氣泡，容易往排出管引導(dǎo)，因而能更有效果地防止將含有氣泡的洗凈液往洗凈裝置供給。又，理想的是配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼，通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內(nèi)；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統(tǒng)外部排除。若是此種裝置，在包圍過濾器殼的殼內(nèi)的洗凈液中的氣泡，能將其往系統(tǒng)外部排除。因此，利用過濾器過濾而要往洗凈裝置供給的洗凈液的氣泡量，能更降低。又，能抑制由于氣泡而造成的過濾能力降低或發(fā)塵。而且，上述被洗凈基板，能設(shè)為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。被洗凈基板若是此種基板，則這些基板是極度希望有精密的洗凈，因應(yīng)市場(chǎng)的要求，相較于公知技術(shù)，本發(fā)明可提供一種異物發(fā)生量少的洗凈后的基板。又，上述洗凈液若是超純水，則在根據(jù)超純水來(lái)實(shí)行洗凈時(shí)，特別容易發(fā)生的微細(xì)異物，能強(qiáng)力地抑制其發(fā)生。若是本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，可根據(jù)簡(jiǎn)便的方法，有效率地除去原本是難以除去的硫酸離子；這些硫酸離子是以大氣中的二氧化硫等為原因、或是在進(jìn)行根據(jù)硫酸等而實(shí)行的處理后，附著在掩模相關(guān)基板的表面上。進(jìn)而，使用加溫后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況，在基板干燥后所產(chǎn)生的微粒，也能抑制其發(fā)生。又，若是本發(fā)明的洗凈方法，起因于過濾后的洗凈液中的氣泡而發(fā)生的微小異物，能極強(qiáng)力地抑制其發(fā)生，所以在洗凈后，可得到一種由于微粒而造成的污染少的基板，并能提高生產(chǎn)性、合格率。又，若是本發(fā)明的洗凈液供給裝置，不僅是能將過濾后的洗凈液，往洗凈裝置供給，也能往系統(tǒng)外部排出，并能防止將含有該微細(xì)氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。因此，在基板的洗凈中所發(fā)生的微小的異物，能顯著地抑制其發(fā)生，而能進(jìn)行精密的洗凈。圖1是概要性地表示能實(shí)施本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法的洗凈系統(tǒng)的一個(gè)例子的概要圖。圖2是概要性地表示能實(shí)施本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法的其它洗凈系統(tǒng)的一個(gè)例子的概要圖。圖3是概要性地表示洗凈裝置、本發(fā)明的洗凈液供給裝置的一個(gè)例子的概要圖。圖4是概要性地表示本發(fā)明的洗凈液供給裝置的另外實(shí)施形態(tài)的一個(gè)例子的概要圖。圖5是概要性地表示本發(fā)明的洗凈液供給裝置的另外實(shí)施形態(tài)的一個(gè)例子的概要圖。具體實(shí)施例方式以下，說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)，但本發(fā)明并未被限定于此實(shí)施形態(tài)。首先，特別是對(duì)于硫酸離子的污染，敘述有關(guān)本發(fā)明中的掩模相關(guān)基板的洗凈方法。若對(duì)掩模照射ArF準(zhǔn)分子激光，則在已被硫酸離子污染的情況下，會(huì)形成硫酸銨的微小結(jié)晶而成為缺陷。此硫酸離子的來(lái)源，雖然沒有特定，理想是將掩模表面的硫酸離子量抑制成較少量，又，制造中間體，理想的是被洗凈成沒有被硫酸離子污染的狀態(tài)，使其不會(huì)成為硫酸離子源。另一方面，本發(fā)明人深入研究有關(guān)此硫酸離子時(shí)，發(fā)現(xiàn)即便是正在進(jìn)行著控制氣氛中所包含的酸性氣體的潔凈室內(nèi)，在保管石英基板的情況，雖然沒有觀察到硫酸離子量的增加，但是，特別是在保管已成膜有鉻系材料膜或金屬硅化物系的膜而成的掩模相關(guān)基板的情況，即便是已暫時(shí)潔凈化后的基板，經(jīng)過一段時(shí)間，便會(huì)從表面觀測(cè)到硫酸離子。因此，為了得到一種由硫酸離子所引起的污染少的掩模，包含空白掩模的制造中間體，理想是在制造步驟的各階段中，進(jìn)行用以除去硫酸離子的洗凈操作。此硫酸離子，已知一旦附著上便難以除去。例如在日本特開2004-53817號(hào)公報(bào)中，揭示出利用加溫后的純水來(lái)實(shí)行洗凈是有效的，但是根據(jù)本發(fā)明人的調(diào)查結(jié)果，若加溫洗凈水，則會(huì)產(chǎn)生因與硫酸離子相異的原因而引起微粒污染的情況。另一方面，為了簡(jiǎn)便地除去已附著在掩模相關(guān)基板的表面上的有機(jī)物等的異物，利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)進(jìn)行處理，是有效的。因此，本發(fā)明人認(rèn)為大氣中的二氧化硫等、或是利用含有硫酸或硫酸鹽之類的材料來(lái)進(jìn)行基板表面的處理而在進(jìn)行有機(jī)物等的異物的除去后的殘?jiān)歉街诨灞砻嫔系牧蛩犭x子的來(lái)源的例子，因而特別注意到在上述利用硫酸等而實(shí)行的處理后，利用純水來(lái)實(shí)行的洗凈。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)以下的事實(shí)而完成本發(fā)明，亦即，在加溫純水的供給步驟中，利用嘗試錯(cuò)誤的方法，廣范圍地嘗試試驗(yàn)時(shí)，在將純水供給至洗凈裝置的步驟中，若加進(jìn)脫氣步驟，來(lái)使純水中的溶解氣體脫氣，則能效率佳地除去硫酸離子；又，即便是使用加溫后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況，也能抑制上述微粒的發(fā)生。以往，已知有在日本特開11-302689號(hào)公報(bào)中所揭示的方法，如這種方法所述，為了強(qiáng)化洗凈力，以往一直經(jīng)常采用將氣體添加在純水中，但是本調(diào)查結(jié)果則出乎意料。以下，一邊參照附圖一邊詳細(xì)地說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，但本發(fā)明并未被限定于此說(shuō)明。首先，說(shuō)明有關(guān)采用純水的洗凈系統(tǒng)。在實(shí)施本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法時(shí)，能使用此洗凈系統(tǒng)。在圖1中，表示該洗凈系統(tǒng)的一個(gè)例子的概要。另外，一并表示一種表面處理裝置，其利用含有硫酸或硫酸鹽的材料，來(lái)施行掩模相關(guān)基板的表面處理、洗凈。另外，所謂的掩模相關(guān)基板，是從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)。更具體而言，可以舉出用以制造掩模的石英、氟化鈣等的相對(duì)于曝光光源是透明的掩模用基板及由此基板加工而成的基板。又，可舉出在透明基板上，已成膜有金屬化合物系材料膜而成的空白掩?；蚴瞧渲圃熘虚g體。該金屬化合物系材料，例如是過渡金屬化合物，特別是鉻、鈦、鎢、鉭、鈮等的金屬氧化物、金屬氮氧化物、金屬碳氧化物、金屬碳氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮氧化物等。又，同樣地，可舉出在透明基板上，已成膜有過渡金屬硅化合物材料膜而成的空白掩模或是其制造中間體。該過渡金屬硅化合物材料，例如是含有過渡金屬與硅的化合物，特別是含有鉬、鋯、鉭、鈦的硅氧化物、硅氮氧化物、硅碳氧化物、硅氮化物、硅碳氮化物、硅碳氮氧化物等。進(jìn)而，同樣地，可舉出在透明基板上，已成膜有硅化合物膜而成的空白掩?；蚴瞧渲圃熘虚g體。該硅化合物，例如是硅氧化物、硅氮氧化物、硅碳氧化物、硅氮化物、硅碳氮化物、硅碳氮氧化物等。又，本發(fā)明的洗凈方法，理想是應(yīng)用在對(duì)于掩模或是其制造中間體的洗凈；該掩模，典型地，是在上述空白掩模上，先使用電子束光阻來(lái)形成圖案，然后將光阻圖案作為蝕刻掩模，根據(jù)干式蝕刻或濕式蝕刻，將圖案轉(zhuǎn)印而成。成為對(duì)象的掩模，不論是二進(jìn)制掩模、半色調(diào)相位移掩模(halftonephaseshiftmask)或是雷文生型相位移掩模(levensonphaseshiftmask)，只要是具有由上述膜材料所產(chǎn)生的圖案，便可加以應(yīng)用。如圖1所示，此洗凈系統(tǒng)1主要具有用以制造純水的純水制造裝置2，該純水是用于洗凈掩模相關(guān)基板；脫氣裝置3，用以使制造出來(lái)的純水中的溶解氣體脫氣；過濾器4，用以除去純水中的微細(xì)異物；及噴嘴(使用場(chǎng)所)，用以將純水向掩模相關(guān)基板噴出。另外，在圖1中，是構(gòu)成純水，可通過脫氣裝置3之后，經(jīng)過過濾器4，而供給至使用場(chǎng)所。但是，也可相反地配置此脫氣裝置3與過濾器4。此處，純水制造裝置2，并沒有特別地限定，例如，能采用在掩模相關(guān)基板的洗凈中所使用的一般的純水制造裝置2。典型地，能作成具備離子交換裝置、逆滲透裝置、紫外線(UV)照射裝置、脫泡裝置。根據(jù)此純水制造裝置2，能制造出所謂的超純水。又，脫氣裝置3也沒有特別地限定，基本上，只要是能脫氣并可維持純水的潔凈度的脫氣裝置，便可加以采用，但是，理想的是如圖1所示般地能容易地裝配在純水的供給管路中，并能以連續(xù)的方式來(lái)進(jìn)行脫氣的脫氣裝置。例如，只要是根據(jù)純水通過直接減壓氣氛中來(lái)進(jìn)行脫氣的真空脫氣裝置，便能將溶解氧脫氣成降低至0.5ppm左右的程度。又，在使槽內(nèi)減壓的狀態(tài)下，若是一邊施加超音波一邊使純水通過，則更能有效率地進(jìn)行脫氣。而且，作為可最有效率地進(jìn)行脫氣的裝置，可舉出具備有氣液分離膜的脫氣裝置。根據(jù)此氣液分離膜而構(gòu)成的脫氣裝置，例如，如圖1所示，可舉出一種脫氣裝置，其具備氣液分離膜亦即中空絲膜6、包圍該中空絲膜的槽7、及用以使該槽內(nèi)減壓的真空泵8。根據(jù)此裝置，可根據(jù)真空泵8來(lái)使槽7的內(nèi)部氣氛減壓，并可使純水在中空絲膜6中流動(dòng)，而可將溶解氣體從純水中脫氣。采用中空絲膜的模塊，在市場(chǎng)上有販賣；作為氣液分離膜的材質(zhì)，可采用聚烯烴、氟化聚烯烴、硅樹脂等。能配合條件，每次選擇適當(dāng)?shù)牟馁|(zhì)。根據(jù)使用此種氣液分離膜，例如若是溶解氧濃度，則可降低至0.lppm以下。并且，過濾器4，只要能除去純水中的微細(xì)異物便可以，沒有特別限定。例如，能使用在市場(chǎng)上販賣的過濾器。能適當(dāng)?shù)剡x擇不易產(chǎn)生發(fā)塵等的過濾器。如此，洗凈系統(tǒng)l，經(jīng)過以上的各種裝置，便可以從洗用場(chǎng)所，將純水供給至被洗凈基板亦即掩模相關(guān)基板，且不限于上述裝置，也能根據(jù)需要而更追加適當(dāng)?shù)难b置。例如，為了使在通過此洗凈系統(tǒng)1中發(fā)生于純水中的微細(xì)氣泡，排出至系統(tǒng)外部，也可配置氣液分離器或間歇閥等。另外，要根據(jù)此種洗凈系統(tǒng)1來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板，例如是由于大氣中的二氧化硫而使其表面被硫酸離子污染的基板；或是在圖1所示的表面處理裝置5中，預(yù)先根據(jù)硫酸等來(lái)處理其表面后的基板。表面處理裝置5，沒有特別限制，只要是能對(duì)掩模相關(guān)基板進(jìn)行通常的表面處理(使用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)進(jìn)行)的裝置，便可以。又，能使用圖2所示的洗凈系統(tǒng)l'。此洗凈系統(tǒng)l'，主要具有用以制造純水的純水制造裝置2，該純水是用于洗凈掩模相關(guān)基板；脫氣裝置3，用以使制造出來(lái)的純水中的溶解氣體脫氣；加溫手段(加熱線(lineheater)9、加溫機(jī)10);過濾器4，用以除去純水中的微細(xì)異物；及噴嘴(使用場(chǎng)所)，用以將純水向掩模相關(guān)基板噴出。另外，在圖2中，作為加溫手段，配置了加熱線9、以及與此相異的加溫機(jī)10，除此以外，也能更配置其它的加溫機(jī)，或是僅配置加溫線9。只要是能將用于洗凈的純水加溫至規(guī)定的設(shè)定溫度便可以，并沒有特別限定用以加溫的手段的數(shù)量等。而且，在圖2中，是構(gòu)成純水，可通過脫氣裝置3之后，利用加溫機(jī)10和加熱線9加溫，然后經(jīng)過過濾器4，而供給至使用場(chǎng)所。但是，此脫氣裝置3、加熱線9、加溫機(jī)10及過濾器4的配置，能適當(dāng)?shù)丶右蕴鎿Q。作為加溫純水的加熱手段，如圖2所示，除了配置加熱線9以外，也可配置有加溫機(jī)10。加溫的方法沒有特別限定，可設(shè)為不易產(chǎn)生異物等，并能適當(dāng)?shù)丶訙刂猎O(shè)定溫度的方法。例如，可舉出根據(jù)電阻加熱的方法、或是根據(jù)熱交換器加熱的方法等。又，根據(jù)利用計(jì)算機(jī)等來(lái)控制這些加溫手段，便能簡(jiǎn)單且更確實(shí)地將純水加溫至設(shè)定溫度。另外，其它的構(gòu)成，例如能設(shè)成與圖1的洗凈系統(tǒng)1相同。接著，說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的掩模相關(guān)基板的洗凈方法。此處，首先說(shuō)明有關(guān)一種使用了圖l所示的洗凈系統(tǒng)l的洗凈方法，但本發(fā)明并未限定于此種方法。至少被洗凈基板亦即掩模相關(guān)基板，被硫酸離子污染，而只要使用一種已進(jìn)行脫氣步驟而將溶解氣體脫氣后的純水，來(lái)進(jìn)行洗凈便可以。作為一個(gè)例子，先利用含有硫酸、硫酸基的材料來(lái)處理掩模相關(guān)基板的表面，然后使用脫氣純水，便能洗凈由于該殘?jiān)榷涣蛩犭x子污染的基板；若有需要，能更追加其它的處理。例如，也能先施行由硫酸等所實(shí)行的處理，然后如以往般地進(jìn)行純水洗凈等之后，再進(jìn)行根據(jù)脫氣后的純水所實(shí)行的洗凈。以下，說(shuō)明有關(guān)在如上述般地根據(jù)硫酸等來(lái)實(shí)行處理之后，使用脫氣純水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況。然而，除此以外，作為本發(fā)明，也可舉出利用脫氣純水來(lái)洗凈例如由于大氣中的二氧化硫，其表面被硫酸離子污染后的掩模相關(guān)基板的方法。首先，準(zhǔn)備被洗凈基板亦即掩模相關(guān)基板。此掩模相關(guān)基板，可舉出上述的基板，根據(jù)表面處理裝置5，利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)施行表面處理。如此，根據(jù)利用硫酸等來(lái)施行的表面處理，例如，可有效率地進(jìn)行光阻膜的剝離或是除去附著在表面上的有機(jī)物。然后，施行上述的表面處理后，將掩模相關(guān)基板，往洗凈系統(tǒng)1搬送，并利用后述的方法，根據(jù)所準(zhǔn)備的純水，作為洗凈液，來(lái)進(jìn)行最終洗凈。以下，敘述有關(guān)使用洗凈系統(tǒng)1的洗凈。首先，根據(jù)純水制造裝置2，經(jīng)過離子交換等來(lái)準(zhǔn)備所謂的超純水。之后，將制造出來(lái)的純水，送至脫氣裝置3，將純水中的溶解氣體脫氣(脫氣步驟)。此溶解氣體的脫氣方法并沒有限定，特別理想是使用氣液分離膜來(lái)進(jìn)行。使純水在氣液分離膜亦即中空絲膜6之中流動(dòng)，并沿著膜而使純水通過該膜，此時(shí)，利用真空泵8來(lái)將槽7內(nèi)部的氣氛減壓，以此可從通過中空絲膜6之中的純水中，將溶解氣體脫氣。如此，若使用氣液分離膜來(lái)將溶解氣體脫氣，例如，只要使用循環(huán)水式的真空泵8來(lái)進(jìn)行減壓，能使在常態(tài)下含有8ppm的溶解氧濃度，降低至lppm以下，更進(jìn)一步，若使用油泵等的高性能真空泵，則能更進(jìn)一步地減壓，而可使溶解氧濃度，降低至0.lppm以下。并且，不易受到微粒等的污染，能有效率地施行大量純水的脫氣處理。而且，特別是以溶解氧濃度來(lái)控制脫氣狀態(tài)的情況，根據(jù)作成O.lppm以下，能顯著地除去硫酸離子。又，除了上述使用氣液分離膜的脫氣方法以外，根據(jù)使純水通過已將氣氛減壓后的槽內(nèi)、或是進(jìn)一步地一邊施加超音波一邊使純水通過減壓后的槽內(nèi)，也可以進(jìn)行脫氣。又，也可以組合這些脫氣方法。接著，使脫氣后的純水，通過過濾器4，除去含在純水中的微細(xì)異物(異物除去步驟)。以此，可抑制起因于此微細(xì)異物而發(fā)生的微粒。能進(jìn)行使用了過濾器4的與以往相同的異物除去方法。另外，理想是如圖l所示，在脫氣步驟之后，進(jìn)行用以除去異物的過濾步驟，但此順序并沒有限定，也可以相反。如上所述，至少預(yù)先將已使溶解氣體脫氣后的純水供給至噴嘴，然后從該噴嘴噴出，以此，先前已經(jīng)利用硫酸等來(lái)施行處理后的掩模相關(guān)基板，可對(duì)其進(jìn)行洗凈。此時(shí)，若直接將純水噴在掩模相關(guān)基板上來(lái)進(jìn)行沖淋，從噴嘴噴出的脫氣后的純水，能以接觸空氣或其它氣體的時(shí)間短的狀態(tài)，噴在基板上，來(lái)進(jìn)行洗凈。也就是說(shuō)，脫氣后，能以溶解氣體的量維持在少的狀態(tài)下，來(lái)洗凈基板。因此，能更提高根據(jù)脫氣所得到的硫酸離子的除去效果。根據(jù)噴淋此純水來(lái)進(jìn)行掩模相關(guān)基板的洗凈的情況，理想是噴淋30秒20分鐘的程度，更理想是2分鐘20分鐘。另外，當(dāng)然不限定于直接從噴嘴噴淋的洗凈方法，例如也可將純水噴在槽內(nèi)，利用浸在積存的純水中，來(lái)進(jìn)行掩模相關(guān)基板的洗凈。根據(jù)以上的本發(fā)明的洗凈方法，可有效率地除去由于利用硫酸等而進(jìn)行的表面處理，而附著在掩模相關(guān)基板的表面上的硫酸離子。而且，由于只要事先對(duì)作為洗凈液的純水進(jìn)行脫氣步驟便可以，所以極為簡(jiǎn)單。以此，能抑制以存在于表面上的硫酸離子為原因而發(fā)生的硫酸銨等的微粒，而可提供一種高質(zhì)量的掩模相關(guān)基板。接著，說(shuō)明有關(guān)使用圖2所示的洗凈系統(tǒng)1'的洗凈方法，但是除了加進(jìn)加溫步驟以外，能與使用圖1的洗凈系統(tǒng)1時(shí)同樣地進(jìn)行。至少被洗凈基板亦即掩模相關(guān)基板，被硫酸離子污染，而只要使用一種已進(jìn)行脫氣及加溫后的純水，來(lái)進(jìn)行洗凈便可以。作為一個(gè)例子，可舉出先利用含有硫酸、硫酸基的材料來(lái)處理掩模相關(guān)基板的表面，然后使用脫氣純水，來(lái)洗凈由于該殘?jiān)榷涣蛩犭x子污染的基板。若有需要，能更追加其它的處理。例如，也能先施行由硫酸等所實(shí)行的處理，然后如以往般地進(jìn)行純水洗凈等之后，再進(jìn)行根據(jù)脫氣及加溫后的純水所實(shí)行的洗凈。以下，說(shuō)明有關(guān)在如上述般地根據(jù)硫酸等來(lái)實(shí)行處理之后，使用進(jìn)行脫氣步驟及加溫步驟后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈的情況。然而，除此以外，作為本發(fā)明，也可舉出利用上述純水來(lái)洗凈例如由于大氣中的二氧化硫，其表面被硫酸離子污染后的掩模相關(guān)基板的方法等。如上述，除了加進(jìn)加溫步驟以外，由于是與使用圖1的洗凈系統(tǒng)1時(shí)相同，所以僅說(shuō)明有關(guān)加溫步驟。將脫氣后的純水送至加溫手段，并加溫至設(shè)定溫度(加溫步驟)。加溫純水之際，其方法沒有特別限定，例如若利用加熱線9來(lái)實(shí)行加溫，便能連續(xù)地得到溫水。又，若預(yù)先利用加溫機(jī)10加溫至設(shè)定溫度附近，然后在更靠近使用場(chǎng)所的位置，利用加熱線9來(lái)實(shí)行再加溫，則實(shí)際上從使用場(chǎng)所供給至掩模相關(guān)基板上的純水的溫度，可更容易地調(diào)整至設(shè)定溫度。加溫的次數(shù)等，能考慮成本等方面，來(lái)加以適當(dāng)?shù)貨Q定。在此洗凈中所使用的純水的加溫溫度，并沒有特別限定，為了有效率地除去硫酸離子，理想是55°C以上，而為了更有效率地進(jìn)行，理想是加溫至80°C以上。特別是加溫至9(TC以上來(lái)進(jìn)行洗凈為佳。以往僅是利用加溫水來(lái)進(jìn)行洗凈時(shí)，在55t:以上，基板洗凈后的微粒發(fā)生數(shù)量便會(huì)有顯著地增加的傾向，而在8(TC以上會(huì)特別成為問題，進(jìn)而在9(TC以上，則會(huì)成為嚴(yán)重的問題。然而，在本發(fā)明中，即便如此地使用比較高溫的純水來(lái)作為洗凈液，由于該純水已預(yù)先利用脫氣裝置3來(lái)進(jìn)行溶解氣體的脫氣，所以與使用僅單純地加熱后的純水的公知方法相異，能抑制微粒的發(fā)生。另外，如圖2所示，理想是基本上以脫氣步驟、加溫步驟、異物除去步驟的順序來(lái)進(jìn)行；但是，在先進(jìn)行加溫步驟之后才進(jìn)行脫氣步驟、異物除去步驟的情況，作為在脫氣步驟、異物除去步驟中所使用的裝置，較佳是使用可以保證在高溫中不會(huì)有異物溶出的材質(zhì)。如上述般，根據(jù)至少將預(yù)先進(jìn)行脫氣及加溫后的純水供給至噴嘴，然后從該噴嘴噴出，便可以對(duì)先前已施行了利用硫酸等所實(shí)行的處理后的掩模相關(guān)基板，進(jìn)行洗凈。此時(shí)，若直接將純水噴在掩模相關(guān)基板上來(lái)進(jìn)行沖淋，從噴嘴噴出的脫氣后的純水，能以接觸空氣或其它氣體的時(shí)間短的狀態(tài)，噴在基板上，來(lái)進(jìn)行洗凈。也就是說(shuō)，脫氣后，能以溶解氣體的量維持在少的狀態(tài)下，來(lái)洗凈基板。因此，能更提高根據(jù)脫氣所得到的硫酸離子的除去效果。又，當(dāng)利用加溫后的純水來(lái)噴淋時(shí)，由于在基板上特別容易發(fā)生微粒，所以在噴淋的情況，本發(fā)明的使用脫氣且加溫后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈的方法，是特別有效的，能有效地防止發(fā)生微粒。根據(jù)噴淋此純水來(lái)進(jìn)行掩模相關(guān)基板的洗凈的情況，理想是噴淋30秒20分鐘的程度，更理想是2分鐘20分鐘。另外，當(dāng)然不限定于直接從噴嘴噴淋的洗凈方法，例如也可將純水噴在槽內(nèi)，利用浸在積存的純水中，來(lái)進(jìn)行掩模相關(guān)基板的洗凈。根據(jù)以上的本發(fā)明的洗凈方法，可有效率地除去附著在掩模相關(guān)基板的表面上的硫酸離子。而且，由于只要事先對(duì)作為洗凈液的純水進(jìn)行脫氣步驟及加溫步驟便可以，所以極為簡(jiǎn)單。以此，能抑制以存在于表面上的硫酸離子為原因而發(fā)生的硫酸銨等的微粒。同時(shí)，與硫酸離子相異的原因，也就是由于加溫水，當(dāng)洗凈后的基板在干燥后所產(chǎn)生的微粒，也能抑制其發(fā)生。因此，可提供一種高質(zhì)量的掩模相關(guān)基板。接著，對(duì)于特別是在過濾后且滯留中的洗凈液中的微細(xì)氣泡，敘述有關(guān)本發(fā)明中的洗凈方法及洗凈液供給裝置?，F(xiàn)在，特別是對(duì)于半導(dǎo)體等的具有極微細(xì)圖案形狀的制品，其關(guān)于微影加工的掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模等的洗凈，也希望可以排除由于極微細(xì)的微粒所造成的異物污染，因而包含作為公知技術(shù)而舉出的洗凈液的改良或干燥方法的改良，有提出各種的提案。然而，雖然任一種方法都有一定的效果，但是微細(xì)異物的問題，依然會(huì)突然地發(fā)生。又，本發(fā)明人，發(fā)現(xiàn)關(guān)于洗凈后的基板，當(dāng)進(jìn)行檢查由于0.08ym程度的極微細(xì)的異物所造成的缺陷時(shí)，即便細(xì)心地洗凈之后，仍然常會(huì)突然地發(fā)生微細(xì)異物的問題。此種由微細(xì)異物所造成的缺陷，當(dāng)發(fā)生在透明基板上或成膜中的中間膜的情況，有可能成為積層膜剝離、或是在蝕刻加工時(shí)發(fā)生異常舉動(dòng)的原因；又，發(fā)生在空白掩模上的情況，有可能發(fā)生蝕刻加工時(shí)的異常舉動(dòng)、光阻膜的剝離、或是使光阻圖案產(chǎn)生異常形狀。因此，為了以高可靠度來(lái)制造出具有微細(xì)圖案的掩模，必須要解決此種微細(xì)異物的問題。因此，本發(fā)明人，為了解決此問題，關(guān)于洗凈后的基板上的微細(xì)異物，進(jìn)行深入地研究。具體而言，先假設(shè)各種異物的發(fā)生原因，然后根據(jù)施行用以排除該原因的操作，并基1于污染發(fā)生狀況是如何地變化，來(lái)檢討問題的發(fā)生原因與解決方法。通常，洗凈液，為了防止混入微細(xì)異物，在洗凈裝置的上游側(cè)，設(shè)置洗凈液供給裝置，在正要使用之前，使用過濾器來(lái)進(jìn)行過濾。又，在此過濾器周邊的洗凈液的送液控制，當(dāng)有從閥等的開閉控制機(jī)構(gòu)發(fā)生微粒的情況，是作成一種系統(tǒng)，是將開閉機(jī)構(gòu)配置在過濾器的上游側(cè)，即便有從控制機(jī)構(gòu)發(fā)生微粒的情況，也可利用過濾器來(lái)除去該微粒。然而，本發(fā)明人，重復(fù)檢討有關(guān)此種裝置，認(rèn)為使用此種公知裝置的情況，在中斷往洗凈裝置送液的期間，從滯留在洗凈液供給裝置內(nèi)的洗凈液，特別是從滯留在位于過濾器殼的比過濾器更下游側(cè)的空間中的較大量的洗凈液，容易發(fā)生氣泡，這些氣泡沒有在中途被排出而會(huì)被送至使用場(chǎng)所。然后，此氣泡在洗凈中附著在被洗凈基板上，此附著有發(fā)生微細(xì)異物的可能性。因此，如上述般，在洗凈作業(yè)中，特別是在洗凈液停止供給的期間，洗凈液供給裝置的在具有過濾器的過濾器殼內(nèi)所發(fā)生的微細(xì)氣泡，實(shí)際上會(huì)混入要供給至使用場(chǎng)所的洗凈液中，本發(fā)明人先將此假設(shè)為異物發(fā)生的原因，并發(fā)現(xiàn)當(dāng)嘗試將此氣泡或含有此氣泡的洗凈液，從要供給至使用場(chǎng)所的洗凈液排除后，能強(qiáng)力地抑制由于上述突發(fā)的微細(xì)異物所產(chǎn)生的污染。亦即，本發(fā)明人，發(fā)現(xiàn)氣泡是發(fā)生異物的原因，并發(fā)現(xiàn)特別是使從過濾后并滯留中的洗凈液發(fā)生的微細(xì)氣泡，防止其混進(jìn)要供給至洗凈裝置內(nèi)的洗凈液中，以此便可解決上述問題，而完成本發(fā)明。以下，一邊參照?qǐng)D面一邊詳細(xì)地說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的洗凈液供給裝置及洗凈方法，但本發(fā)明并未限定于此。首先，敘述有關(guān)本發(fā)明的洗凈液供給裝置。(第l實(shí)施形態(tài))在圖3中，表示本發(fā)明的洗凈液供給裝置的一個(gè)例子。另外，也一并表示被配置在洗凈液供給裝置101的更下游側(cè)的洗凈裝置110、及利用從該洗凈裝置的噴嘴lll(使用場(chǎng)所)噴出的洗凈液來(lái)加以洗凈的被洗凈基板112。另外，作為被洗凈基板112，例如可設(shè)為要求進(jìn)行精密的洗凈的掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模等，但是本發(fā)明的洗凈液供給裝置，當(dāng)然也可應(yīng)用于這些物品的洗凈以外的洗凈。又，在制造超純水的裝置中，一般是安裝有用以將在紫外線(UV)殺菌等的處理中有可能發(fā)生的氣體排出系統(tǒng)外的設(shè)備，當(dāng)洗凈液例如是超純水的情況，也能利用此種脫氣純水。在本發(fā)明中，作為可特別有效地應(yīng)用的洗凈液，一般是采用一種洗凈液，其在應(yīng)用于被洗凈基板上之后，并沒有伴隨著洗刷處理這樣的洗凈操作；具體而言，可舉出超純水、利用導(dǎo)入純水而調(diào)整導(dǎo)電度后的超純水、惰性水(H40)、臭氧水、稀氟酸水等。如圖3所示，洗凈液供給裝置101，具有殼102，在此殼102上，例如設(shè)置洗凈液入口103，用以使經(jīng)過加溫步驟后而送來(lái)的洗凈液，進(jìn)入殼102內(nèi)。又，在殼102內(nèi)，配備具有過濾器104的過濾器殼105;已進(jìn)入殼102內(nèi)的洗凈液，利用過濾器104而被過濾，并往過濾器殼105內(nèi)流動(dòng)。進(jìn)而，在較過濾器104更下游側(cè)，配設(shè)供給管106，用以將過濾后的洗凈液往洗凈裝置110供給；及排出管107，用以將過濾后的洗凈液排出系統(tǒng)外。在圖3的情況中，連接過濾器殼105的一根配管分支而與上述供給管106及排出管107連接。此情況，分支的形狀也可配合裝置來(lái)決定其形狀，為了將洗凈液中的氣泡導(dǎo)引至排出管107而可更容易地排出至系統(tǒng)外部，是將分支部分中的位于垂直方向的上側(cè)的管，設(shè)為排出管107。亦即，排出管107的入口108b的位置，理想是連接成比供給管106的入口108a的高度位置更高。典型地，分支是作成T型，并以從過濾器殼105側(cè)來(lái)的配管與排出管107成為一直線的方式，將供給管106作成往下側(cè)突出的形態(tài)。另外，上述供給管106宇排出管107的配置，根據(jù)殼102內(nèi)的流路設(shè)計(jì)、排出管107的排出量設(shè)計(jì)等，即便高度方向的上下關(guān)系逆轉(zhuǎn)，也可將滯留中的洗凈液從排出管107的入口108b幾乎完全地排出。又，在上述供給管106，配設(shè)閥109a，利用此閥的開閉，可控制供給至洗凈裝置110的洗凈液的液量。又，在上述排出管107，配設(shè)閥109b，利用此閥的開閉，可控制往系統(tǒng)外排出的洗凈液的液量。對(duì)于這些閥109a、109b并沒有特別地限定，例如，能使用氣體驅(qū)動(dòng)或電磁驅(qū)動(dòng)等的驅(qū)動(dòng)型開閉閥、或是針閥等各種開閉閥。只要是能控制洗凈液的液量便可以，理想是可利用程序等來(lái)作自動(dòng)控制的開閉閥。進(jìn)而，若閥109a、109b采用可相互連動(dòng)地作控制的型式，則更簡(jiǎn)便。只要是能以所希望的時(shí)序、液量，使洗凈液通過供給管106、排出管107而流動(dòng)便可以。又，配設(shè)的數(shù)量也沒有特別限定。又，從供給管106與排出管107的分支部(或者，例如后述圖4、圖5的形態(tài)的情況，往過濾器殼的供給管的連接部)至使用場(chǎng)所為止的距離，當(dāng)太長(zhǎng)的情況，在停止供給洗凈液時(shí)，在配管中，有產(chǎn)生氣泡的可能性，而會(huì)減弱本發(fā)明的效果。因此，從過濾器104至使用場(chǎng)所為止的配管距離，較短者為佳，理想是在5m以內(nèi)，更理想是在2m以內(nèi)。又，如圖3所示，能因應(yīng)需要，將氣泡排除管113連接在殼102上。氣泡排除管113的連接位置并沒有限定，只要是在殼102的上部，便能更有效率地排出氣泡，所以是理想的。在圖3中，氣泡排除管113，是連接在與洗凈液入口103相同側(cè)的殼102的側(cè)面。在氣泡排除管113上，例如配置有氣液分離器114或是間歇閥等，根據(jù)這些構(gòu)件，存在于殼102內(nèi)的洗凈液中的氣泡，能通過氣泡排除管113而排出至系統(tǒng)外。以此，由于能將殼102內(nèi)的含在洗凈液中的氣泡排除，所以最終能更有效地防止含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置110。又，能抑制起因于氣泡而發(fā)生在過濾器104中的過濾能力的降低、或是來(lái)自過濾器的發(fā)塵，并可謀求洗凈的效率化、更抑制在洗凈后的基板上發(fā)生微粒的可能性。作為氣液分離器114，有許多種公知的氣液分離器；已知有使用僅氣體分子可以通過的氣液分離膜，并將外側(cè)設(shè)為負(fù)壓來(lái)除去氣體的氣體分離器；或是利用氣體與液體的比重差異來(lái)進(jìn)行分離的型式。但是，只要是可以有效率地除去氣泡，能使用任一種。另一方面，也可以是不具備將洗凈液與氣泡完全地分離并僅將氣泡排出至系統(tǒng)外的型式，而是具備使洗凈液與氣泡成為一體，將含有氣泡的洗凈液一起排除的型式。例如，上述利用比重差異的氣液分離器的型式的情況，能作成并不是僅排除氣泡，而是氣泡會(huì)與一定量的洗凈液一起被排除。因而，不需要用以使洗凈液與氣泡完全地分離的裝置的尺寸，而能使氣液分離器小型化。公知的洗凈液供給裝置，在過濾器的更下游側(cè)，由于沒有連接本發(fā)明的洗凈液供給裝置101中的排出管107，所以過濾后的洗凈液是按照原樣地被供給至洗凈裝置，并往被洗凈基板噴射。然而，若是上述本發(fā)明的洗凈液供給裝置IOI，在過濾器的更下游側(cè)，除了將洗凈液供給至洗凈裝置110的供給管106以外，由于也連接著用以將洗凈液排出至系統(tǒng)外的排出管107，所以例如由于洗凈作業(yè)的停止，滯留在過濾器殼105內(nèi)而有微細(xì)氣泡發(fā)生的過濾后的洗凈液，可使其通過排出管107而排出至系統(tǒng)外部。亦即，能防止發(fā)生過濾后的含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置110而往被洗凈基板112噴射的情況。并且，合并閥109a、109b的控制，微細(xì)氣泡發(fā)生量少的過濾后的洗凈液，不會(huì)滯留在過濾器殼105內(nèi)，而可通過供給管106往洗凈裝置IIO供給，并在洗凈被洗凈基板時(shí)噴出。因此，若是本發(fā)明的洗凈液供給裝置，能抑制在洗凈后的基板上會(huì)觀察到微小異物缺陷的發(fā)生，而能以高生產(chǎn)性、高合格率的方式來(lái)洗凈基板。(第二實(shí)施形態(tài))在圖4中，表示本發(fā)明的另外的實(shí)施形態(tài)的洗凈液供給裝置201。在圖4的情況中，在過濾器殼205的上面，直接連接供給管206及排出管207。此時(shí)，如圖4(A)所示，例如可將洗凈液供給裝置201的殼202、過濾器殼205等水平地設(shè)置，并以供給管206的入口208a的高度位置與排出管207的入口208b的高度位置成為相同的方式，來(lái)連接供給管206與排出管207。相對(duì)于此，如圖4(B)所示，例如將洗凈液供給裝置201的殼202、過濾器殼205等水平地設(shè)置，結(jié)果，可作成能以排出管207的入口208b的高度位置比供給管206的入口208a的高度位置更高的方式，來(lái)連接供給管206與排出管207。供給管206與排出管207的連接部，只要是此種位置關(guān)系，如上所述，由于能容易地使過濾后的洗凈液中的氣泡通過排出管207而排出至系統(tǒng)外部，所以是更理想的。又，在圖3中，已說(shuō)明了將氣泡排除管113設(shè)置在殼102上的情況，但是如圖4所示，也能作成不具備氣泡排除管。特別是圖4的形態(tài)的情況，在殼202內(nèi)的洗凈液中的氣泡，容易移動(dòng)至殼202的上端，相較于圖3的形態(tài)，被認(rèn)為氣泡不易從過濾器204移動(dòng)至過濾器殼205內(nèi)。但是，即便是圖4的形態(tài)，當(dāng)然也可在殼202的上部，個(gè)別地連接氣泡排除管。(第三實(shí)施形態(tài))在圖5中，進(jìn)而表示本發(fā)明的另外的實(shí)施形態(tài)的洗凈液供給裝置301。在圖5的情況中，在過濾器殼305的側(cè)面，直接連接供給管306及排出管307。此情況，仍然是以排出管307的入口308b的高度位置比供給管306的入口308a的高度位置高的方式，來(lái)分別連接，較為理想。又，氣泡排除管313，連接在殼302的位于洗凈液入口303相反側(cè)的側(cè)面上。以上，已經(jīng)舉例說(shuō)明了有關(guān)本發(fā)明的洗凈液供給裝置的實(shí)施形態(tài)，但是本發(fā)明并未限定于這些實(shí)施形態(tài)。只要是至少在過濾器的更下游側(cè)，配備分別設(shè)有閥的供給管與排出管，并根據(jù)這些閥的開閉控制，可將利用過濾器過濾后的洗凈液，供給至洗凈裝置及或排出至系統(tǒng)外部之形態(tài)的洗凈液供給裝置便可以。又，關(guān)于裝置的其它構(gòu)成要素等，并沒有特別地限定，例如能設(shè)為與公知相同。接著，說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的洗凈方法。此處，說(shuō)明有關(guān)使用圖3的洗凈液供給裝置101的情況的洗凈方法，但是可使用的洗凈液供給裝置，并不限定于此種。在本發(fā)明的洗凈方法中，只要是先利用過濾器過濾洗凈液來(lái)除去異物，當(dāng)使過濾后的洗凈液通過供給管而供給至洗凈裝置來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少在將過濾后的洗凈液往洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管而排出至系統(tǒng)外部，之后，才將過濾后的洗凈液供給至洗凈裝置中便可以，所以只要準(zhǔn)備適當(dāng)?shù)南磧粢汗┙o裝置來(lái)實(shí)施便可以。亦即，本發(fā)明的洗凈方法是在將洗凈液供給至洗凈裝置110來(lái)洗凈被洗凈基板112之前，首先，將利用過濾器104過濾后的洗凈液，根據(jù)使閥109b成為開放狀態(tài)而從排出管107排出至系統(tǒng)外部。以此，便可使滯留在過濾器殼105內(nèi)的洗凈液，與在該洗凈液中所發(fā)生的微細(xì)氣泡，一起排出。并且，如上述般，一旦洗凈液排出至系統(tǒng)外部，例如在使閥109b關(guān)閉后，為了實(shí)際上從噴嘴111噴出洗凈液來(lái)洗凈被洗凈基板112，使閥109a成為開放狀態(tài)而從供給管106供給洗凈液。更理想是，當(dāng)要將洗凈液往洗凈裝置供給時(shí)，直到使閥109a開放而從供給管106供給過濾后的洗凈液為止，按照其原樣地使洗凈液持續(xù)地通過排出管107而往系統(tǒng)外部排出。因此，不會(huì)使洗凈液滯留在過濾器殼105等的內(nèi)部，也能抑制微細(xì)氣泡的發(fā)生，并可將已抑制氣泡發(fā)生后的洗凈液往洗凈裝置110供給。以此，能利用微細(xì)氣泡已極度地被抑制后的洗凈液，來(lái)洗凈被洗凈基板112，并可防止發(fā)生由于微細(xì)氣泡而產(chǎn)生的微小缺陷、異物。另外，此情況，關(guān)于從排出管107排出的洗凈液，如上述般，只要進(jìn)行至直到開始將過濾后的洗凈液通過供給管106而供給至洗凈裝置110為止便可以，之后并沒有特別地限定。因此，例如即便是在使閥109a開放而開始通過供給管106將洗凈液供給至洗凈裝置110之后，也可以同時(shí)持續(xù)地從排出管107排出洗凈液。而且，持續(xù)排出規(guī)定時(shí)間后，能使閥109b關(guān)閉而停止洗凈液的排出，且一片被洗凈基板洗凈完成后，停止洗凈液至洗凈裝置IIO，而在要洗凈下一片被洗凈基板時(shí)，再度先使閥109b開放而從排出管107排出洗凈液?；蛘撸谑归y109a開放而開始通過供給管106將洗凈液供給至洗凈裝置110時(shí)，也能同時(shí)使閥109b關(guān)閉而停止從排出管107排出洗凈液。亦即，僅在剛要開始供給時(shí)，才進(jìn)行洗凈液的排出，是僅將原本滯留在過濾器殼105內(nèi)的洗凈液排出的方法。根據(jù)采用此種方法，能使洗凈液的消耗量最少。此情況，在洗凈步驟中，在剛要開始使用洗凈液之前，需要設(shè)定排出動(dòng)作所需的時(shí)間，相對(duì)于排出時(shí)序，為了使供給時(shí)序不會(huì)遲延，理想是先作成洗凈時(shí)的供給的標(biāo)準(zhǔn)循環(huán)，依照該程序，來(lái)操作各閥等。只要可自動(dòng)地控制閥109a、109b的開閉，便能確實(shí)地以所希望的時(shí)序來(lái)進(jìn)行洗凈液的供給及排出。當(dāng)然，即便是在其它的循環(huán)中，也能謀求閥109a、109b的自動(dòng)化。當(dāng)作成上述程序時(shí)，從使閥109b開放而開始進(jìn)行排出滯留的洗凈液，至使閥109a開放而開始供給洗凈液為止，其僅進(jìn)行排出的期間，理想是配合過濾器殼105的尺寸等來(lái)調(diào)整排出液量，而可在短時(shí)間內(nèi)充分地排出，但是，理想的是調(diào)整成能以0.25秒程度來(lái)進(jìn)行排出。如此的控制，例如能根據(jù)序列發(fā)生器來(lái)進(jìn)行。亦即，只要裝配一種可進(jìn)行聯(lián)合動(dòng)作的裝置便可以。該裝置，若收到使用洗凈液的訊號(hào)，則首先使閥109b開放，而在充分地進(jìn)行排出后的規(guī)定時(shí)間后，閥109a變成開放，并可使閥109b關(guān)閉。另外，當(dāng)然也可不使用程序而是利用手動(dòng)方式來(lái)控制這些閥109a、109b。進(jìn)而，例如以洗凈復(fù)數(shù)片被洗凈基板為目的，從為了洗凈最先的被洗凈基板而開始往洗凈裝置100供給洗凈液后，直到最后的被洗凈基板的洗凈結(jié)束為止的期間(也就是從洗凈步驟開始至結(jié)束為止)，使閥109b開放而將過濾后并滯留中的洗凈液排出的動(dòng)作，也可如上述般，僅從閥109a關(guān)閉至剛要開放之前為止，但是，為了降低氣泡發(fā)生的容易性，即便是在閥109a關(guān)閉的情況，也可一直使閥109b開放。根據(jù)此操作，在過濾器殼105內(nèi)，由于不會(huì)滯留洗凈液，氣泡發(fā)生本身，變成不易引起。又，采用此方法的情況，當(dāng)想要如上述般地開始往洗凈裝置100供給洗凈液時(shí)，關(guān)于產(chǎn)生時(shí)間遲延(用于排出所需的時(shí)間量)這樣的供給時(shí)序的問題，也不會(huì)發(fā)生。因此，特別是以手動(dòng)來(lái)進(jìn)行洗凈操作的情況，采用此方法，能利用簡(jiǎn)單的裝置來(lái)實(shí)施，操作性也佳。又，以洗凈一片以上的被洗凈基板為目的，開始往洗凈裝置110供給洗凈液后，直到洗凈步驟結(jié)束為止的期間(也就是直到全部的被洗凈基板洗凈完成為止的期間)，也可以使閥109b—直處于開放狀態(tài)。采用此方法的情況，雖然會(huì)稍微浪費(fèi)洗凈液，但是不需要連動(dòng)于閥109a的開閉來(lái)使閥109b開閉，所以能以非常簡(jiǎn)單的方式來(lái)進(jìn)行裝置的控制?？墒?，即便是在閥109a開放的時(shí)候，當(dāng)預(yù)先使閥109b開放的情況，通過排出管107而排出的洗凈液量，相對(duì)于從供給管106供給的洗凈液量，作為標(biāo)準(zhǔn)，理想是設(shè)定成1/203倍量，更理想是設(shè)為1/102倍量。此時(shí)的排出量的最佳值，由于是依據(jù)殼102的形狀或供給管106、排出管的配置等來(lái)決定，需要配合實(shí)際的裝置來(lái)作調(diào)整，但是，一般而言，利用上述標(biāo)準(zhǔn)的量，能獲得更好的結(jié)果。又，需要量以上的排出，不僅浪費(fèi)洗凈液，也意味著過濾壓力的上升，雖然這些情況會(huì)因?yàn)檫^濾器104的選擇而有所不同，但是有時(shí)會(huì)使過濾器104的異物除去能力降低，所以理想是避免供給量的3倍以上的排出。又，當(dāng)將洗凈液往洗凈裝置IIO供給或是往系統(tǒng)外部排出時(shí)，排出管的入口的高度位置，理想是設(shè)成比供給管的入口的高度位置更高，例如圖3所示，如上述般，根據(jù)使用T字型的分支，便能達(dá)成上述條件。另一方面，若是采用將供給管及排出管直接連接在過濾器殼上，則理想是如圖4(B)般地傾斜地設(shè)置，且排出管的入口，相對(duì)于重力方向，設(shè)置成比供給管的入口高。又，當(dāng)難以如此地設(shè)置裝置的情況，理想是預(yù)先調(diào)整過濾器殼的朝向，使在將排出管側(cè)的閥從關(guān)閉變成開放時(shí)，排出管可位于較供給管的更上側(cè)。特別是在上述洗凈步驟中，采用一直使排出管側(cè)的閥開放的方法的情況，在開始使用時(shí)，上述排出管，若調(diào)整成位于較供給管的更上側(cè)，來(lái)進(jìn)行排出，則在之后，即便供給管的入口變成位于較排出管的入口的更上側(cè)，也能充分地獲得本發(fā)明的效果。另外，作為洗凈液，并沒有特別地限定，例如能使用超純水。只要是使用超純水，本發(fā)明便特別有效。能因應(yīng)需要來(lái)決定適當(dāng)?shù)南磧粢旱姆N類。又，關(guān)于被洗凈基板112，也沒有特別地限定，例如對(duì)于掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模，能應(yīng)用本發(fā)明的洗凈方法。以下，根據(jù)實(shí)施例，更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明并未限定于這些例子。(實(shí)施例1)作為測(cè)試基板，準(zhǔn)備以下的基板。使用一種空白掩模，其在邊長(zhǎng)152mm的方形石英基板上，于最表面已成膜有氮氧化鉻膜亦即遮光膜，對(duì)該空白掩模進(jìn)行硫酸洗凈后，使用添加了氨水的惰性水(PHIO)來(lái)進(jìn)行洗凈，進(jìn)而準(zhǔn)備一種已利用未經(jīng)脫氣處理的純水沖淋后的基板。進(jìn)而，將其收容在樹脂制空容器內(nèi)，并保管于潔凈室內(nèi)4個(gè)月。使用圖1所示的洗凈系統(tǒng)1來(lái)進(jìn)行基板的洗凈。在純水制造裝置與配備有噴嘴的旋轉(zhuǎn)洗凈干燥器之間，使用連結(jié)有脫氣裝置及過濾器的純水供給管路。另外，作為脫氣裝置，使用DIC公司制造的SEPARELEF-040P(中空絲材質(zhì)聚_4甲基戊烯)。當(dāng)利用真空泵來(lái)進(jìn)行氣氛的減壓時(shí)，從旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)的噴嘴所得到的純水的氧含量，是0.Ol卯m(使用DKK-T0A公司制造的D0-32A來(lái)進(jìn)行測(cè)定)，水溫是30°C。又，過濾器是使用Entegris公司制造的QuickChangePlus1500(孔徑0.020.05iim)。使用如此的洗凈系統(tǒng)l，來(lái)實(shí)施本發(fā)明的洗凈方法。使用2片上述保管4個(gè)月后的測(cè)試基板，分別裝設(shè)在旋轉(zhuǎn)洗凈干燥機(jī)中，并使純水(出口溫度30°C)以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘至測(cè)試基板上來(lái)進(jìn)行噴淋洗凈。另外，在脫氣裝置中，則使用真空泵來(lái)進(jìn)行減壓。進(jìn)而，繼續(xù)以1000rpm來(lái)進(jìn)行30秒的旋轉(zhuǎn)干燥。干燥后的基板，分別立刻放入已注入純水100ml的石英室內(nèi)，并完全地沉入水中，以9(TC來(lái)進(jìn)行60分鐘的離子抽出。進(jìn)而，將此處所得到的抽出液，根據(jù)離子層析法(利用日本DI0NEX公司制造的DX-500)，進(jìn)行抽出液中所含的硫酸離子的定量。將所得到的定量值，與其它的離子的資料，一起表示于表1中。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>如表1所示，2片測(cè)試基板的結(jié)果(實(shí)施例l-l、實(shí)施例1-2)，若著眼于硫酸離子，在實(shí)施例1-1中是69.36(ng/片)、在實(shí)施例1-2中是67.29(ng/片)。(比較例1)使用2片測(cè)試基板，但是沒有在實(shí)施例1中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置。因此，除了沒有進(jìn)行脫氣步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實(shí)施例1進(jìn)行的純水洗凈、干燥相同的條件，來(lái)進(jìn)行處理。亦即，與公知方法相同，根據(jù)僅除去異物而沒有脫氣的純水，來(lái)進(jìn)行基板的洗凈。又，被處理后的基板，接著利用與實(shí)施例1中所使用的相同條件，進(jìn)行離子抽出，然后進(jìn)行硫酸離子的定量。另外，此時(shí)的從旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)的噴嘴所得到的純水的氧含量，是8ppm左右。將所得到的定量值，與其它的離子的資料，一起表示于表1中。如表1所示，2片測(cè)試基板的結(jié)果(比較例1-1、比較例1-2)，若著眼于硫酸離子，在比較例1-1中是163.13(ng/片)、在比較例1-2中是138.20(ng/片)。由實(shí)施例1、比較例1可知，如本發(fā)明的洗凈方法，使用已脫氣后的純水來(lái)進(jìn)行洗凈后的測(cè)試基板，相對(duì)于使用沒有進(jìn)行脫氣的純水的情況，確認(rèn)硫酸離子的量大幅地降低；又，此效果，顯示出對(duì)于硫酸離子，有特別的效果。(實(shí)施例2)作為測(cè)試基板，準(zhǔn)備以下的基板。使用一種空白掩模制造中間體，其在邊長(zhǎng)152mm的方形石英基板上，于最表面已成膜含有鉬的硅氮氧化膜。對(duì)此制造中間體，根據(jù)一般的方法來(lái)進(jìn)行洗凈步驟(硫酸洗凈、根據(jù)添加了氨水的惰性水(H40)所實(shí)行的洗凈)后，利用室溫的水沖淋，然后以1000rpm進(jìn)行2分鐘的旋轉(zhuǎn)干燥，來(lái)準(zhǔn)備測(cè)試基板。接著，使用缺陷檢測(cè)裝置(Lasertec公司制造的MAGICS)，測(cè)量所得到的基板的表面微粒，并特定出測(cè)試基板上的缺陷位置。以上述方式準(zhǔn)備的測(cè)試基板，使用圖2所示的洗凈系統(tǒng)1'來(lái)進(jìn)行洗凈。使用一種純水供給管路，其配備有純水制造裝置、脫氣裝置、加溫機(jī)、加熱線、過濾器等。作為脫氣裝置，使用DIC公司制造的SEPARELEF-040P(中空絲材質(zhì)聚_4甲基戊烯)，當(dāng)利用真空泵來(lái)進(jìn)行氣氛的減壓時(shí)，所得到的純水的氧含量，是0.9ppm(使用DKK-T0A公司制造的D0-32A來(lái)進(jìn)行測(cè)定)。又，供給的純水，根據(jù)加溫機(jī)，先暫時(shí)加溫至設(shè)定溫度的80°C附近，然后在使用場(chǎng)所附近，根據(jù)利用加熱線來(lái)實(shí)行的再加溫，可將所供給的純水的溫度，調(diào)整成80°C。又，過濾器是使用Entegris公司制造的QuickChangePlusl500(孔徑0.020.05iim)。使用如此的洗凈系統(tǒng)l'，來(lái)實(shí)施本發(fā)明的洗凈方法。將5片上述的已特定出缺陷位置后的測(cè)試基板，裝設(shè)在旋轉(zhuǎn)洗凈干燥機(jī)中，并使加溫至8(TC后的純水，以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘至測(cè)試基板上來(lái)進(jìn)行噴淋洗凈。另外，在脫氣裝置中，則使用真空泵來(lái)進(jìn)行減壓。進(jìn)而，繼續(xù)以1000rpm來(lái)進(jìn)行30秒的旋轉(zhuǎn)干燥。根據(jù)本發(fā)明的方法進(jìn)行洗凈、干燥后的基板，當(dāng)與上述同樣地測(cè)量其表面缺陷數(shù)時(shí)，對(duì)于5片測(cè)試基板，新發(fā)生于在試驗(yàn)前已特定出來(lái)的缺陷以外的位置上的0.060.liim的缺陷，分別為1、2、2、2、1個(gè)。(比較例2)使用5片已特定出缺陷位置后的測(cè)試基板，但是沒有在實(shí)施例2中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置。因此，除了沒有進(jìn)行脫氣步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實(shí)施例2進(jìn)行的純水洗凈、干燥相同的條件，來(lái)進(jìn)行處理。亦即，根據(jù)僅加溫并除去異物而沒有脫氣的純水，來(lái)進(jìn)行基板的洗凈、干燥。另外，此時(shí)的從旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)的噴嘴所得到的純水的氧含量是8ppm左右，純水的溫度是8(TC。然后，當(dāng)與上述同樣地測(cè)量基板的表面缺陷數(shù)時(shí)，對(duì)于5片測(cè)試基板，新發(fā)生于在試驗(yàn)前已特定出來(lái)的缺陷以外的位置上的0.060.1iim的缺陷，分別為56、62、29、41、50個(gè)。(比較例3)使用5片已特定出缺陷位置后的測(cè)試基板，但是沒有在實(shí)施例2中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置，也沒有加溫手段。因此，除了沒有進(jìn)行脫氣步驟及加溫步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實(shí)施例2進(jìn)行的純水洗凈、干燥相同的條件，來(lái)進(jìn)行處理。亦即，根據(jù)僅除去異物而沒有進(jìn)行脫氣及加溫的純水，來(lái)進(jìn)行基板的洗凈、干燥。另外，此時(shí)的從旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)的噴嘴所得到的純水的氧含量，是8ppm左右。又，純水的溫度是23"。然后，當(dāng)與上述同樣地測(cè)量基板的表面缺陷數(shù)時(shí)，對(duì)于5片測(cè)試基板，新發(fā)生于在試驗(yàn)前已特定出來(lái)的缺陷以外的位置上的0.060.1iim的缺陷，分別為2、1、3、3、1個(gè)。關(guān)于基板的缺陷數(shù)，將實(shí)施本發(fā)明的洗凈方法的實(shí)施例2(有進(jìn)行加溫步驟及脫氣步驟)、以及比較例2(只進(jìn)行加溫步驟但沒有進(jìn)行脫氣步驟)，兩者作比較，可以得知實(shí)施例2能顯著地抑制缺陷數(shù)。這是因?yàn)槿鐚?shí)施例2，根據(jù)進(jìn)行脫氣步驟，當(dāng)加進(jìn)加溫步驟而將洗凈液亦即純水加溫的情況，便能在基板干燥后，防止發(fā)生容易產(chǎn)生微粒的情況。又，將實(shí)施例2、及沒有進(jìn)行脫氣步驟也沒有進(jìn)行加溫步驟的比較例3，兩者作比較，可以得知缺陷數(shù)大致相同。實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施例2，不會(huì)如僅進(jìn)行加熱的比較例2般地增加了缺陷數(shù)，而能將缺陷數(shù)抑制成與比較例3大致相同的程度，該比較例3是沒有進(jìn)行加溫而原本就會(huì)抑制微粒的發(fā)生。又，分別進(jìn)行實(shí)施例2、比較例2、3的洗凈及干燥后的基板，分別放入已注入純水100ml的石英室內(nèi)，并完全地沉入水中，以9(TC來(lái)進(jìn)行60分鐘的離子抽出。進(jìn)而，將此處所得到的抽出液，根據(jù)離子層析法(利用日本DI0NEX公司制造的DX-500)，進(jìn)行抽出液中所含的硫酸離子的定量。在實(shí)施例2中的硫酸離子量，相較于比較例2是1/3程度，相較于比較例3，是1/4程度。亦即，可知實(shí)施本發(fā)明的洗凈方法的實(shí)施例2，相較于比較例2、3，在洗凈后，能顯著地除去殘留在基板表面上硫酸離子。如以上所述，若是本發(fā)明的洗凈方法，能有效率地除去附著在基板表面上的硫酸離子，并且對(duì)于在已洗凈的基板干燥后會(huì)產(chǎn)生的微粒，可顯著地抑制其發(fā)生。(實(shí)施例3)使用一種可旋轉(zhuǎn)洗凈干燥的裝置(洗凈裝置)，將洗凈液供給至該旋轉(zhuǎn)洗凈干燥裝置，來(lái)洗凈掩?；?；在用以供給洗凈液至此裝置中的洗凈液供給管路中，在裝置的30cm前，裝設(shè)圖4的本發(fā)明的洗凈液供給裝置201。此時(shí)，在供給管的下游側(cè)，設(shè)置氟樹脂加工制造而成的氣動(dòng)閥(ADVANCE公司制造)，用以與洗凈裝置的洗凈步驟連動(dòng)而輸送洗凈液；在排出管的下游側(cè)，則設(shè)置兩個(gè)停止閥。接著，當(dāng)使供給管下游的氣動(dòng)閥開放時(shí)，以從供給管供給的洗凈液量是每分鐘1公升而從排出管排出的洗凈液量是每分鐘1公升的方式，使排出管下游的一個(gè)停止閥維持開放狀態(tài)而利用剩下的停止閥來(lái)調(diào)整排出量。又，當(dāng)沒有使用洗凈液時(shí)，使上述維持開放狀態(tài)的停止閥關(guān)閉，便可隔斷排出。接著，作為被洗凈基板，準(zhǔn)備20片石英基板，在其主表面，已利用濺鍍而成膜有26nm的由CrN(Cr:N=9:1(原子比))所構(gòu)成的遮光膜、及20nm的由CrON(Cr:N:0=4:5:l(原子比))所構(gòu)成的反射防止膜；并使用Lasertec公司制造的MAGICS來(lái)進(jìn)行各個(gè)基板的缺陷分析，分別特定出0.08iim以上而未滿O.1iim、0.1ym以上而未滿O.2ym、及0.2ym以上的缺陷的位置。接著，如圖4(B)所示，以排出管的入口的高度位置比供給管的入口的高度位置更高的方式，來(lái)保持洗凈液供給裝置的朝向，并使原本隔斷從排出管往外排出的停止閥開放，開始排出洗凈液。然后，將已特定出上述缺陷位置后的基板，裝設(shè)在旋轉(zhuǎn)洗凈干燥機(jī)(裝置)中，開始上述洗凈液的排出5秒后，使通過上述洗凈液供給裝置后的超純水，以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘來(lái)進(jìn)行洗凈，洗凈后，以1000rpm來(lái)進(jìn)行30秒的旋轉(zhuǎn)干躁。亦即，實(shí)施了本發(fā)明的洗凈方法。對(duì)于所準(zhǔn)備的20片基板，分別進(jìn)行上述洗凈操作后，再度進(jìn)行缺陷檢查，測(cè)量發(fā)生在新位置上的缺陷。對(duì)于全部20片基板，新觀察到的合計(jì)缺陷數(shù)，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是7個(gè)(0.35個(gè)/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是2個(gè)(0.1個(gè)/片)、0.2ym以上的缺陷是2個(gè)(0.l個(gè)/片)。這些基板的缺陷數(shù)，相較于后述的比較例4，是較少的。特別是關(guān)于0.08ym以上而未滿O.liim的缺陷，實(shí)施例3，相對(duì)于比較例4，是非常少。這是因?yàn)?，根?jù)本發(fā)明，能防止發(fā)生以含有微細(xì)氣泡的洗凈液來(lái)洗凈基板的情況。(比較例4)相較于在實(shí)施例3中所使用的裝置，是使用未具備排出管的裝置，除了沒有從排出管排出洗凈液以外，與實(shí)施例3完全相同地利用超純水來(lái)洗凈20片已特定出缺陷位置的上述成膜有鉻膜的基板。亦即，根據(jù)公知的洗凈方法來(lái)進(jìn)行洗凈。然后，進(jìn)行旋轉(zhuǎn)干燥，測(cè)量發(fā)生在新位置的缺陷。對(duì)于全部20片基板，新觀察到的合計(jì)缺陷數(shù)，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是28個(gè)(1.4個(gè)/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是3個(gè)(0.15個(gè)/片)、0.2ym以上的缺陷是6個(gè)(0.3個(gè)/片)。相較于實(shí)施例3，在比較例4中，0.08iim以上而未滿O.liim的缺陷數(shù)，顯著地增加。(實(shí)施例4)使用一種可旋轉(zhuǎn)洗凈干燥的裝置，將洗凈液供給至該旋轉(zhuǎn)洗凈干燥裝置，來(lái)洗凈掩?；?；在用以供給洗凈液至此裝置中的洗凈液供給管路中，在裝置的30cm前，裝設(shè)如圖5所示的洗凈液供給裝置301;該洗凈液供給裝置301，在殼上具有洗凈液入口與氣泡排除管，并在過濾器的下游側(cè)，具有用以將洗凈液供給(輸送)至使用場(chǎng)所的供給管、及用以將滯留于過濾殼內(nèi)的洗凈液排出的排出管。在供給管的下游側(cè)，設(shè)置氣動(dòng)閥，用以與洗凈步驟連動(dòng)而輸送洗凈液；在排出管與氣泡排除管的下游側(cè)，則分別設(shè)置有氣動(dòng)閥，其能與用以將上述洗凈液輸送至使用場(chǎng)所的供給管的氣動(dòng)閥連動(dòng)；進(jìn)而，在排出管與氣泡排出管的出口，分別設(shè)置可調(diào)整排出量的停止閥。進(jìn)而，若開始供給洗凈液，同時(shí)關(guān)閉排出管與氣泡排除管的下游側(cè)的氣動(dòng)閥，并將供給至使用場(chǎng)所的供給量，調(diào)整成每分鐘1公升。又，當(dāng)供給管下游側(cè)的氣動(dòng)閥變成關(guān)閉，同時(shí)地，排出管與氣泡排除管的下游側(cè)的氣動(dòng)閥，則變成開放，并調(diào)整成每分鐘可從排出管與氣泡排除管分別排出0.5公升的洗凈液，而在沒有使用裝置的情況，則使全部的電磁閥關(guān)閉。亦即，根據(jù)本發(fā)明的洗凈方法來(lái)進(jìn)行洗凈。接著，將50片基板(與實(shí)施例3同樣地特定出缺陷位置并成膜有上述鉻膜)，使用上述洗凈液供給裝置及設(shè)置有洗凈液的供給與排出的控制系統(tǒng)而成的旋轉(zhuǎn)洗凈干燥機(jī)，并利用超純水進(jìn)行洗凈，于旋轉(zhuǎn)干燥后，測(cè)量發(fā)生在新位置上的缺陷。對(duì)于全部50片基板，新觀察到的合計(jì)缺陷數(shù)，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是16個(gè)(0.32個(gè)/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是1個(gè)(0.02個(gè)/片)、0.2ym以上的缺陷是2個(gè)(0.04個(gè)/片)；與實(shí)施例3相同，其缺陷數(shù)相較于比較例非常少。另外，本發(fā)明并未限定于上述實(shí)施形態(tài)。上述實(shí)施形態(tài)為例示，只要是具有與被記載于本發(fā)明的申請(qǐng)專利范圍中的技術(shù)思想實(shí)質(zhì)上相同的構(gòu)成，能得到同樣的作用效果者，不論為何者，皆被包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。權(quán)利要求一種掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其特征在于當(dāng)根據(jù)純水來(lái)洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)的掩模相關(guān)基板時(shí)，對(duì)在該洗凈中所使用的純水，預(yù)先進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟。2.如權(quán)利要求1所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中對(duì)在上述洗凈中所使用的純水，預(yù)先進(jìn)行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟與加溫的加溫步驟。3.如權(quán)利要求2所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中進(jìn)行上述加溫步驟，將在上述洗凈中所使用的純水，加熱至55t:以上。4.如權(quán)利要求l所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板設(shè)為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的基板。5.如權(quán)利要求2所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板設(shè)為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的基板。6.如權(quán)利要求3所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈的掩模相關(guān)基板設(shè)為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來(lái)實(shí)行處理后的基板。7.如權(quán)利要求1所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中當(dāng)要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈時(shí)，是對(duì)上述掩模相關(guān)基板噴淋純水，來(lái)實(shí)行洗凈。8.如權(quán)利要求6所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中當(dāng)要根據(jù)上述純水來(lái)進(jìn)行洗凈時(shí)，是對(duì)上述掩模相關(guān)基板噴淋純水，來(lái)實(shí)行洗凈。9.如權(quán)利要求1所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中使用氣液分離膜來(lái)進(jìn)行上述脫氣步驟。10.如權(quán)利要求8所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中使用氣液分離膜來(lái)進(jìn)行上述脫氣步驟。11.如權(quán)利要求1所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中進(jìn)行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度作成lppm以下。12.如權(quán)利要求10所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中進(jìn)行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度作成lppm以下。13.如權(quán)利要求112中任一項(xiàng)所述的掩模相關(guān)基板的洗凈方法，其中對(duì)在上述洗凈中所使用的純水還進(jìn)行利用過濾器來(lái)除去異物的異物除去步驟。14.一種洗凈方法，是將洗凈液供給至洗凈裝置中，來(lái)洗凈被洗凈基板的洗凈方法，其特征在于當(dāng)利用用以除去異物的過濾器來(lái)過濾上述洗凈液，并將該過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少在將上述過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，才將上述過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中。15.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中當(dāng)使上述過濾后的洗凈液通過供給管供給至上述洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少先將上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統(tǒng)外部排出，之后，直到將上述過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至上述洗凈裝置中為止，從上述排出管持續(xù)排出洗凈液。16.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中在開始供給上述過濾后的洗凈液后，一邊通過上述供給管來(lái)供給過濾后的洗凈液，一邊同時(shí)地通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。17.如權(quán)利要求15所述的洗凈方法，其中在開始供給上述過濾后的洗凈液后，一邊通過上述供給管來(lái)供給過濾后的洗凈液，一邊同時(shí)地通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。18.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中當(dāng)停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，仍通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。19.如權(quán)利要求15所述的洗凈方法，其中當(dāng)停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，仍通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。20.如權(quán)利要求16所述的洗凈方法，其中當(dāng)停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，仍通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。21.如權(quán)利要求17所述的洗凈方法，其中當(dāng)停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，仍通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出過濾后的洗凈液。22.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出上述過濾后的洗凈液。23.如權(quán)利要求第21所述的洗凈方法，其中直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，通過上述排出管來(lái)持續(xù)排出上述過濾后的洗凈液。24.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中當(dāng)要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，上述排出管的入口的高度位置設(shè)成比上述供給管的入口的高度位置更高。25.如權(quán)利要求23所述的洗凈方法，其中當(dāng)要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時(shí)，上述排出管的入口的高度位置設(shè)成比上述供給管的入口的高度位置更高。26.如權(quán)利要求14所述的洗凈方法，其中將上述被洗凈基板設(shè)為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。27.如權(quán)利要求25所述的洗凈方法，其中將上述被洗凈基板設(shè)為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。28.如權(quán)利要求1427中任一項(xiàng)所述的洗凈方法，其中將上述純水設(shè)為超純水。29.—種洗凈液供給裝置，是將洗凈液供給至用以洗凈被洗凈基板的洗凈裝置中的洗凈液供給裝置，其特征在于至少具備用以從上述洗凈液除去異物的過濾器、用以將上述洗凈液供給至上述洗凈裝置中的供給管、用以將上述洗凈液往系統(tǒng)外部排出的排出管、及分別被配設(shè)在上述供給管與排出管上來(lái)控制上述洗凈液的液量的閥；上述供給管與上述排出管，被連接在上述過濾器的更下游側(cè)，并根據(jù)上述供給管與排出管的各個(gè)閥的開閉，將利用上述過濾器而被過濾后的洗凈液，往上述洗凈裝置供給及/或往系統(tǒng)外部排出。30.如權(quán)利要求29所述的洗凈液供給裝置，其中在上述供給管與上述排出管的連接部，排出管的入口的高度位置設(shè)成比供給管的入口的高度位置更高。31.如權(quán)利要求29所述的洗凈液供給裝置，其中配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內(nèi)；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統(tǒng)外部排除。32.如權(quán)利要求30所述的洗凈液供給裝置，其中配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼，通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內(nèi)；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統(tǒng)外部排除。33.如權(quán)利要求2932中任一項(xiàng)所述的洗凈液供給裝置，其中上述被洗凈基板是掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。34.如權(quán)利要求2932中任一項(xiàng)所述的洗凈液供給裝置，其中上述洗凈液是超純水。35.如權(quán)利要求33所述的洗凈液供給裝置，其中上述洗凈液是超純水。全文摘要本發(fā)明涉及一種掩模相關(guān)基板的洗凈方法，當(dāng)根據(jù)純水來(lái)洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來(lái)的掩模相關(guān)基板時(shí)，對(duì)在該洗凈中所使用的純水預(yù)先將溶解氣體脫氣。本發(fā)明還涉及一種洗凈液供給裝置和一種洗凈方法，該方法是將洗凈液供給至洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板，當(dāng)利用用以除去異物的過濾器來(lái)過濾洗凈液，并將過濾后的洗凈液通過供給管供給至洗凈裝置中來(lái)洗凈被洗凈基板時(shí)，至少在將過濾后的洗凈液往洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管往系統(tǒng)外部排出，之后才將過濾后的洗凈液通過供給管供給至洗凈裝置中。本發(fā)明能簡(jiǎn)便地提高硫酸離子的洗凈效率，進(jìn)而能極度地減少微小異物的發(fā)生量。文檔編號(hào)B08B13/00GK101716581SQ20091017900公開日2010年6月2日申請(qǐng)日期2009年10月9日優(yōu)先權(quán)日2008年10月8日發(fā)明者沼波恒夫申請(qǐng)人:信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社