專利名稱：一種微粒研磨頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種微粒研磨頭技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種調(diào)味品研磨器，特別是涉及配裝在研磨器中的研磨頭，具 體在說是一種微粒研磨頭。
背景技術(shù)：
[0002]通常在人們的飲食習(xí)慣中，人們?yōu)榱颂岣呤澄锏纳?、香、味?huì)在食物的烹調(diào)或 食用過程中，添加各種香料，例如胡椒就是人們常用的一種調(diào)味品。家用研磨器一般包 括用于盛裝顆粒顆粒香料的瓶體和研磨器組件，研磨組件中安裝有轉(zhuǎn)動(dòng)碾壓粉碎的研磨 頭組件，使用時(shí)，將研磨器倒過來，研磨瓶?jī)?nèi)的食用香料就會(huì)流到研磨器組件中并進(jìn)入 研磨頭組件，經(jīng)研磨頭組件碾壓粉碎后，形成粉末狀從研磨器組件出口流出。研磨頭組 件包括研磨公頭和研磨母頭，研磨公頭一般配裝在研磨母頭的研磨腔中，研磨公頭可以 相對(duì)研磨母頭旋轉(zhuǎn)。現(xiàn)有技術(shù)中，研磨母頭的研磨腔周壁上制有內(nèi)研磨齒線，研磨公頭 的外周面上制有與其相配合的外研磨齒線，但是，一般的研磨頭組件由于研磨面小，無 法根據(jù)不同的研磨階段，設(shè)計(jì)相應(yīng)的研磨齒面，用以調(diào)整研磨間隙，因此其研磨的食料 細(xì)度和精度不高，再則其研磨齒面完全采用左右配合，固而也無法取得較理想的研磨效 果，因此難以滿足人們高品質(zhì)生活的需要。發(fā)明內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀，提供一種微粒研磨 頭，其根據(jù)相應(yīng)研磨區(qū)段的功能要求，設(shè)計(jì)有相應(yīng)的研磨齒線，并且具有研磨能力強(qiáng)， 精度高、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔、安全可靠等優(yōu)點(diǎn)。[0004]本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種微粒研磨頭，包括相 配合用于研磨顆粒食料的研磨公頭和研磨母頭，其研磨公頭轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝在研磨母頭的 研磨腔中，且研磨公頭與研磨母頭相配問依序形成有粉碎區(qū)、研磨區(qū)和細(xì)磨區(qū)，并構(gòu)成 區(qū)段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述研磨腔的內(nèi)壁上制有用于研磨的內(nèi)研磨層，相 應(yīng)地所述研磨公頭的外壁上制有與其配合的外研磨層。[0005]為優(yōu)化上述技術(shù)方案，采取的具體措施還包括[0006]上述的粉碎區(qū)形成有由大漸小的錐形進(jìn)料腔，所述研磨公頭位于進(jìn)料腔的外研 磨層制有由深漸淺的螺旋進(jìn)料槽，相應(yīng)地所述研磨母頭位于進(jìn)料腔的內(nèi)研磨層制有與進(jìn) 料槽相適配的螺旋導(dǎo)料槽。[0007]上述的研磨區(qū)位于承接粉碎區(qū)和細(xì)磨區(qū)的中間段，所述研磨公頭位于研磨區(qū)的 外研磨層上制有螺旋狀的外研磨齒線，相應(yīng)地所述研磨母頭位于研磨區(qū)的內(nèi)研磨層上制 有與外研磨齒線相適配的螺旋內(nèi)研磨齒線。[0008]上述的研磨公頭位于細(xì)磨區(qū)的外研磨層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀外研齒條，相 應(yīng)地所述研磨母頭位于細(xì)磨區(qū)的內(nèi)研磨層上制有與外研齒條相適配的螺旋狀內(nèi)研齒條。[0009]上述的研磨母頭位于細(xì)磨區(qū)的內(nèi)研磨層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀內(nèi)研齒條，所述研磨公頭位于細(xì)磨區(qū)的外研磨層上制有與內(nèi)研齒條相配研磨的外研平面。[0010]上述的研磨母頭制有下凸椽臺(tái)體，所述研磨公頭制有上凸椽臺(tái)體，所述細(xì)磨區(qū) 位下凸椽臺(tái)體與上凸椽臺(tái)體的接合面。[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的一種微粒研磨頭，其研磨公頭轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝在 研磨母頭的研磨腔中，且研磨公頭與研磨母頭相配間依序形成有粉碎區(qū)、研磨區(qū)和細(xì)磨 區(qū)，并構(gòu)成區(qū)段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述研磨腔的內(nèi)壁上制有用于研磨的內(nèi) 研磨層，相應(yīng)地所述研磨公頭的外壁上制有與其配合的外研磨層。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在 于研磨公、母頭均制有凸椽臺(tái)體，增大了研磨區(qū)域面，并根據(jù)香料進(jìn)入方向和各研磨 階段的不同需要分設(shè)有三個(gè)研磨區(qū)域，各區(qū)域均制有與該區(qū)域功能相配的研磨齒線，細(xì) 研磨區(qū)采用上下壓配式傳統(tǒng)的石磨研磨原理，研磨顆粒非常細(xì)小，能達(dá)到理想的細(xì)度要 求，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、裝配方便、經(jīng)濟(jì)耐用等特點(diǎn)。


[0012]圖1是本實(shí)用新型的仰視剖面結(jié)構(gòu)示意圖；[0013]圖2是圖1主視圖；[0014]圖3是圖2右視圖；[0015]圖4是圖3的后視圖；[0016]圖5是圖1中研磨母頭的結(jié)構(gòu)示意圖；[0017]圖6是圖5的俯視圖；[0018]圖7是圖5的仰視圖；[0019]圖8是圖1中配裝制有外研齒條的研磨公頭結(jié)構(gòu)示意圖[0020]圖9是圖8的仰視圖；[0021]圖10是1中配裝制有外研平面的研磨公頭結(jié)構(gòu)示意圖；[0022]圖11是圖10的仰視圖。
具體實(shí)施方式
[0023]
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)描述。[0024]圖1至圖11所示為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。[0025]其中的附圖標(biāo)記為研磨公頭1、進(jìn)料槽11、外研磨齒線12、外研齒條13、上 凸椽臺(tái)體14、外研平面15、研磨母頭2、研磨腔&、導(dǎo)料槽21、內(nèi)研磨齒線22、內(nèi)研齒 條23、下凸椽臺(tái)體M、粉碎區(qū)3、錐形進(jìn)料腔3a、研磨區(qū)4、細(xì)磨區(qū)5。[0026]如圖1至圖4所示，本實(shí)用新型的一種微粒研磨頭，包括相配合用于研磨顆粒食 料的研磨公頭1和研磨母頭2，其研磨公頭1轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝在研磨母頭2的研磨腔&中， 且研磨公頭1與研磨母頭2相配間依序形成有粉碎區(qū)3、研磨區(qū)4和細(xì)磨區(qū)5，并構(gòu)成區(qū) 段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述研磨腔的內(nèi)壁上制有用于研磨的內(nèi)研磨層，相 應(yīng)地所述研磨公頭1的外壁上制有與其配合的外研磨層。本實(shí)用新型的一種微粒研磨頭 根據(jù)研磨不同階段的實(shí)際情況，形成有不同的研磨區(qū)域，并根據(jù)不同的研磨區(qū)域的功能 要求，制有相應(yīng)的研磨層，能使顆粒食料分步驟的系統(tǒng)研磨，從而能取得更好的研磨效 果，使研磨的食料更細(xì)、更精，能方便人們的食用。[0027]實(shí)施例一如圖1至圖9所示，本實(shí)用新型的研磨公頭1位于細(xì)磨區(qū)5的外研磨 層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀外研齒條13，相應(yīng)地研磨母頭2位于細(xì)磨區(qū)5的內(nèi)研磨層上制 有與外研齒條13相適配的螺旋狀內(nèi)研齒條23;研磨母頭2制有下凸椽臺(tái)體M，研磨公頭 1制有上凸椽臺(tái)體14;細(xì)磨區(qū)5位下凸椽臺(tái)體M與上凸椽臺(tái)體14的接合面，制有凸椽臺(tái) 體增大了面，延長(zhǎng)了研磨時(shí)間，上、下凸椽臺(tái)體形成傳統(tǒng)的石磨研磨結(jié)構(gòu)，與左右擠壓 方式相比具有更強(qiáng)的研磨效果；如圖1所示，研磨公頭1與研磨母頭2相配間依次形成有 粉碎區(qū)3、研磨區(qū)4和細(xì)磨區(qū)5，且粉碎區(qū)3形成有由大漸小的錐形進(jìn)料腔3a，研磨公頭 1位于進(jìn)料腔3a的外研磨層制有由深漸淺的螺旋進(jìn)料槽11，相應(yīng)地所述研磨母頭2位于 進(jìn)料腔3a的內(nèi)研磨層制有與進(jìn)料槽11相適配的螺旋導(dǎo)料槽21 ；顆粒食料從進(jìn)料腔3a進(jìn) 入粉碎區(qū)3，由于研磨公頭1與研磨母頭2均制有由深漸淺的螺旋槽，因此進(jìn)料均勻，并 能在粉碎區(qū)3初步粉碎，形成相對(duì)較小的顆粒通過螺旋進(jìn)入研磨區(qū)4;研磨區(qū)4位于承接 粉碎區(qū)3和細(xì)磨區(qū)5的中間段，研磨公頭1位于研磨區(qū)4的外研磨層上制有螺旋狀的外研 磨齒線12，相應(yīng)地所述研磨母頭2位于研磨區(qū)4的內(nèi)研磨層上制有與外研磨齒線12相適 配的螺旋內(nèi)研磨齒線22;研磨公頭1與研磨母頭2在研磨區(qū)4內(nèi)，其研磨層均勻制有螺 旋研磨齒線，能通過研磨齒線的相對(duì)運(yùn)動(dòng)進(jìn)一步切割碾碎顆粒食料，齒線具有較好的碾 切能力。食料經(jīng)研磨區(qū)4進(jìn)入細(xì)磨區(qū)5，由于細(xì)磨區(qū)5通過上凸椽臺(tái)體14和下凸椽臺(tái)體 M上、下壓配轉(zhuǎn)動(dòng)配合，采用傳統(tǒng)的石磨研磨原理，因此研磨的食料更細(xì)、更精。[0028]實(shí)施例二如圖1、圖10、圖11所示，本實(shí)用新型其研磨公頭1轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝 在研磨母頭2的研磨腔&中，且研磨公頭1與研磨母頭2相配間依序形成有粉碎區(qū)3、研 磨區(qū)4和細(xì)磨區(qū)5，并構(gòu)成區(qū)段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；研磨母頭2制有下凸椽臺(tái) 體M，研磨公頭1制有上凸椽臺(tái)體14，細(xì)磨區(qū)5位下凸椽臺(tái)體M與上凸椽臺(tái)體14的接 合面。研磨母頭2位于細(xì)磨區(qū)5的內(nèi)研磨層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀內(nèi)研齒條23，研磨 公頭1位于細(xì)磨區(qū)5的外研磨層上制有與內(nèi)研齒條23相配研磨的外研平面15。制有凸 椽臺(tái)體增大了面，延長(zhǎng)了研磨時(shí)間，上、下凸椽臺(tái)體形成傳統(tǒng)的石磨研磨結(jié)構(gòu)，與左右 擠壓方式相比具有更強(qiáng)的研磨效果；螺旋狀的內(nèi)研齒條23取代了下凸椽臺(tái)體M的研磨平 面，在增加研磨碾切力度的同時(shí)，還具有將粉末食料導(dǎo)出的作用，本實(shí)施例除研磨公頭1 處在細(xì)磨區(qū)5中的外研磨層結(jié)構(gòu)不同外，其它結(jié)構(gòu)完全相同。[0029]本實(shí)用新型的最佳實(shí)施例已闡明，由本領(lǐng)域普通技術(shù)人員做出的各種變化或改 型都不會(huì)脫離本實(shí)用新型的范圍。
權(quán)利要求1.一種微粒研磨頭，包括相配合用于研磨顆粒食料的研磨公頭(1)和研磨母頭0)， 其特征是所述的研磨公頭(1)轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝在研磨母頭O)的研磨腔Oa)中，且研磨 公頭(1)與研磨母頭(2)相配間依序形成有粉碎區(qū)(3)、研磨區(qū)(4)和細(xì)磨區(qū)(5)，并構(gòu) 成區(qū)段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述研磨腔Oa)的內(nèi)壁上制有用于研磨的內(nèi)研磨 層，相應(yīng)地所述研磨公頭(1)的外壁上制有與其配合的外研磨層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微粒研磨頭，其特征是所述的粉碎區(qū)C3)形成有由 大漸小的錐形進(jìn)料腔(3a)，所述研磨公頭(1)位于進(jìn)料腔(3a)的外研磨層制有由深漸淺 的螺旋進(jìn)料槽(11)，相應(yīng)地所述研磨母頭( 位于進(jìn)料腔(3a)的內(nèi)研磨層制有與進(jìn)料槽 (11)相適配的螺旋導(dǎo)料槽01)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種微粒研磨頭，其特征是所述的研磨區(qū)(4)位于承接粉 碎區(qū)(3)和細(xì)磨區(qū)(5)的中間段，所述研磨公頭(1)位于研磨區(qū)的外研磨層上制有螺 旋狀的外研磨齒線(12)，相應(yīng)地所述研磨母頭(2)位于研磨區(qū)(4)的內(nèi)研磨層上制有與外 研磨齒線(12)相適配的螺旋內(nèi)研磨齒線02)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種微粒研磨頭，其特征是所述的研磨公頭(1)位于細(xì)磨 區(qū)(5)的外研磨層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀外研齒條(13)，相應(yīng)地所述研磨母頭(2)位于 細(xì)磨區(qū)(5)的內(nèi)研磨層上制有與外研齒條(13)相適配的螺旋狀內(nèi)研齒條03)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種微粒研磨頭，其特征是所述的研磨母頭(2)位于細(xì)磨 區(qū)(5)的內(nèi)研磨層上制有適于細(xì)磨的螺旋狀內(nèi)研齒條03)，所述研磨公頭(1)位于細(xì)磨區(qū) (5)的外研磨層上制有與內(nèi)研齒條03)相配研磨的外研平面(15)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的一種微粒研磨頭，其特征是所述的研磨母頭( 制有 下凸椽臺(tái)體04)，所述研磨公頭(1)制有上凸椽臺(tái)體(14)，所述細(xì)磨區(qū)(5)位下凸椽臺(tái) 體04)與上凸椽臺(tái)體(14)的接合面。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種微粒研磨頭，包括相配合用于研磨顆粒食料的研磨公頭和研磨母頭，其研磨公頭轉(zhuǎn)動(dòng)配合套裝在研磨母頭的研磨腔中，且研磨公頭與研磨母頭相配間依序形成有粉碎區(qū)、研磨區(qū)和細(xì)磨區(qū)，并構(gòu)成區(qū)段漸進(jìn)式的連續(xù)研磨的臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述研磨腔的內(nèi)壁上制有用于研磨的內(nèi)研磨層，相應(yīng)地所述研磨公頭的外壁上制有與其配合的外研磨層。本實(shí)用新型的一種微粒研磨頭，細(xì)磨區(qū)采用傳統(tǒng)的石磨研磨原理，研磨細(xì)度高、研磨能力強(qiáng)且具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、經(jīng)濟(jì)耐用等特點(diǎn)。
文檔編號(hào)A47J42/10GK201806571SQ20102051936
公開日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2010年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月2日
發(fā)明者張國(guó)平 申請(qǐng)人:張國(guó)平