專利名稱：一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體的說(shuō)是一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法。
背景技術(shù)：
在晶圓的生產(chǎn)過(guò)程中，易產(chǎn)生一些污染物。這些污染物包括:金屬污染物，化學(xué)污染物以及落塵等。對(duì)這些污染物的去除通常都采用傳統(tǒng)的用去離子數(shù)沖洗的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。但隨著半導(dǎo)體領(lǐng)域的進(jìn)一步發(fā)展，對(duì)晶圓表面的清潔度要求越來(lái)越高，這種傳統(tǒng)的方式已經(jīng)不能滿足目前一般性的生產(chǎn)要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法:在晶圓的生產(chǎn)中晶片以及設(shè)置在清洗裝置上的毛刷分別自旋轉(zhuǎn)，使毛刷與晶圓之間進(jìn)行相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)，并在自轉(zhuǎn)過(guò)程中由清洗裝置上上設(shè)置的噴頭向晶圓上噴淋清洗液；所述清洗液為肥皂水。所述清洗液為洗潔精和去離子水按體積百分比為1: 100-1: 50混合而成。所述清洗液為洗潔精和去離子水按體積百分比為1: 100混合而成。.所述毛刷為尼龍刷，其絲徑為0.5mm,長(zhǎng)度為10_20mm。本發(fā)明的有益效果是:通過(guò)本發(fā)明的清洗方式對(duì)晶圓表面進(jìn)行清洗的結(jié)果是:使晶圓表面的直徑0.2微米以上的顆粒去除率達(dá)到98%。
具體實(shí)施例方式在晶圓的生產(chǎn)中晶片以及設(shè)置在清洗裝置上的尼龍刷分別自轉(zhuǎn)，使尼龍刷與晶圓之間進(jìn)行相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)，并在自轉(zhuǎn)過(guò)程中由清洗裝置上設(shè)置的噴頭向晶圓上噴淋清洗液；即掃描馬達(dá)通過(guò)聯(lián)軸器帶動(dòng)整個(gè)清洗裝置圍繞其主軸(主軸轉(zhuǎn)速500rpm)做掃描運(yùn)動(dòng)。與此同時(shí)，尼龍刷自轉(zhuǎn)電機(jī)帶動(dòng)毛刷自轉(zhuǎn)((毛刷掃描10次-20次)，毛刷轉(zhuǎn)速50rpm)。晶圓此時(shí)也在做高速(100-500rpm)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),這樣就實(shí)現(xiàn)了尼龍刷與晶圓的相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)。所述清洗液為肥皂水，即洗潔精和去離子水按體積百分比為1: 100混合而成。所述尼龍刷的刷毛長(zhǎng)度為:10-20111111，絲徑為0.05111111。這樣的一個(gè)長(zhǎng)度和絲徑有利于去除附著在晶圓表面的污染物。尼龍刷的刷體四周要比中央長(zhǎng)2mm左右，這樣做有助于將清理下來(lái)的雜物迅速排除，同時(shí)噴頭向晶圓上噴淋清洗液通過(guò)氮?dú)饧訅旱姆绞焦?yīng)，氮?dú)鈮毫?.15兆帕。同時(shí)肥皂水是用去離子水稀釋洗潔精，使其具有良好的流動(dòng)性。再配以尼龍刷的自旋轉(zhuǎn)。最大限度的將晶圓表面顆粒去除。在使用尼龍刷對(duì)晶圓進(jìn)行清洗時(shí)，噴淋肥皂水。既能起到潤(rùn)濕尼龍刷防止劃傷晶圓表面的作用，又能實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓表面去染污的有效去除功倉(cāng)泛。
上述實(shí)施例為本發(fā)明較佳的實(shí)施方式，但本發(fā)明的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，其他的任何未背離本發(fā)明的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡(jiǎn)化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法，其特征在于:在晶圓的生產(chǎn)中晶片以及設(shè)置在清洗裝置上的毛刷分別自旋轉(zhuǎn)，使毛刷與晶圓之間進(jìn)行相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)，并在自轉(zhuǎn)過(guò)程中由清洗裝置上上設(shè)置的噴頭向晶圓上噴淋清洗液；所述清洗液為肥皂水。
2.按權(quán)利要求1所述的晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法，其特征在于:所述清洗液為洗潔精和去離子水按體積百分比為1: 100-1: 50混合而成。
3.按權(quán)利要求2所述的晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法，其特征在于:所述清洗液為洗潔精和去離子水按體積百分比為1: 100混合而成。
4.按權(quán)利要求1所述的晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法，其特征在于:所述毛刷為尼龍刷，其絲徑為0.5mm，長(zhǎng)度為10-20mm。
全文摘要
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體的說(shuō)是一種晶圓的生產(chǎn)中的清洗方法。在晶圓的生產(chǎn)中晶片以及設(shè)置在清洗裝置上的毛刷分別自旋轉(zhuǎn)，使毛刷與晶圓之間進(jìn)行相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)，并在自轉(zhuǎn)過(guò)程中由清洗裝置上上設(shè)置的噴頭向晶圓上噴淋清洗液；所述清洗液為肥皂水。通過(guò)本發(fā)明的清洗方式對(duì)晶圓表面進(jìn)行清洗的結(jié)果是使晶圓表面的直徑0.2微米以上的顆粒去除率達(dá)到98％。
文檔編號(hào)B08B7/04GK103094066SQ20111033232
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2011年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月27日
發(fā)明者侯憲華 申請(qǐng)人:沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備有限公司