一種太陽能硅片的清洗劑制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其制備方法如下：（1）按重量份數(shù)稱取原材料如下：還原劑50-100份，氫氧化鈉 20-50份，防腐劑20-60份，純堿10-50份，無水硅酸鈉 30-50份，氯化鈣10-60份，二丙二醇甲醚10-50份，水50-150份；（2）攪拌：無水硅酸鈉加入水中，攪拌5-15min，攪拌均勻；（3）然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟（2）中，攪拌10-30min；（4）將攪拌好清洗劑放在通風處，1-3小時。配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小。
【專利說明】一種太陽能硅片的清洗劑制備方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)清洗領域，尤其涉及一種太陽能硅片的清洗劑領域。

【背景技術】
[0002]太陽能硅片的清洗是指清洗硅片表面受到物理、化學或生物的作用而形成的污染層或覆蓋層使其恢復原表面的過程。太陽能硅片的清洗具有節(jié)能、降耗、節(jié)水、安全、穩(wěn)產(chǎn)、提高產(chǎn)品質量、加快生產(chǎn)速度、延長設備使用壽命、降低環(huán)境污染以及外表美觀和人類衛(wèi)生健康等作用。目前太陽能硅片長時間會產(chǎn)生污垢，如不及時清洗，會影響產(chǎn)品生產(chǎn)，同時大部分清洗劑具有毒物質，容易腐蝕皮膚。


【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，解決現(xiàn)有清洗劑容易腐蝕皮膚的問題。
[0004]本發(fā)明的目的可以通過以下技術方案實現(xiàn)；
一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其制備方法如下:
(O按重量份數(shù)稱取原材料如下:
還原劑50-100份，氫氧化鈉20-50份，防腐劑20-60份，純堿10-50份，無水硅酸鈉30-50份，氯化鈣10-60份，二丙二醇甲醚10-50份，水50-150份；
(2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌5-15min,攪拌均勻；
(3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌 10-30min ；
(4)將攪拌好清洗劑放在通風處，1-3小時。
[0005]上述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其中，所述的還原劑與氫氧化鈉的重量分數(shù)比為3:1。
[0006]上述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其中，所述的防腐劑與純堿的重量分數(shù)比為2:1。
[0007]上述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其中，所述的無水硅酸鈉與水的重量分數(shù)比為2:5。
[0008]上述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其中，所述的氯化鈣與二丙二醇甲醚的重量分數(shù)比2:3。
[0009]上述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其中，所述的防腐劑為三氯甲醛。
[0010]本方案的有益效果:
本發(fā)明提供的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小，通過通過反復攪拌，使其攪拌均勻，配置方便，成本低。

【具體實施方式】
[0011]實施例1:一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其制備方法如下:(1)按重量份數(shù)稱取原材料如下:
還原劑60份，氫氧化鈉20份，防腐劑20份，純堿10份，無水硅酸鈉30份，氯化鈣10份，二丙二醇甲醚15份，水75份；
(2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌5min,攪拌均勻；
(3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌1min ；
(4)將攪拌好清洗劑放在通風處I小時。
[0012]實施例2:—種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其制備方法如下:(1)按重量份數(shù)稱取原材料如下:
還原劑75份，氫氧化鈉25份，防腐劑30份，純堿15份，無水硅酸鈉40份，氯化鈣12份，二丙二醇甲醚18份，水100份；
(2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌1min,攪拌均勻；
(3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌20min ；
(4)將攪拌好清洗劑放在通風處2小時。
[0013]實施例3:—種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其制備方法如下:(1)按重量份數(shù)稱取原材料如下:
還原劑90份，氫氧化鈉30份，防腐劑40份，純堿20份，無水硅酸鈉50份，氯化鈣16份，二丙二醇甲醚48份，水125份；
(2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌15min,攪拌均勻；
(3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌30min ；
(4)將攪拌好清洗劑放在通風處3小時。
[0014]本發(fā)明提供的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小，通過通過反復攪拌，使其攪拌均勻，配置方便，成本低。
[0015]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內。因此，本發(fā)明的保護范圍應該以權利要求書的保護范圍為準。
【權利要求】
1.一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，其制備方法如下: (1)按重量份數(shù)稱取原材料如下: 還原劑50-100份，氫氧化鈉20-50份，防腐劑20-60份，純堿10-50份，無水硅酸鈉30-50份，氯化鈣10-60份，二丙二醇甲醚10-50份，水50-150份； (2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌5-15min,攪拌均勻； (3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌 10-30min ； (4)將攪拌好清洗劑放在通風處，1-3小時。
2.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，優(yōu)選的，其制備方法如下: (O按重量份數(shù)稱取原材料如下: 還原劑60份，氫氧化鈉20份，防腐劑20份，純堿10份，無水硅酸鈉30份，氯化鈣10份，二丙二醇甲醚15份，水75份； (2)攪拌:無水娃酸鈉加入水中,攪拌5min,攪拌均勻； (3)然后將還原劑，氫氧化鈉，防腐劑，純堿，氯化鈣，二丙二醇甲醚依次加入步驟(2)中，攪拌1min ； (4)將攪拌好清洗劑放在通風處I小時。
3.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，所述的還原劑與氫氧化鈉的重量分數(shù)比為3:1。
4.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，所述的防腐劑與純堿的重量分數(shù)比為2:1。
5.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，所述的無水硅酸鈉與水的重量分數(shù)比為2:5。
6.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，所述的氯化鈣與二丙二醇甲醚的重量分數(shù)比2:3。
7.如權利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑制備方法，其特征為，所述的防腐劑為三氯甲醛。
【文檔編號】C11D7/26GK104498218SQ201410846537
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年12月31日 優(yōu)先權日:2014年12月31日
【發(fā)明者】聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司