一種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，包括設(shè)在機(jī)架上的清洗筒，清洗筒的蓋體內(nèi)面設(shè)有清洗部件；清洗筒內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)盤；清洗筒的下方設(shè)有驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)；轉(zhuǎn)盤表面對(duì)稱地固定有數(shù)個(gè)定位體，各定位體相向側(cè)形成有多層用于滑入并嵌置治具的滑槽，滑槽朝向轉(zhuǎn)盤中心的一端開放，構(gòu)成治具的滑入口，相對(duì)滑入口的另一端封閉，形成對(duì)治具的限位部，且由上至下各層滑槽的限位部逐漸靠近轉(zhuǎn)盤中心；各治具的兩端嵌置在相鄰定位體的相對(duì)應(yīng)的滑槽中，形成多層排列的結(jié)構(gòu)；各治具承載有硅片載盤。本實(shí)用新型充分利用了清洗筒內(nèi)的空間，提高了清洗效率，且上下層之間不會(huì)造成二次污染，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易使用操作，適合應(yīng)用于太陽能電池片的生產(chǎn)中。
【專利說明】—種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種具有多層結(jié)構(gòu)的晶片清洗裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在太陽能電池產(chǎn)業(yè)中，硅片在制造過程種所粘附的雜質(zhì)必須經(jīng)由清洗機(jī)適時(shí)清洗。常用的一種硅片清洗機(jī)的工作原理是，在清洗筒內(nèi)，通過清洗部件向固定于轉(zhuǎn)盤上的硅片噴射清洗液，在清洗過程中馬達(dá)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，將清洗液離心甩離硅片表面，達(dá)到清洗硅片的目的。
[0003]但現(xiàn)有的硅片清洗機(jī)的轉(zhuǎn)盤只能擺設(shè)一層硅片，一次可清洗的硅片量小，而每一次在轉(zhuǎn)盤上定位硅片操作麻煩，且從按下停機(jī)按鈕到轉(zhuǎn)盤最終停止轉(zhuǎn)動(dòng)需要一定時(shí)間，故清洗的效率也低。
[0004]因此，提供一種可以提高清洗效率的晶片清洗裝置對(duì)于實(shí)現(xiàn)太陽能電池片的高效生產(chǎn)至關(guān)重要。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種可以提高清洗效率的晶片清洗裝置。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，包括設(shè)在機(jī)架上的清洗筒，清洗筒的蓋體內(nèi)面設(shè)有清洗部件；清洗筒內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)盤；清洗筒的下方設(shè)有驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)；轉(zhuǎn)盤表面對(duì)稱地固定有數(shù)個(gè)定位體，各定位體相向側(cè)形成有多層用于滑入并嵌置治具的滑槽，滑槽朝向轉(zhuǎn)盤中心的一端開放，構(gòu)成治具的滑入口，相對(duì)滑入口的另一端封閉，形成對(duì)治具的限位部，且由上至下各層滑槽的限位部逐漸靠近轉(zhuǎn)盤中心；各治具的兩端嵌置在相鄰定位體的相對(duì)應(yīng)的滑槽中，形成多層排列的結(jié)構(gòu)；各治具承載硅片載盤。
[0007]為了使清洗液沖擊硅片后迅速?gòu)墓杵砻嫠﹄x，而不劃傷硅片，進(jìn)一步限定地，所述滑槽與水平成0.5?45度角，且各所述滑槽的滑入口的一端高于其限位部的一端。
[0008]為了使各層硅片具有相近的清洗效果，避免局部硅片清洗不干凈，進(jìn)一步限定地，上層的所述滑槽的傾斜角度小于下層的所述滑槽的傾斜角度。由于下層滑槽的傾斜角度大于上層的傾斜角度，清洗液可以以近似同一的沖擊角度沖擊硅片，從而使各層硅片具有相近的清洗效果。
[0009]為了簡(jiǎn)化治具的機(jī)構(gòu)，同時(shí)避免治具阻擋清洗液接觸或甩離硅片，進(jìn)一步限定地，所述治具包括一對(duì)包裹在硅片載盤端部的保護(hù)套。這樣，保護(hù)套的端部嵌置在所述滑槽中。
[0010]為了簡(jiǎn)化治具結(jié)構(gòu)的同時(shí)增強(qiáng)硅片載盤的受力能力，進(jìn)一步限定地，一對(duì)所述保護(hù)套之間可拆卸連接有與所述硅片載盤平行的支撐件。
[0011]為了不影響清洗液沖擊以及甩離硅片表面，進(jìn)一步限定地，所述支撐件設(shè)置在所述硅片載盤的底部。
[0012]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:本實(shí)用新型具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置充分利用了清洗筒內(nèi)的空間，設(shè)置了多層用于嵌置治具的滑槽，使得承載硅片載盤的治具可以形成多層機(jī)構(gòu)，并且由于上至下各層滑槽的限位部逐漸靠近轉(zhuǎn)盤中心，在轉(zhuǎn)盤離心力的作用下，可以使各層治具呈發(fā)散狀分布，使得清洗液可以充分接觸各層的治具所承載的硅片載盤，進(jìn)而使各層硅片得到清洗，提高了清洗效率。這種發(fā)散狀分布的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是，下/下層硅片表面甩離的清洗液不會(huì)對(duì)上/下層硅片表面造成二次污染。這種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易使用操作，適合應(yīng)用于太陽能電池片的生產(chǎn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置的局剖結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是圖1中轉(zhuǎn)盤上定位體布置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是圖2中定位體的局部放大結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖4是圖1中治具和硅盤載片的組合結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖5是圖4中的仰視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖中:1、機(jī)架；2、清洗筒；3、清洗部件；4、電動(dòng)機(jī)；5、定位體；6、治具；7、硅片載盤；21、蓋體；22轉(zhuǎn)盤；51、滑槽；511、滑入口 ；512、限位部；61、61’、保護(hù)套；62、支撐件。

【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0020]如圖1、圖2和圖3所示，本實(shí)用新型是一種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，包括設(shè)在機(jī)架I上的清洗筒2，清洗筒2的蓋體21內(nèi)面設(shè)有清洗部件3 ;清洗筒2內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)盤22 ；清洗筒2的下方設(shè)有驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤22轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)4 ;轉(zhuǎn)盤22表面對(duì)稱地固定有數(shù)個(gè)定位體5，各定位體5相向側(cè)形成有多層用于滑入并嵌置治具的滑槽51，滑槽51朝向轉(zhuǎn)盤22中心的一端開放，構(gòu)成治具6的滑入口 511，相對(duì)滑入口 511的另一端封閉，形成對(duì)治具的限位部512，且由上至下各層滑槽51的限位部512逐漸靠近轉(zhuǎn)盤22的中心；各治具6的兩端嵌置在相鄰定位體5的相對(duì)應(yīng)的滑槽51中，形成多層排列的結(jié)構(gòu)；各治具6承載有硅片載盤7。
[0021]為了使清洗液沖擊硅片后迅速?gòu)墓杵砻嫠﹄x，而不劃傷硅片，各滑槽與511水平成0.5?45度角，且各滑槽51的滑入口 511的一端高于其限位部512的一端。最好上層的滑槽51的傾斜角度小于下層的滑槽51的傾斜角度，以保證清洗液可以以近似同一的沖擊角度沖擊硅片，從而使各層硅片具有相近的清洗效果。
[0022]為了簡(jiǎn)化治具6的機(jī)構(gòu)，同時(shí)避免治具6阻擋清洗液接觸或甩離硅片，如圖4和5所示，所述治具6可以包括一對(duì)包裹在硅片載盤7的端部的保護(hù)套61、61’，保護(hù)套61、61’的端部嵌置在滑槽51中；一對(duì)保護(hù)套之間連接有與硅片載盤7平行的支撐件62以增強(qiáng)硅片載盤7的受力能力，支撐件62與保護(hù)套61、61’最好為可拆卸連接，如卡扣連接，以便于插置硅片載盤7。另外，支撐件62最好設(shè)置在硅片載盤7的底部，這樣設(shè)置支撐件62不會(huì)影響清洗液沖擊以及甩離硅片表面。
[0023]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，包括設(shè)在機(jī)架上的清洗筒，清洗筒的蓋體內(nèi)面設(shè)有清洗部件；清洗筒內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)盤；清洗筒的下方設(shè)有驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)；轉(zhuǎn)盤表面對(duì)稱地固定有數(shù)個(gè)定位體，各定位體相向側(cè)形成有多層用于滑入并嵌置治具的滑槽，滑槽朝向轉(zhuǎn)盤中心的一端開放，構(gòu)成治具的滑入口，相對(duì)滑入口的另一端封閉，形成對(duì)治具的限位部，且由上至下各層滑槽的限位部逐漸靠近轉(zhuǎn)盤中心；各治具的兩端嵌置在相鄰定位體的相對(duì)應(yīng)的滑槽中，形成多層排列的結(jié)構(gòu)；各治具承載有硅片載盤。
2.如權(quán)利要求1所述的具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，所述滑槽與水平成0.5?45度角，且各所述滑槽的滑入口的一端高于其限位部的一端。
3.如權(quán)利要求2所述的具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，上層的所述滑槽的傾斜角度小于下層的所述滑槽的傾斜角度。
4.如權(quán)利要求3所述的具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，所述治具包括一對(duì)包裹在硅片載盤端部的保護(hù)套。
5.如權(quán)利要求4所述的具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，一對(duì)所述保護(hù)套之間可拆卸連接有與所述硅片載盤平行的支撐件。
6.如權(quán)利要求5所述的具有多層結(jié)構(gòu)的硅片清洗裝置，其特征在于，所述支撐件設(shè)置在所述硅片載盤的底部，以不影響清洗液沖擊以及甩離硅片表面。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK203936058SQ201420221605
【公開日】2014年11月12日 申請(qǐng)日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】楊斌, 薛小興, 黃凱, 黃賢光 申請(qǐng)人:江蘇愛多光伏科技有限公司