專利名稱：正反交錯提花面料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種面料，尤其涉及一種制作服裝、玩具的面料，屬于紡織面料領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
提花面料手感柔軟舒適，透氣性能好，頗受人們的喜愛?，F(xiàn)有的提花面料多為單面提花或雙面提花，層次感不強。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種層次感強的正反交錯提花面料。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種正反交錯提花面料，包括基布，所述基布的正反兩面均設(shè)有提花層，所述提花層包括若干個提花區(qū)域和非提花區(qū)域，所述提花區(qū)域呈塊狀，所述提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯對稱分布。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是正反交錯提花面料的正反面均設(shè)置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。

圖1為本實用新型正反交錯提花面料的平面示意圖。圖2為圖1的A-A剖視圖。其中基布1、提花層2、提花區(qū)域21、非提花區(qū)域22。
具體實施方式
參見圖1和圖2，本實用新型涉及一種正反交錯提花面料，包括基布1，所述基布1 的正反兩面均設(shè)有提花層2。所述提花層2包括若干個提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22，所述提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22均呈塊狀且交錯排列。位于正反兩面的提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22交錯對稱分布。
權(quán)利要求1. 一種正反交錯提花面料，包括基布(1)，所述基布(1)的正反兩面均設(shè)有提花層 (2)，其特征在于所述提花層(2)包括若干個提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)，所述提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)交錯對稱分布。
專利摘要本實用新型涉及一種正反交錯提花面料，屬于紡織面料領(lǐng)域。一種正反交錯提花面料，包括基布(1)，所述基布(1)的正反兩面均設(shè)有提花層(2)，其特征在于所述提花層(2)包括若干個提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)，所述提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)交錯對稱分布。正反交錯提花面料的正反面均設(shè)置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。
文檔編號D03D13/00GK202023033SQ20112004950
公開日2011年11月2日 申請日期2011年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月28日
發(fā)明者趙振宇 申請人:趙振宇