一種全新亮面合成革的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種全新亮面合成革，包括合成革本體、干法PU層、濕法貝斯層、基布層，所述干法PU層位于合成革本體外層，所述濕法貝斯層與干法PU層連接，所述基布層與濕法貝斯層連接，所述基布層位于合成革本體內(nèi)層。本實用新型主要特征在于表面形成的鏡面光及隱隱約約的花色效果，所述產(chǎn)品是在濕法貝斯層上直接拓印花色，然后干法PU層用改性高亮材料涂覆在濕法貝斯層上，最后烘干即可。本實用新型產(chǎn)品花式新穎，表面亮度好、耐折、耐磨，制作工藝簡單；概念新穎、使用起來舒適安全可靠，能夠避免皮膚過敏現(xiàn)象的發(fā)生。
【專利說明】一種全新亮面合成革

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及服裝的【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是一種全新亮面合成革。

【背景技術(shù)】
[0002]在日常生活中，人們穿衣服時，有時會對一些衣服過敏，從而身上起痘痘，讓人感到很痛苦；而且有些衣服手感不好，觸摸時會很硬、很扎手，容易被磨損，使用壽命短。為彌補現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型旨在提供一種全新亮面合成革。
實用新型內(nèi)容
[0003]針對上述問題，本實用新型旨在提供一種全新亮面合成革。
[0004]為實現(xiàn)該技術(shù)目的，本實用新型的方案是:一種全新亮面合成革，包括合成革本體，所述合成革本體由干法PU層、濕法貝斯層、基布層依次連接而成，所述干法層位于合成革本體外層，所述濕法貝斯層與干法PU層連接，所述基布層與濕法貝斯層連接，所述基布層位于合成革本體內(nèi)層，可在所述濕法貝斯層上直接拓印花色，所述干法PU層用改性高亮材料涂覆在濕法貝斯層烘干連接。
[0005]本實用新型打破以往服裝的傳統(tǒng)概念，主要特征在于表面形成的鏡面光及隱隱約約的花色效果，所述產(chǎn)品是在濕法貝斯層上直接拓印花色，然后干法PU層用改性高亮材料涂覆在濕法貝斯層上，最后烘干即可。本實用新型產(chǎn)品花式新穎，表面亮度好、耐折、耐磨，制作工藝簡單；概念新穎、使用起來舒適安全可靠，能夠避免皮膚過敏現(xiàn)象的發(fā)生。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0007]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0008]如圖1所示，本實用新型實施例的一種全新亮面合成革，包括合成革本體1、干法PU層2、濕法貝斯層3、基布層4，所述干法PU層2位于合成革本體I外層，所述濕法貝斯層3與干法層2連接，所述基布層4與濕法貝斯層3連接，所述基布層4位于合成革本體I內(nèi)層。
[0009]作為優(yōu)選，所述合成革本體I由干法層2、濕法貝斯層3、基布層4依次連接而成。
[0010]本實用新型打破以往服裝的傳統(tǒng)概念，主要特征在于表面形成的鏡面光及隱隱約約的花色效果，所述產(chǎn)品是在濕法貝斯層上直接拓印花色，然后干法PU層用改性高亮材料涂覆在濕法貝斯層上，最后烘干即可。本實用新型產(chǎn)品花式新穎，表面亮度好、耐折、耐磨，制作工藝簡單；概念新穎、使用起來舒適安全可靠，能夠避免皮膚過敏現(xiàn)象的發(fā)生。
[0011]以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何細(xì)微修改、等同替換和改進(jìn)，均應(yīng)包含在本實用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種全新亮面合成革，包括合成革本體，所述合成革本體由干法PU層、濕法貝斯層、基布層依次連接而成，所述干法PU層位于合成革本體外層，所述濕法貝斯層與干法PU層連接，所述基布層與濕法貝斯層連接，所述基布層位于合成革本體內(nèi)層，其特征在于:可在所述濕法貝斯層上直接拓印花色，所述干法PU層用改性高亮材料涂覆在濕法貝斯層烘干連接。
【文檔編號】D06N3/14GK203960644SQ201320881401
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2013年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月24日
【發(fā)明者】林炳增 申請人:浙江高盛合成革有限公司