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      低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法

      文檔序號(hào):1839389閱讀:329來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種具有光存儲(chǔ)特性的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子材料的制備方法,具體涉及一種集成光電子器件的具有光存儲(chǔ)和光開關(guān)功能特性的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法。
      背景技術(shù)
      考慮到純無(wú)機(jī)氧化物玻璃材料,由于要求高溫?zé)崽幚?,通常單層膜厚度低?.2微米,所以要得到足夠厚度應(yīng)用的波導(dǎo)薄膜,惟有選擇多次涂層,但膜層之間的界面必將影響薄膜波導(dǎo)特性。所以,近年來(lái)基于有機(jī)改性硅酸鹽的復(fù)合材料在集成光電子學(xué)方面的應(yīng)用,在國(guó)際上引起了科學(xué)家們極大的關(guān)注。特別是基于有機(jī)改性硅酸鹽的溶膠-凝膠集成光學(xué)正顯示出潛在的光電子學(xué)應(yīng)用前景。這是因?yàn)槔孟嚓P(guān)技術(shù),在低溫下(甚至近于室溫)就可以得到致密、低損耗、和數(shù)微米厚的單層高光學(xué)質(zhì)量薄膜。這些特點(diǎn)對(duì)光電子學(xué)和集成光學(xué)應(yīng)用來(lái)說(shuō)是極為重要的。因?yàn)檫@使得制備的光電子器件可以直接和半導(dǎo)體光源和探測(cè)器集成在一起。而且和無(wú)機(jī)玻璃基質(zhì)材料相比,隨著有機(jī)基團(tuán)的加入導(dǎo)致無(wú)機(jī)基質(zhì)結(jié)構(gòu)的改進(jìn),而使得對(duì)有機(jī)光敏分子基團(tuán)異構(gòu)化具有更大的空間。也就是說(shuō)該低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合材料和純無(wú)機(jī)玻璃基質(zhì)材料相比,可以更容易地捕獲有機(jī)分子功能基團(tuán),也即更有利于有機(jī)功能分子基團(tuán)的加入。也正因如此,近年來(lái)應(yīng)用于光子學(xué)和集成光學(xué)的基于有機(jī)改性硅酸鹽的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合材料已有很多的研究報(bào)道,包括二氧化鈦-有機(jī)改性硅酸鹽和二氧化鋯-有機(jī)改性硅酸鹽等復(fù)合光電子材料。
      然而有關(guān)二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽基復(fù)合材料的研究在國(guó)際上幾乎未見(jiàn)有報(bào)道。我們知道由于鍺硅玻璃在可見(jiàn)和近紅外區(qū)具有高的透光性,所以被廣泛地用作為光纖芯材料。這表明二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料作為基質(zhì)對(duì)于光子學(xué)和集成光學(xué)具有極大的潛在應(yīng)用,因?yàn)樗c單模光纖有很好的兼容性。此外,以二氧化硅作為基底和二氧化鍺作為芯摻雜的材料制得的光波導(dǎo),在本質(zhì)上和單模光纖將具有等同的特性,以及鍺硅玻璃的超紫外光光敏特性也已引起科學(xué)家的極大關(guān)注。所有這些吸引人的特性表明這一材料具有潛在的光子學(xué)應(yīng)用前景,包括數(shù)據(jù)儲(chǔ)存、信息處理、光互連和集成光學(xué)等的應(yīng)用。所以結(jié)合改進(jìn)的溶膠-凝膠技術(shù)和低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合技術(shù)實(shí)現(xiàn)功能特性的二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽基的復(fù)合材料的研究對(duì)于光子學(xué)和集成光學(xué)的發(fā)展將具有重大意義。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于提供一種具有良好光波導(dǎo)特性及光存儲(chǔ)或開關(guān)特性的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法。
      為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的制備方法為首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;然后將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將60-90摩爾份數(shù)的溶液A和10-40摩爾份數(shù)的溶液B混合,接著將該混合溶液在室溫下攪拌,即可得到均勻含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;將有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液總重量0.5-5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液,并在室溫下攪拌均勻從而得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在2500-4000轉(zhuǎn)/分鐘下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在50-120℃溫度下處理30-60分鐘即可。
      本發(fā)明采用改進(jìn)溶膠-凝膠技術(shù)結(jié)合低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合技術(shù)實(shí)現(xiàn)具有合成溫度低、工藝要求簡(jiǎn)單、而且重復(fù)性好的特點(diǎn),利用二氧化鍺和有機(jī)改性硅酸鹽為基質(zhì)的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合薄膜材料,通過(guò)摻入有機(jī)染料偶氮苯小分子功能基團(tuán)以實(shí)現(xiàn)具有光存儲(chǔ)功能同時(shí)集光波導(dǎo)特性于一身的光子復(fù)合材料。無(wú)疑所制備的材料具有良好的柔韌性和機(jī)械特性,制作的器件易于加工、研磨和拋光。特別是本發(fā)明是基于在低溫下具有數(shù)微米厚和折射率可調(diào)的單層光學(xué)質(zhì)量波導(dǎo)薄膜,所以有利于實(shí)現(xiàn)光電子器件的集成化。


      圖1具有不同二氧化鍺摩爾含量的復(fù)合基質(zhì)材料熱失重曲線圖,其中橫坐標(biāo)為溫度,縱坐標(biāo)為失去重量的百分量;圖2復(fù)合薄膜基質(zhì)材料的折射率和厚度隨二氧化鍺摩爾含量的變化,其中橫坐標(biāo)為二氧化鍺摩爾量,左縱坐標(biāo)為厚度(微米),右縱坐標(biāo)為折射率;圖3為波長(zhǎng)在633nm下的復(fù)合材料平板波導(dǎo)傳輸模式(TE模),其中橫坐標(biāo)為光入射角,縱坐標(biāo)為強(qiáng)度;圖4為波長(zhǎng)在1540nm下的復(fù)合材料平板波導(dǎo)傳輸模式(TE模),其中橫坐標(biāo)為光入射角,縱坐標(biāo)為強(qiáng)度;圖5為370nm紫外光照射下,復(fù)合薄膜材料的紫外吸收率變化曲線,其中橫坐標(biāo)為光波長(zhǎng),縱坐標(biāo)為吸收率;具體實(shí)施方式
      下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
      實(shí)施例1首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將90摩爾份數(shù)的溶液A和10摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘2500轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在50℃溫度下處理60分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      實(shí)施例2,首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將80摩爾份數(shù)的溶液A和20摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量2%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘3000轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在80℃溫度下處理50分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      實(shí)施例3,首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將70摩爾份數(shù)的溶液A和30摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量3%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘3500轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在100℃溫度下處理40分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      實(shí)施例4,首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將60摩爾份數(shù)的溶液A和40摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量0.5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘4000轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在120℃溫度下處理30分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      圖1是上述實(shí)例中具有不同二氧化鍺摩爾含量的復(fù)合基質(zhì)材料的熱失重曲線圖。從圖中可見(jiàn),各基質(zhì)材料在高達(dá)400度溫度下,仍沒(méi)有明顯的重量損失,特別是對(duì)于較低二氧化鍺摩爾含量的基質(zhì)材料,幾乎沒(méi)有任何重量損失。這些結(jié)果表明,本發(fā)明所制備的復(fù)合基質(zhì)材料具有很好的熱穩(wěn)定性。
      圖2是上述實(shí)例中制備的復(fù)合基質(zhì)薄膜材料,以旋轉(zhuǎn)涂層轉(zhuǎn)速為每分鐘3500轉(zhuǎn)和在100℃的溫度下處理30分鐘得到的波導(dǎo)薄膜的折射率和厚度隨二氧化鍺摩爾含量的變化。從圖中可見(jiàn)單層波導(dǎo)薄膜的厚度可達(dá)2微米左右,薄膜折射率隨著二氧化鍺摩爾含量的增加而增大,但薄膜厚度減小。折射率可調(diào)節(jié)范圍為1.478到1.508。
      圖3為實(shí)例3中得到的復(fù)合平板波導(dǎo)薄膜,在波長(zhǎng)為633nm下的傳輸橫電模式。從圖中可以看出單層波導(dǎo)薄膜可以支持波長(zhǎng)在633nm的多模傳輸。這些結(jié)果表明按照本發(fā)明的制備方法得到的材料可望用作集成光波導(dǎo)材料。
      圖4為實(shí)例3中得到的復(fù)合平板波導(dǎo)薄膜,在波長(zhǎng)為1540nm下的傳輸橫電模式。從圖中可以看出單層波導(dǎo)薄膜可以支持波長(zhǎng)在1540nm的單一模式傳輸。
      圖5為實(shí)例3中得到的復(fù)合薄膜在370nm紫外光照射下其紫外吸收率的變化曲線。從圖中看出隨著照射時(shí)間的增長(zhǎng),其在350nm處的紫外吸收率明顯地減小,而在272nm處的吸收率則逐漸增加,當(dāng)照射時(shí)間增到約60分鐘時(shí),其吸收率幾乎不再改變。在350nm處其吸收率的最大改變?yōu)?.1。必須強(qiáng)調(diào)的是這些紫外吸收率的改變可以通過(guò)其它光波的照射或加熱的方法得到恢復(fù)。這些結(jié)果表明,該材料可用于光存儲(chǔ)或光開關(guān),若用于光存儲(chǔ)是可擦寫的。
      因此按本發(fā)明的制備方法得到的復(fù)合材料不但具有良好的光波導(dǎo)特性,而且還具有紫外光的光敏感特性,并可用作可擦寫的光存儲(chǔ)或光開關(guān)材料。
      權(quán)利要求
      1.一種低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,其特征在于1)首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;然后將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;2)其次將60-90摩爾份數(shù)的溶液A和10-40摩爾份數(shù)的溶液B混合,接著將該混合溶液在室溫下攪拌,即可得到均勻含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;3)將有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液總重量0.5-5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液,并在室溫下攪拌均勻從而得到懸濁液;4)利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在2500-4000轉(zhuǎn)/分鐘下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在50-120℃溫度下處理30-60分鐘即可。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,其特征在于首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將90摩爾份數(shù)的溶液A和10摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘2500轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在50℃溫度下處理60分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,其特征在于首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將80摩爾份數(shù)的溶液A和20摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量2%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘3000轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在80℃溫度下處理50分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,其特征在于首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將70摩爾份數(shù)的溶液A和30摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量3%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘3500轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在100℃溫度下處理40分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,其特征在于首先將1摩爾的γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、4摩爾的乙醇和4摩爾的去離子水混合,然后加入0.01摩爾的鹽酸不斷攪拌均勻后作為溶液A;將1摩爾異丙醇鍺和4摩爾2-甲氧基乙醇混合并不斷攪拌均勻后作為溶液B;其次將60摩爾份數(shù)的溶液A和40摩爾份數(shù)的溶液B混合,然后將混合溶液在室溫下攪拌均勻,從而得到含硅鍺的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合基質(zhì)母液;接著將基質(zhì)母液總重量0.5%的4-羥基偶氮苯小分子加入到復(fù)合基質(zhì)母液中,并在室溫下攪拌均勻得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝在轉(zhuǎn)速為每分鐘4000轉(zhuǎn)的情況下將上述得到的懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品放在120℃溫度下處理30分鐘,即可得到單層具有近2微米厚的,而且表面光滑平整具有高光學(xué)質(zhì)量、光存儲(chǔ)和光波導(dǎo)特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合光電子薄膜材料。
      全文摘要
      一種低溫二氧化鍺-有機(jī)改性硅酸鹽復(fù)合材料的制備方法,首先將γ-(2,3環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、乙醇和去離子水混合,然后加入鹽酸作為溶液A;然后將異丙醇鍺和2-甲氧基乙醇混合作為溶液B;其次將溶液A和溶液B混合,得到復(fù)合基質(zhì)母液;在復(fù)合基質(zhì)母液中加入4-羥基偶氮苯小分子得到懸濁液;利用旋轉(zhuǎn)涂層工藝將懸濁液沉積在石英玻璃基片上,然后將沉積好的薄膜樣品加熱處理即可。本發(fā)明采用改進(jìn)溶膠-凝膠技術(shù)結(jié)合低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合技術(shù)實(shí)現(xiàn)具有合成溫度低、工藝要求簡(jiǎn)單、而且重復(fù)性好的特點(diǎn),利用二氧化鍺和有機(jī)改性硅酸鹽為基質(zhì)的低溫有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合薄膜材料,通過(guò)摻入有機(jī)染料偶氮苯小分子功能基團(tuán)以實(shí)現(xiàn)具有光存儲(chǔ)功能同時(shí)集光波導(dǎo)特性于一身的光子復(fù)合材料。
      文檔編號(hào)C03C17/34GK1975465SQ200610105129
      公開日2007年6月6日 申請(qǐng)日期2006年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月5日
      發(fā)明者闕文修, 姚熹 申請(qǐng)人:西安交通大學(xué)
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