專利名稱：低溫高硅炻瓷及其制作工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種以成分為特征的陶瓷制品及其制作工藝，是一種低溫高硅高膨脹系數(shù)炻瓷的新材質(zhì)，屬于陶瓷中炻瓷的范疇，專用于膨脹系數(shù)較高的特殊藝術(shù)釉瓷。
背景技術(shù)：
日用炻瓷中有許多藝術(shù)效果較好的釉。比如燒成時流動性很強的亮光釉，有些具有分相效果的結(jié)晶釉，釉的膨脹系數(shù)普遍較高，許多釉的膨脹系數(shù)都在8×10-6以上，而我們傳統(tǒng)高硅的炻瓷膨脹系數(shù)一般都在6.5～7.5×10-6之間，用這些藝術(shù)釉上此類坯體，燒成后易產(chǎn)生釉面開裂，或后期龜裂現(xiàn)象，嚴重影響著產(chǎn)品的使用性能。因此很有必要對此加以改進。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的正是為了克服上述坯釉結(jié)合性的不足，提供了一種高膨脹系數(shù)坯體，解決了特殊性釉易發(fā)生釉裂或后期龜裂的問題.
本發(fā)明的實現(xiàn)方式在于針對傳統(tǒng)高硅炻瓷的膨脹系數(shù)與一些特殊藝術(shù)釉不匹配的問題，在保證其理化性能的前提下，在坯體中引入大量的不同顆粒級別的石英，增大坯體的膨脹系數(shù)。
傳統(tǒng)炻瓷主要的示性礦物組成為長石、高嶺土和石英，且各組成的配比如下長石 20～35％ 高嶺土為 35～45％ 石英 20～35％本發(fā)明的高硅炻瓷的組成是在原組成的基礎(chǔ)上，加入不同顆粒級別的石英，主要示性礦物組成為長石、高嶺土、石英和白云石，且各組成的配比如下鈉長石 15～35％ 高嶺土 25～40％ 石英 35～50％白云石 1～5％。
根據(jù)本發(fā)明的配比所得理想的化學(xué)組成為SiO272～79％ Al2O314.5～18％ Fe2O30.5～1.5％TiO20.1～1.5％ CaO+MgO0.3～2.5％K2O0.2～1％Na2O1.5～3.5％ I.L4.0～6.5％其余為雜質(zhì)。
所用原料的化學(xué)組成如表1所示表1 本發(fā)明的燒制工藝與普通低溫炻瓷燒制工藝一樣，燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
本發(fā)明同傳統(tǒng)的炻瓷相比，本發(fā)明有如下特點1、采用鈉長石降低燒成溫度，因為鈉長石的始熔點較低，且熔解石英的能力較強，另外引入了部分CaO、MgO作礦化劑，進一步降低坯體的燒成溫度。
2、坯體中石英的引入量較大，一般情況下引入量都高于40％，并且在引入石英的同時注重了石英粗細顆粒級別的搭配，特別引進了部分超細的粉石英，所占比例為5～15％，引入超細石英的目的是燒成時便于一部分熔解于鈉長石玻璃中，形成粘度較高的固熔體，另一部分則以方石英的晶體存在，起著增大膨脹系數(shù)及強度的效果。
3、本發(fā)明的另一特點便是燒成溫度低并且燒成范圍較寬，燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間，理化性能較好，熱穩(wěn)定性180～20℃，一次性不裂。
4、生產(chǎn)成本低。
其一，所使用的原料都是普通廉價原料，特別是石英，可使用本地的普通石英砂，也可以從本地的普通高硅粘土原料中引入。
其二，由于坯體的燒成溫度低，且燒成收縮小，特別適合快速燒成，起到了節(jié)能降耗的理想效果。
具體實施例方式下面將結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步得描述。
實施例一一種高硅炻瓷，主要示性礦物組成為長石、高嶺土、石英和白云石，且各組成的配比如下鈉長石15％ 高嶺土35％ 石英45％，白云石5％本高硅炻瓷的燒制工藝與普通炻瓷燒制工藝一樣，燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
實施例二一種高硅炻瓷，主要示性礦物組成為長石、高嶺土、石英和白云石，且各組成的配比如下鈉長石30％ 高嶺土29％ 石英40％， 白云石1％本高硅炻瓷的燒制工藝與普通炻瓷燒制工藝一樣，燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
上述實施例的配比所得理想的化學(xué)組成為SiO272～79％ Al2O314.5～18％ Fe2O30.5～1.5％TiO20.1～1.5％CaO+MgO0.3～2.5％K2O0.2～1％Na2O1.5～3.5％I.L4.0～6.5％其余為雜質(zhì)。
實施例三本發(fā)明的理想配方如下鈉長石 25％ 高嶺土 32％ 粗石英 31.5％超細粉石英 10％ 白云石 1.5％坯體的化學(xué)組成為SiO274.25％ Fe2O30.73％ Al2O316.08％TiO20.15％CaO0.61％ MgO0.31％K2O0.62％ Na2O2.68％ I.L4.5膨脹系數(shù)為8.26×10-6。
本高硅炻瓷的燒制工藝與普通炻瓷燒制工藝一樣，燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
權(quán)利要求
1.低溫高硅炻瓷，其特征在于在保證其理化性能的前提下，在坯體中引入大量的不同顆粒級別的石英，增大坯體的膨脹系數(shù)；主要示性礦物組成為長石、高嶺土、石英和白云石，且各組成的配比如下鈉長石15～35％；高嶺土25～40％；石英35～50％；白云石1～5％。
2.如權(quán)利要求3所述的低溫高硅炻瓷，其特征在于所述高硅炻瓷的各組成的配比如下鈉長石25％；高嶺土32％；粗石英31.5％；超細粉石英10％；白云石1.5％。
3.如權(quán)利要求3所述的低溫高硅炻瓷，其特征在于所述的高硅炻瓷的化學(xué)組成為SiO272～79％ Al2O314.5～18％ Fe2O30.5～1.5％TiO20.1～1.5％CaO+MgO0.3～2.5％ K2O0.2～1％Na2O1.5～3.5％I.L4.0～6.5％ 其余為雜質(zhì)。
4.如權(quán)利要求3所述的低溫高硅炻瓷，其特征在于所述的高硅炻瓷的化學(xué)組成為SiO274.25％ Fe2O30.73％ Al2O316.08％TiO20.15％ CaO0.61％ MgO0.31％K2O0.62％Na2O2.68％ I.L4.56％
5.一種如權(quán)利要求3所述低溫高硅炻瓷的加工工藝，采用普通炻瓷燒制工藝，其特征在于燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
全文摘要
低溫高硅炻瓷及其制作工藝，針對傳統(tǒng)高硅炻瓷的膨脹系數(shù)與一些特殊藝術(shù)釉不匹配的問題，在保證其理化性能的前提下，在坯體中引入大量的不同顆粒級別的石英，增大坯體的膨脹系數(shù)。在原炻瓷組成的基礎(chǔ)上，加入不同顆粒級別的石英，主要示性礦物組成為長石、高嶺土、石英和白云石，且各組成的配比如下鈉長石15～35％；高嶺土25～40％；石英35～50％；白云石1～5％。采用普通炻瓷燒制工藝，其特征在于燒成溫度范圍為1175～1225℃，吸水率控制在1～4％之間。
文檔編號C04B35/80GK101066862SQ20071003513
公開日2007年11月7日 申請日期2007年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月14日
發(fā)明者曾友強 申請人:湖南華聯(lián)溢百利瓷業(yè)有限公司