專利名稱：：無堿玻璃基板及其制造方法以及液晶顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及無堿玻璃基板及其制造方法以及液晶顯示面板。
背景技術(shù)：
：一直以來，各種顯示器用玻璃基板，特別是在表面形成金屬或氧化物薄膜等的液晶顯示器用玻璃基板要求以下特性。(1)由于如果含有堿金屬氧化物，則堿金屬離子會擴散至薄膜中，使膜特性劣化，因此要求實質(zhì)上不含堿金屬離子(為無堿玻璃)。(2)薄膜形成工序中玻璃被暴露在高溫下，為了將此時的玻璃的形變及伴隨玻璃結(jié)構(gòu)穩(wěn)定化的收縮(熱收縮)抑制至最低限度，要求具有較高的應(yīng)變點。(3)對半導(dǎo)體形成中使用的各種化學(xué)藥品具有足夠的化學(xué)耐久性。特別是對SiOx或SiNx的刻蝕中使用的緩沖氫氟酸(氫氟酸+氟化銨；BHF)、ITO(摻雜有錫的銦氧化物)的刻蝕中使用的含有鹽酸的藥液、金屬電極的刻蝕中使用的各種酸(硝酸、硫酸等)或堿性抗蝕層剝離液具有耐久性。(4)內(nèi)部及表面沒有缺陷(氣泡、波筋、夾雜物、凹坑、損傷等)。此外，近年來，隨著顯示器的大型化等，除上述特性外又進(jìn)一步要求下述特性。(5)要求顯示器的輕量化，希望玻璃本身也是密度也較小的玻璃。(6)作為顯示器的輕量化的方法，希望玻璃基板的薄板化。(7)為了在液晶顯示器的制造工序中可以使用現(xiàn)有的工序和設(shè)備，要求線膨脹系數(shù)與以往的無堿玻璃在同等程度。(8)由于液晶電視普及且大型化，也為了在液晶顯示器制造工序中由大面積的玻璃板制成多塊液晶顯示面板，對玻璃基板的要求也從至今為止的一邊為lm左右的矩形的玻璃基板變成一邊為2m以上的矩形的大面積的玻璃基板。使用上述大玻璃基板制作顯示器時，在基板的搬運、操作時由玻璃的自重導(dǎo)致的彎曲量大，處理困難，因此要求彎曲量少的玻璃基板。(9)要求液晶顯示器制品不會因使用中所受的外力、沖擊而破損的強度高的玻璃。作為為了應(yīng)對上述要求而提出的無堿玻璃，可例舉例如專利文獻(xiàn)l、2中記載的無堿玻璃。專利文獻(xiàn)l中記載了一種無堿玻璃，該無堿玻璃的應(yīng)變點為640。C以上，用摩爾％表示，實質(zhì)上由6073X的Si02、516%的八1203、512%的8203、06X的MgO、09%CaO、19X的SrO、0不足l^的BaO、718X的MgO十CaO+SrO+BaO形成。并且，記載了這樣的無堿玻璃可通過浮法成形，不易因緩沖氫氟酸(BHF)而產(chǎn)生白濁，耐酸性優(yōu)良，耐熱性高，線膨脹系數(shù)低，密度非常小。另外，其實施例中記載了5035(TC的線膨脹系數(shù)為31X10-739X10—7°C、應(yīng)變點為64(TC以上、粘度n滿足logq=2的溫度^為163CTC以上、滿足logn^4的溫度T,為126(TC以上的無堿玻璃。此外，專利文獻(xiàn)2中記載了一種無堿玻璃，該無堿玻璃用摩爾％表示，實質(zhì)上由60%以上且不足66%的5102、012X的A1A、510%的8203、018X的MgO、018%CaO、018X的SrO、06X的BaO、1025X的CaO十SrO、15.530X的MgO+CaO+SrO+BaO形成，實質(zhì)上不含堿金屬氧化物。并且，記載了這樣的無堿玻璃的耐還原性優(yōu)良，因此適合于通過浮法成形，消除了用浮法成形時因玻璃表面受到還原作用而導(dǎo)致的如失透特性的劣化等各種問題，且密度小，應(yīng)變點高，線膨脹系數(shù)小，楊氏模量高。專利文獻(xiàn)l:日本專利特開平9一169539號公報專利文獻(xiàn)2:日本專利特開2005—330176號公報發(fā)明的揭示對于像這樣被用作玻璃基板的無堿玻璃基板要求各種特性，其中，隨著近年來玻璃基板的大型化，上述(8)所述的彎曲量少的特性變得特別重要。此外，由于該玻璃基板的大型化，除上述特性外，還要求在玻璃制造過程的熔融工序中形成低粘度的玻璃熔液的特性。這是因為，如果玻璃熔液的粘度高，則難以將玻璃組成均質(zhì)化，在大型的玻璃基板的浮法成形工藝中難以提高玻璃基板的平坦性。此外，這也是因為難以得到氣泡較少的玻璃。另一方面，如果為了降低粘度而提高熔融玻璃的溫度，則在浮法成形工序中流入的玻璃帶的溫度升高，在浮法成形工序的設(shè)備方面和生產(chǎn)方面容易發(fā)生不良情況。本發(fā)明的目的是提供兼具上述特性的無堿玻璃基板，即，為了得到均質(zhì)性及平坦性優(yōu)良且氣泡少的玻璃基板，本發(fā)明提供即使是玻璃熔融時、成形時的熔化溫度較低的玻璃，也兼具彎曲量少、線膨脹系數(shù)低、應(yīng)變點高、密度低、在浮法成形中不發(fā)生失透、耐酸性優(yōu)良的特性的無堿玻璃基板。即，本發(fā)明的目的是提供滿足如下的特性的玻璃基板楊氏模量為75GPa以上、較好為79GPa以上，使得即使是大型玻璃，玻璃基板的彎曲量也??；線膨脹系數(shù)(50350°C)為30X10—740X10—7°C;應(yīng)變點為640。C以上；密度為2.60g/cra3以下；粘度n滿足logi]二2的溫度T2不足163CrC(T2〈1630°C)，較好的是1620。C以下(T2《1620。C);滿足logq=4的溫度1\不足126CTC(T4<1260°C)，較好的是1250。C以下(T4《1250°C)，更好的是1245。C以下(K1245T);失透溫度在T4以下；用作耐酸性的指標(biāo)的在9(TC、0.1N(當(dāng)量濃度)的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cra2以下。此外，本發(fā)明的目的是提供使用上述無堿玻璃基板的液晶顯示面板。另外，本發(fā)明的目的是提供上述無堿玻璃基板的制造方法。本發(fā)明者經(jīng)過認(rèn)真研究，發(fā)現(xiàn)各成分在特定范圍內(nèi)、各成分的含有率具有特定的關(guān)系且具有上述物性的無堿玻璃基板特別適合作為液晶顯示器用玻璃基板，從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明是如下的(a)(h)。(a)—種無堿玻璃基板，該無堿玻璃基板以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時，實質(zhì)上不含堿金屬成分及BaO，各成分的含有率為Si02:57.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6.09.0%、Mg0:5.010,0%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.019.0%、Mg0/(MgO+CaO+SrO)》0.40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12;楊氏模量^75GPa，50350。C的線膨脹系數(shù)30X10—740X10—7。C，應(yīng)變點》640"，粘度n滿足logn二2的溫度Kl620。C，粘度n滿足logn二4的溫度T4《1245r，失透溫度《T4，在90。C、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cm2以下。(b)如上述(a)中記載的無堿玻璃基板，該無堿玻璃基板以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時為Si02:60.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6.09,0%、MgO:5.58.5%、CaO:5.010.0%、SrO:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.018.5%、MgO/(MgO+CaO+SrO)40、B2O3/(SiO2+Al2O3+B2O3)《0.12。(c)如上述(a)或(b)中記載的無堿玻璃基板，該無堿玻璃基板還含有500ppm1.0質(zhì)量X的Sn02。(d)—種液晶顯示面板，該液晶顯示面板使用了至少一塊上述(a)(c)的任一項中記載的無堿玻璃基板。(e)—種無堿玻璃基板的制造方法，該方法是在將以如下的玻璃組成為目標(biāo)的玻璃原料熔化后，通過浮法進(jìn)行成形的無堿玻璃基板的制造方法，所述玻璃組成以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時，實質(zhì)上不含堿金屬成分及BaO，各成分的含有率為Si02:57.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6.09.0%、Mg0:5.010.0%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.019.0%、MgO/(MgO+CaO+SrO)》0.40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12;其中，上述玻璃原料的熔化溫度不足1630。C，錫槽(floatbath)入口的玻璃熔液溫度為125(TC以下。(f)如上述(e)中記載的無堿玻璃基板的制造方法，該方法是在將以如下的玻璃組成為目標(biāo)的玻璃原料熔化后，通過浮法進(jìn)行成形的無堿玻璃基板的制造方法，所述玻璃組成以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時為Si02:60.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6.09.0%、Mg0:5.58,5。％、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%,且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.018.5%、MgO/(MgO+CaO+SrO)》0.40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12;其中，上述玻璃原料的熔化溫度為162CTC以下，錫槽入口的玻璃熔液溫度為1245。C以下。(g)如上述(e)或(f)中記載的無堿玻璃基板的制造方法，其中，上述玻璃原料還含有O.11.0質(zhì)量X的Sn02。(h)如上述(e)中記載的無堿玻璃基板的制造方法，該方法具備熔化工序1和熔化工序2;熔化工序1中，將進(jìn)一步含有O.11.0質(zhì)量X的Sn02的上述玻璃原料加熱至14501580。C，從而制成熔融玻璃；熔化工序2中，在上述熔化工序l之后，將上述熔融玻璃加熱至150(rC以上且不足163(TC的溫度，從而使玻璃中的氣泡脫泡；使上述熔化工序2中的熔融玻璃的溫度比上述熔化工序1中的熔化玻璃的溫度高3CTC以上。通過本發(fā)明，可提供楊氏模量高(75GPa以上，較好為79GPa以上)，線膨脹系數(shù)(50350°C)低(30X10—740X10—7°C)，應(yīng)變點高(640°C以上)，密度低(2.60g/cm3以下)，粘度低(粘度n滿足logri=2的溫度乙不足1630°C，較好的是162(TC以下；粘度TT滿足logn-4的溫度T4不足126(TC，較好的是125(TC以下，更好的是1245t:以下)，在浮法成形中不發(fā)生失透(失透溫度《T。，耐酸性優(yōu)良(在9(TC、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cm2以下)的無堿玻璃基板。上述本發(fā)明的無堿玻璃基板的彎曲量更少，玻璃組成更均質(zhì)，具備更高的平坦性。此外，由于粘度低，因此玻璃熔融時氣泡容易上浮，可得到氣泡較少的無堿玻璃基板。此外，可提供使用上述無堿玻璃基板的更加高精細(xì)且對比度高的液晶顯示面板。還可提供使熔化時的溫度不足163(TC、較好的是162(TC以下，浮法中的錫槽入口的玻璃熔液的溫度不足126(TC、較好的是125(TC以下、更好的是1245"C以下，可節(jié)能地進(jìn)行制造的無堿玻璃基板的制造方法。實施發(fā)明的最佳方式對本發(fā)明的無堿玻璃基板進(jìn)行說明。本發(fā)明的無堿玻璃基板(下面，也稱為"本發(fā)明的玻璃基板"。)實質(zhì)上由Si02、A1203、B203、MgO、CaO和SrO形成。并且，實質(zhì)上不含其它成分，特別是堿金屬成分(表示堿金屬元素(Li、Na、K、Rb、Cs及Fr)及包含其中的一種以上的元素的化合物)及BaO。這里，"實質(zhì)上不含"表示除從原料中不可避免地混入的雜質(zhì)以外不再含有。另外，可以含有制造本發(fā)明的玻璃基板的過程中使用的澄清劑的一部分及其反應(yīng)生成物等。另外，本發(fā)明的玻璃基板所含的各成分的含有率(％)分別以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％來表示。下面，只要無特別說明，表示含有率的"％"都表示"摩爾％"。本發(fā)明的玻璃基板含有57.066.0X的Si02，以含有57.065.%的Si02為宜，較好的是含有59.065.0X的Si02，更好的是含有60.065.0%的Si。2。如果Si02的含有率高，則本發(fā)明的玻璃基板的密度降低，因此較佳。但如果過高，則失透特性可能會下降。此外，如果含有率過低，則可能會引起耐酸性的下降、密度的增大、應(yīng)變點的下降、線膨脹系數(shù)的增大及楊氏模量的下降。此外，本發(fā)明的玻璃基板含有6.015.0%的八1203，以含有7.014.0%的Al203為宜，較好的是含有8.013.0%的A1A，更好的是含有9.012.0%的八1203，更好的是含有10.012.0%的八1203，特好的是含有10,511.5%A1203。如果以上述含有率含有Al203，則可抑制分相性，提高應(yīng)變點，提高楊氏模量。如果該含有率過高，則失透特性、耐鹽酸性及耐BHF性可能會劣化。此外，本發(fā)明的玻璃基板含有3.012.0%的8203，以含有4.011.0%的8203為宜，較好的是含有5.0~10.0%的8203，更好的是含有6.09.0%的8203，特好的是含有6.58.5X的BA。如果以上述含有率含有BA，則可使密度下降，使耐BHF性提高，還可使玻璃的熔化反應(yīng)性提高，使失透特性提高，因此較佳。如果該含有率過高，則可能會使楊氏模量下降，使耐酸性下降。為了得到作為液晶顯示器用玻璃基板更優(yōu)選的高應(yīng)變點和低線膨脹系數(shù)，Si02、A1203、8203的總量以80%以上為宜，較好的是80.5%以上，更好的是81%以上。此外，本發(fā)明的玻璃基板含有3.012.0X的MgO，以含有4.011.0X的MgO為宜，較好的是含有5.010.0X的MgO，更好的是含有5.510.0X的MgO，特好的是含有6.58.5X的MgO。如果以上述含有率含有MgO，則可使密度下降，使熔化反應(yīng)性提高，不會提高線膨脹系數(shù)，不會使應(yīng)變點下降，因此較佳。如果該含有率過高，則玻璃可能會發(fā)生分相，或者失透特性及耐酸性下降。此外，本發(fā)明的玻璃基板含有3.012.0X的CaO，以含有4.011.0X的CaO為宜，較好的是含有5.010.0X的CaO，更好的是含有5.510.0X的CaO，特好的是含有6.08.OX的CaO。如果以上述含有率含有CaO，則可使密度下降，不會提高線膨脹系數(shù)，不會使應(yīng)變點下降，可使熔化反應(yīng)性提高，使粘性下降，使失透特性改善，使耐酸性改善，抑制分相，因此較佳。如果該含有率過高，則可能會招致線膨脹系數(shù)的增大和密度的增大。此外，本發(fā)明的玻璃基板含有1.58.0X的SrO，以含有2.07.0%的SrO為宜，較好的是2.56.0X的SrO，更好的是含有2.55.5%的SrO，特好的是含有2.54.OX的SrO。如果以上述含有率含有SrO，則不會使密度增大，不會提高線膨脹系數(shù)，不會使應(yīng)變點下降，可使粘性下降，抑制分相傾向，不會使熔化反應(yīng)性下降，可改善失透特性及耐酸性，因此較佳。如果該含有率過高，則可能會發(fā)生失透特性的下降、線膨脹系數(shù)的增大、密度的增大、耐酸性的下降。此外，本發(fā)明的玻璃基板中MgO、CaO及SrO的含有率(摩爾X)的總和，即MgO+CaO+SrO為15.020.0%，以15.519.5%為宜，較好為16.019.0%，更好為16.519.0%。如果上述各成分的含有率在上述范圍內(nèi)且MgO+CaO+SrO在上述范圍內(nèi)，則本發(fā)明的玻璃基板呈熔液狀態(tài)時，其粘度降低。即，對于作為玻璃熔化的標(biāo)準(zhǔn)的粘度n，滿足logn^2的溫度T2不足163CTC，較好為1620。C以下。也就是說，雖然玻璃熔液的溫度越高粘度就越低，但即使玻璃熔液的溫度T2是不足163(TC、較好為162(TC以下的較低的低溫，也可使其粘度(n)為10MPa's(作為熔化的標(biāo)準(zhǔn)的粘度)。此外，熔融玻璃中的氣泡的上浮速度加快，可使所得無堿玻璃中的氣泡減少。因此，對于本發(fā)明的玻璃基板，可容易地進(jìn)行其玻璃熔液的均質(zhì)化。此外，對于作為玻璃熔化的標(biāo)準(zhǔn)的粘度n，滿足logn二4的溫度T4不足1260。C，以1250。C以下為宜，較好為1245。C以下，更好為1235。C以下。也就是說，即使玻璃熔液的溫度T4不足126(TC、優(yōu)選為125(TC以下、較好為1245。C以下、更好為1235r以下，也可使其粘度(n)為10MPa's(作為成形性的標(biāo)準(zhǔn)的粘度)。因此，浮法成形工藝等中可容易地使玻璃基板的平坦性提高。如果MgO+CaO+SrO的總量較多，則粘度降低，因此較佳。但是，如果上述總量超過20%，則可能會發(fā)生線膨脹系數(shù)的增大、應(yīng)變點的下降、耐酸性的下降，因此不佳。如果考慮到降低線膨脹系數(shù)，貝ljMgO+CaO+SrO的總量特好為16.018.5%。以往的無堿玻璃基板不是具有在上述范圍內(nèi)的楊氏模量(75GPa以上)、線膨脹系數(shù)(30X10-740X10-7°C)、應(yīng)變點(640°C以上)和密度(2.60g/cm3以下)，且兼具形成上述低粘度的玻璃熔液的特性的玻璃。也就是說，為了達(dá)到作為熔化的標(biāo)準(zhǔn)的102dPas的粘度及作為成形性的標(biāo)準(zhǔn)的104dPas的粘度，必須像例如專利文獻(xiàn)l所記載的那樣，使玻璃熔液的溫度分別為1630t:以上及126(TC以上。與此相對，本發(fā)明的玻璃基板在其制造過程中可以使熔化溫度及浮法成形時的玻璃帶的溫度比以往低，所以可減少加熱等所用的能量，在成本方面也有利。通過使T4為1245t:以下、較好為1235'C以下，浮法成形變得更容易，錫渣(dross)和板面污斑(t叩speck)的缺陷少，可得到平坦的玻璃基板，因此可減少浮法成形后的玻璃板表面的研磨量。此外，因為失透溫度在L以下，所以不會生成失透異物，可穩(wěn)定地進(jìn)行浮法成形。上述特性尤其在所制造的玻璃基板是大型基板的情況下是特別好的特性。如上所述，近年來要求制造一邊為2m以上的矩形的大型玻璃基板，所以要求具有上述特性的無堿玻璃基板。此外，本發(fā)明的玻璃基板中MgO的含有率(摩爾X)相對于MgO、CaO及SrO的含有率(摩爾％)的總和的比例，即MgO/(MgO+CaO+SrO)為0.25以上，以0.30以上為宜，較好為0.35以上，更好為0.40以上，特好為0.42以上(下面也將該比例稱為"比例A"。)。如果上述各成分的含有率在上述范圍內(nèi)且該比例A在上述范圍內(nèi)，則可獲得50350。C的線膨脹系數(shù)為30X10-740X10—7〃C的玻璃基板。因此，采用本發(fā)明的玻璃基板制造液晶顯示器時，不用改變現(xiàn)有的工序和設(shè)備即可高效地制造圖案偏差少的顯示器。此夕卜，B203的含有率(摩爾X)相對于Si02、Al203及B203的含有率(摩爾X)的總和的比例，艮卩8203/(5102+八1203+8203)為0.12以下，較好為O.ll以下，更好為O.IO以下，特好為0.095以上(下面也將該比例稱為"比例B"。)。如果上述各成分的含有率在上述范圍內(nèi)且上述比例A及該比例B在上述范圍內(nèi)，則可獲得楊氏模量為75GPa以上的玻璃基板。因此，即使在將本發(fā)明的玻璃基板制成2m左右見方的大型玻璃基板的情況下，彎曲量也減小，因此較佳。本發(fā)明的玻璃基板是具有上述組成的無堿玻璃基板。如果總結(jié)其優(yōu)選組成，則如下所示。各成分的含有率以氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時，為Si02:57.065.0%、A1203:10.012,0%、B203:6.09.0%、Mg0:5,010.0%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.019.0%、Mg0/(Mg0+Ca0+Sr0)》0.40、B203〃Si02+Al203+B203)《0.12。此外，如果總結(jié)更優(yōu)選的組成，則如下所示。各成分的含有率以氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時為Si02:60.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6,09.0%、Mg0:5.58.5%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.018.5%、Mg0/(Mg0+Ca0+Sr0)》0.40、B2O3/(SiO2+Al2O3+B2O3)《0.12。本發(fā)明的玻璃基板具有上述組成，具備所有如下的特性楊氏模量》75GPa，較好的是楊氏模量》79GPa;50350°C的線膨脹系數(shù)為30X1CT740X10—7'C;應(yīng)變點^64CTC;密度為2.60g/cra3以下；粘度n滿足logn二2的溫度T2〈1630。C，較好的是T2《1620。C;粘度n滿足logn=4的溫度1[4<1260°C，較好的是K125(TC，更好的是K1245。C;失透溫度《14;用作耐酸性的指標(biāo)的在90。C、0.1N(當(dāng)量濃度)的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為O.6rag/cm2以下。本發(fā)明的玻璃基板的楊氏模量為75GPa以上，以76GPa以上為宜，較好的是77GPa以上，更好的是79GPa以上，特好的是80GPa以上。此外，本發(fā)明的玻璃基板的5035(TC的線膨脹系數(shù)為30X10—740X10—7°C，較好的是32X10—740X10—7°C，更好的是35X10—739X10—7。C。此外，本發(fā)明的玻璃基板的應(yīng)變點為64(TC以上，較好的是65(TC以上，更好的是655t:以上。此外，本發(fā)明的玻璃基板的密度為2.60g/cm3以下，較好的是2.55g/cm3以下，更好的是2.52g/cm3以下。此外，本發(fā)明的玻璃基板的粘度n滿足logn-2的溫度T2不足1630。C，以162(TC以下為宜，較好的是1610。C以下，更好的是1605。C以下。此外，本發(fā)明的玻璃基板的粘度rr滿足logii二4的溫度T4不足126(rC，以125(TC以下為宜，較好的是1245t:以下，更好的是124(TC以下，特好的是1235r以下。此外，本發(fā)明的玻璃基板的作為表示耐酸性的指標(biāo)的在9CTC、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cm2以下，較好的是0.3mg/cm2以下，特好的是O.2rag/cn)2以下。另外，本發(fā)明中，楊氏模量、5035(TC的線膨脹系數(shù)、應(yīng)變點、密度、粘度il滿足logn=2的溫度1:2、粘度n滿足logii二4的溫度T4分別是指通過如下所示的方法測定并求出的值。楊氏模量是指依照彎曲共振法(JISR1602)求出的值。5035(TC的線膨脹系數(shù)是指用差示熱膨脹儀(TMA)測定的值。應(yīng)變點是指依照J(rèn)ISR3103測定的值。密度是指用以阿基米德法為原理的簡易密度計求出的值。粘度n滿足logri=2的溫度12及粘度n滿足logn=4的溫度^是指用旋轉(zhuǎn)粘度計測定并求出的值。失透溫度是指將玻璃片加熱17小時，求出結(jié)晶析出的最高溫度和結(jié)晶析出的最低溫度而得到的它們的平均值。耐酸性的指標(biāo)使用在9(TC、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量(mg/cm2)。本發(fā)明的玻璃基板例如可通過如下的方法制造。首先，調(diào)合常用的原料(根據(jù)需要為數(shù)種原料)，使其達(dá)到本發(fā)明的玻璃基板的組成(目標(biāo)組成)。這里，可以含有澄清劑。作為澄清劑，可例舉例如F、Cl、S03、Sn02、Ti02、Mn02、Ce02、Zr02、Fe203或NbA。如果含有澄清劑，則利用其脫泡效果可進(jìn)一步減少成形后的本發(fā)明的玻璃基板中的氣泡，因此較佳。這些澄清劑可以單獨添加，也可以并用2種以上。上述澄清劑中較好的是Sn02，更好的是除Sn02外還含有S03、Fe203、Cl、F。這是因為可以促進(jìn)強化本發(fā)明的無堿玻璃的制造過程中的脫泡，澄清效果。在加熱原料時，它們可產(chǎn)生大量的氣泡，增大熔融玻璃中的氣泡，從而輔助脫泡。添加澄清劑的情況下，作為相對于成形后的本發(fā)明的玻璃基板的質(zhì)量的質(zhì)量比(質(zhì)量％)，F(xiàn)的添加量較好為01質(zhì)量X，Cl的添加量較好為01質(zhì)量％，S03的添加量較好為01質(zhì)量X，SnO2的添加量較好為0l質(zhì)量X，TiO2的添加量較好為0l質(zhì)量X，Mn02的添加量較好為0l質(zhì)量X，Ce02的添加量較好為01質(zhì)量％，Zr02的添加量較好為0l質(zhì)量X，F(xiàn)e203的添加量較好為01質(zhì)量％。但是，因為存在過多地產(chǎn)生氣泡、失透特性的下降、著色等問題，所以總含量較好的是5質(zhì)量％以下。此外，為了獲得添加澄清劑而產(chǎn)生的所需效果，以添加10ppm以上為宜，較好的是100ppm以上，更好的是O.1質(zhì)量％以上。具體來說，較好的是F+Cl+S03+Sn02+Ti02+Mn02十Ce02+Zr02+Fe203為10ppm5質(zhì)量^，更好的是F+Cl+S03+Sn02+Ti02+11102+0602+21~02+6203為10(^口1111.0質(zhì)量％。例如，添加了O.11.0質(zhì)量X的Sn02的情況下，成形后的玻璃基板中含有500ppm1.0質(zhì)量X的Sn02。使用Sn02作為澄清劑的情況下，在加熱熔化玻璃原料時，Sn02如下述反應(yīng)式(A)所示被還原成SnO并產(chǎn)生氧，產(chǎn)生的氧與熔融玻璃所含的氣泡一起上浮至熔融玻璃表面。Sn02—SnO+l/202(A)接著，將上述原料連續(xù)地投入熔化爐，在不足163(TC、優(yōu)選162(TC以下、較好的是最高為1500。C161(TC(最高溫度在150CrC161(TC的范圍內(nèi))、更好的是160(TC以下、特好的是最高為150(TC160(TC(最高溫度在150(TC160(TC的范圍內(nèi))的溫度下熔化，制成玻璃熔液。本發(fā)明的玻璃基板如上所述粘度較低，所以即使在不足163(TC、較好的是162(TC以下的溫度下熔化，也可以將玻璃均質(zhì)化至與熔化以往的無堿玻璃基板時相同的程度。這里，使用SnCVf乍為澄清劑的情況下，較好的是如下的方法具備將上述玻璃原料加熱至1450158(TC而制成熔融玻璃的熔化工序1和在上述熔化工序1之后將上述熔融玻璃加熱至1500'C以上且不足163(TC的溫度而使玻璃中的氣泡脫泡的熔化工序2，使上述熔化工序2中的熔融玻璃的溫度比上述熔化工序1中的熔化玻璃的溫度高3(TC以上，制成玻璃熔液。下面對該優(yōu)選方法進(jìn)行詳細(xì)說明。首先，為了制成本發(fā)明的無堿玻璃，調(diào)制含Sn02的工業(yè)用玻璃原料。接著，將調(diào)制好的原料連續(xù)地投入熔化爐等，加熱熔化，制成熔融玻璃(熔化工序)。熔化工序較好的是具備將原料投入熔化爐等并加熱而將原料制成熔融玻璃的熔化工序l和之后進(jìn)一步加熱熔融玻璃而使玻璃中的氣泡脫泡的熔化工序2。這是因為通過Sn02的還原反應(yīng)一下子產(chǎn)生氧，可得到氣泡更少的無堿玻璃。.并且，相對于熔化工序l中原料形成熔融玻璃的溫度(下面也將其稱為"初期溫度"。)，熔化工序2中的熔融玻璃的溫度(下面也將其稱為"到達(dá)溫度"。)以高3(TC以上為宜，較好的是高5(TC以上，更好的是高7(TC以上，更好的是高9(TC以上。熔化工序l中的初期溫度使原料熔化，以1450158(TC為宜。為了均質(zhì)地熔化原料，較好的是1490。C以上，更好的是153(TC以上。另一方面，為了抑制通過Sn02的還原反應(yīng)的氧的產(chǎn)生，較好的是157(TC以下，更好的是1560。C以下。熔化工序2中的到達(dá)溫度以150(TC以上且不足163(TC為宜。如果達(dá)到溫度升高，則可通過Sn02的還原反應(yīng)一下子產(chǎn)生氧，并且降低粘度n，加快氣泡上浮速度。到達(dá)溫度較好的是154(TC以上，更好的是1580。C以上。另一方面，如果到達(dá)溫度過度升高，則產(chǎn)生能量消耗量增多、熔化設(shè)備的壽命也縮短的問題。到達(dá)溫度較好的是162(TC以下，更好的是161(TC以下。熔化工序中，為了使熔化工序1和熔化工序2的溫度差為30。C以上，可例舉例如以下的方法(i)使用l個熔化爐等，在熔融玻璃從原料投入側(cè)向玻璃排出側(cè)流動的過程中，先進(jìn)行熔化工序l，再進(jìn)行熔化工序2的方法；(ii)將l個熔化爐等的內(nèi)部分成原料投入側(cè)和玻璃排出側(cè)這兩部分來使用的方法；(iii)使用2個熔化爐等的方法。熔化工序l、2中使用的熔化爐等的規(guī)格及加熱原料、熔融玻璃的方法無特別限制。本發(fā)明的玻璃基板可在如上所述將根據(jù)需要含有Sn02等澄清劑的玻璃原料熔化后，通過如下所示的浮法等制造。接著，可以通過浮法將該玻璃原料成形為規(guī)定的板厚，退火后切割成所要的尺寸，通過磨削、研磨等加工來進(jìn)行制造?？墒估酶》ǔ尚螘r的錫槽入口的玻璃熔液的溫度不足126(TC，以最高為110(TC以上且不足1260"C(最高溫度在110(TC以上且不足126(TC的范圍內(nèi))為宜，較好的是125(TC以下，更好的是最高為1100125(TC(最高溫度在110(TC125(rC的范圍內(nèi))，更好的是1245。C以下，更好的是最高為11001245。C(最高溫度在1100。C1245"的范圍內(nèi))，更好的是1235X:以下，更好的是最高為11001235"C(最高溫度為110(TC1235r的范圍內(nèi))。如上所述，本發(fā)朋的玻璃基板的L溫度較低，所以浮法成形容易，可得到平坦的玻璃基板。此外，在浮法成形工序的的設(shè)備方面和生產(chǎn)方面也有利。另一方面，如果錫槽入口的玻璃熔液的溫度高到超過125(TC，則由熔融錫導(dǎo)致的缺陷容易附著在玻璃表面。即，如果熔融錫揮發(fā)，則錫凝集在錫槽的上部空間，若凝集的錫下落至玻璃的頂面，則形成點狀的缺陷，即板面污斑缺陷。此外，如果熔融錫氧化，則生成不定形的錫氧化物，若錫氧化物附著在玻璃的底面，則成為錫渣缺陷。雖然這些缺陷通過浮法成形后的玻璃板表面的研磨而被除去，但考慮到研磨量的削減，這些缺陷最好較少。為了抑制錫渣和板面污斑，有效的是降低錫槽入口的玻璃熔液的溫度。具體來說，錫槽入口的玻璃熔液的溫度較好的是1250。C以下，更好的是1245。C以下。此外，也可以用除浮法以外的其它公知的方法成形。作為其它成形方法，具體可例舉例如眾所周知的輥壓(rollout)法、下引(downdraw)法、熔融(fusion)法等。本發(fā)明的玻璃基板特別適用于薄板、大型的玻璃基板，例如板厚O.31.lmm、一邊為2m以上、另一邊為1.8m以上的矩形的液晶顯示器用玻璃基板。此外，本發(fā)明提供將本發(fā)明的玻璃基板用作玻璃基板的液晶顯示面板。以薄膜晶體管液晶顯示器(TFT—LCD)為例，液晶顯示面板具有顯示面電極基板(陣列基板)和濾色膜基板，在相互成對的上述陣列基板和上述濾色膜基板之間夾入液晶材料而構(gòu)成液晶盒；上述顯示面電極基板(陣列基板)在其表面形成有柵極電極線及柵極絕緣用氧化物層，在上述氧化物層表面還形成有像素電極；上述濾色膜基板在其表面形成有RGB的濾色膜及對置電極。液晶顯示面板除上述液晶盒外，還包括周邊電路等其它要素。本發(fā)明的液晶顯示面板中，構(gòu)成液晶盒的l對基板中的至少一方使用本發(fā)明的玻璃基板。實施例下面，示例本發(fā)明的實施例。[例1例8]首先調(diào)合各成分的原料，使成形后的玻璃達(dá)到表1及表2所示的組成(mol%)，用鉑坩堝在1550162(TC下熔化。熔化時用鉑攪拌器進(jìn)行攪拌，進(jìn)行玻璃的均質(zhì)化。接著，使熔化玻璃直接流出，成形為所要的厚度的板狀后退火，得到例1例8的玻璃。另外，表3是以質(zhì)量^表示表l及表2中用mol^表示的組成的表。表1及表2中，作為所得玻璃的特性值，示出了楊氏模量(GPa)、密度(g/cm3)、5035(TC下的線膨脹系數(shù)(平均線膨脹系數(shù)(X10—7°C))、應(yīng)變點(°C)、作為高溫粘性的指標(biāo)的作為熔化性的標(biāo)準(zhǔn)的logn二2(dPa，s)的溫度T2(t:)和作為浮法成形性的標(biāo)準(zhǔn)的logn=4(dPa's)的溫度T4('C)、失透溫度(。C)、耐酸性(在9(TC、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量)。表1及表2所示的特性值中數(shù)值分為2部分記載的特性值中，上方的數(shù)值是計算值，下方的數(shù)值是通過上述的方法測得的實測值。另外，例4例8中，上述的原料的熔化溫度為160(TC。例1例8的特性值的計算方法是通過回歸計算求出各玻璃成分對各特性值的貢獻(xiàn)度ai(i二l6(各玻璃成分(Si02、A1203、B203、MgO、CaO、SrO這6種成分)))，然后由2aiXi+b(Xi為各玻璃成分的摩爾分?jǐn)?shù)，b為常數(shù))求出。由表1及表2可以確認(rèn)，例l例8的玻璃的楊氏模量為75GPa以上、較好為79GPa以上，線膨脹系數(shù)為30X10—740X10—7°C，應(yīng)變點為640。C以上，密度為2.60g/cm3以下，作為耐酸性的指標(biāo)的在90。C、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量在O.6rag/cm2以下，作為顯示器用玻璃基板的特性優(yōu)良。此外，可以確認(rèn)例1例8的玻璃的作為玻璃的熔化性的指標(biāo)的T2不足163(TC、較好為1620'C以下，因此玻璃的熔化性優(yōu)良。此外，可以確認(rèn)例1例8的玻璃的T4不足1260。C、優(yōu)選為1250。C以下、較好為1245"C以下、更好為1235。C，失透溫度在1\以下，因此是適合于利用浮法的玻璃成形的無堿玻璃基板。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>[例9例11]表4示出了作為工業(yè)用玻璃原料調(diào)制的成分的組成，表5示出了所得的玻璃的組成。這里，對于Si02、A1203、B203、MgO、CaO、SrO及BaO，用mol%表示組成，對于F、Cl、S03、Fe203及Sn02，用質(zhì)量百分率表示它們各自相對于Si。2、A1203、B203、MgO、CaO、SrO及BaO的總量的含有比例。表5中，作為所得玻璃的特性值，示出了楊氏模量(GPa)、密度(g/cm3)、5035(TC下的線膨脹系數(shù)(平均線膨脹系數(shù)(X10—7°C))、，應(yīng)變點CC)、作為高溫粘性的指標(biāo)的作為熔化性的標(biāo)準(zhǔn)的logil二2(dPa，s)的溫度T2rC)和作為浮法成形性的標(biāo)準(zhǔn)的logii=4(dPa's)的溫度T4(。C)、失透溫度CC)、耐酸性(在9CTC、0.1N的HC1中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量)。這些特性值是通過例1例8中記載的方法測得的實測值。對于例9例11，對于表4所示的組成，將一半量的玻璃原料(換算成玻璃相當(dāng)于125g)加入300cc的鉑坩堝，在150(TC的電爐中靜置30分鐘后，將鉑坩堝暫時從電爐中取出，追加剩下的一半量的玻璃原料(換算成玻璃相當(dāng)于125g)，再次在150(TC的電爐中靜置30分鐘，將玻璃原料熔化。然后，迅速轉(zhuǎn)移至159(TC的電爐中，靜置30分鐘。然后，轉(zhuǎn)移至73(TC的電爐中，用2小時將玻璃退火至61(TC,再用10小時將玻璃退火至室溫。然后，對于例9例11的各玻璃，用空心鉆(coredrill)將坩堝上部中央的玻璃鉆通，得到直徑38mm、高度35mm的圓柱狀玻璃，然后切割出包含該圓柱狀玻璃的中心軸的厚度25mm的玻璃板。對兩個切割面進(jìn)行光學(xué)研磨加工(鏡面研磨加工)。對于相當(dāng)于距坩堝的玻璃上表面l10mm之間的部位，用體視顯微鏡觀察其光學(xué)研磨加工面，計測玻璃板中的直徑50ym以上的氣泡數(shù)，將該值除以玻璃板的體積，算出氣泡數(shù)。結(jié)果示于表5。由表5可以確認(rèn)，含有Sn02的例10及例ll的玻璃中的氣泡數(shù)比不含Sn02的例9的玻璃少。由此可以確認(rèn)，較好的是玻璃原料中含有Sn02作為澄清劑。此外，例ll的Sn—氧化還原率為16X。Sn—氧化還原率是用Sn—穆斯堡爾光譜法在室溫下測定玻璃中的Sn2+量，用[Sn"量/總Sn]算出的值。Sn—氧化還原率較好為1540%，更好為1530%。對Sn—穆斯堡爾光譜的測定方法進(jìn)行說明。將伴隨從'^Sn到"9Sn的能級躍遷而產(chǎn)生的Y射線(23.8keV)用作探針，通過透過法(計測透過了玻璃試樣的Y射線)測定試樣中的2價Sn和4價Sn的存在比例(Sn—氧化還原率)。具體如下所述。將放射線源的Y射線出射口、玻璃試樣、Pd濾光片、氣體放大比例計數(shù)管(LND公司制，型號45431)的受光部配置在長300800mra的直線上。放射線源使用10mCi的^Sn，使放射線源相對于光學(xué)系統(tǒng)的軸向運動，引起因多普勒效應(yīng)導(dǎo)致的Y射線的能量變化。用轉(zhuǎn)換器(東陽研究(ToyoResearch)株式會社制)調(diào)整放射線源的速度，使其沿光學(xué)系統(tǒng)的軸線以一10+10mra/秒的速度振動。玻璃試樣使用上述將所得玻璃研磨成37mm的厚度而成的玻璃平板。Pd濾光片是用于提高氣體放大比例計數(shù)管對Y射線的計測精度的構(gòu)件，是除去Y射線照射玻璃試樣時由玻璃試樣產(chǎn)生的特征X射線的厚度為50ym的Pd箔。氣體放大比例計數(shù)管是檢測所接收的Y射線的儀器。用放大裝置(關(guān)西電子株式會社制)放大來自氣體放大比例計數(shù)管的表示Y射線量的電信號，從而檢測受光信號。通過多信道分析器(維西爾(Wissel)公司CMCA550)使其與上述的速度信息連動。將來自氣體放大比例計數(shù)管的檢測信號記于縱軸，將運動中的放射線源的速度記于橫軸，從而得到光譜(《穆斯堡爾光譜學(xué)的基礎(chǔ)與應(yīng)用》4564頁佐藤博敏、片田元己共著學(xué)會出版)。至得到能夠進(jìn)行評價的信號/噪音比為止需要2天到16天的累計時間。出現(xiàn)在0mm/秒附近的峰表示4價Sn的存在，出現(xiàn)在2.5mm/秒和4.5mm/秒附近的分裂成2個的峰表示2價Sn的存在。計算各自的峰面積乘以修正系數(shù)(JournalofNon-CrystalineSolids337(2004年)232—240頁"氧化鋁對Sn27Sn4+氧化還原平衡的影響以及錫在Na20/A:U03/Si02熔融物中的慘入，，(TheeffectofaluminaontheSn2+/Sn4+redoxequilibriumandtheincorporationoftininNa20/Al203/Si02melts)DarjaBenner等共著)而得的結(jié)果的比例，將2價Sn的比例作為Sn—氧化還原率的值。[表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>調(diào)整原料，使其成為表4的例9的組成，熔化該原料，制成熔融玻璃后，進(jìn)行浮法成形。使錫槽入口的玻璃熔液的溫度從126(TC下降至124(rC,結(jié)果錫渣的產(chǎn)生個數(shù)降低至5分之2，板面污斑的產(chǎn)生個數(shù)降低至5分之1。此外，不發(fā)生失透等，可穩(wěn)定地進(jìn)行浮法成形。本發(fā)明的玻璃基板即使是一邊為2m以上的矩形的大玻璃板，彎曲量也較少，可與一邊為lra左右的矩形的玻璃基板同樣地進(jìn)行處理，最適合作為液晶顯示面板的要求多倒角的玻璃基板。產(chǎn)業(yè)上利用的可能性本發(fā)明的無堿玻璃基板作為液晶顯示面板中的玻璃基板，特別是作為大型的玻璃基板使用，提供高精細(xì)且對比度高的液晶顯示面板。這里引用2006年7月13日提出申請的日本專利申請2006-193278號、2006年11月7日提出申請的日本專利申請2006-301674號以及2006年12月28日提出申請的日本專利申請2006-356287號的說明書、權(quán)利要求書、附圖以及摘要的全部內(nèi)容作為本發(fā)明的說明書的揭示。權(quán)利要求1.一種無堿玻璃基板，其特征在于，以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時，實質(zhì)上不含堿金屬成分及BaO，各成分的含有率為SiO257.0～65.0％、Al2O310.0～12.0％、B2O36.0～9.0％、MgO5.0～10.0％、CaO5.0～10.0％、SrO2.5～5.5％，且滿足MgO+CaO+SrO16.0～19.0％、MgO/(MgO+CaO+SrO)≥0.40、B2O3/(SiO2+Al2O3+B2O3)≤0.12，楊氏模量≥75GPa，50～350℃的線膨脹系數(shù)30×10-7～40×10-7/℃，應(yīng)變點≥640℃，粘度η滿足logη＝2的溫度T2≤1620℃，粘度η滿足logη＝4的溫度T4≤1245℃，失透溫度≤T4，在90℃、0.1N的HCl中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cm2以下。2.如權(quán)利要求l所述的無堿玻璃基板，其特征在于，以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時為Si02:60.065.0%、A1A:10.012,0%、B203:6,09.0%、Mg0:5.58.5%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.018.5%、Mg0/(MgO+CaO+SrO)》0.40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12。3.如權(quán)利要求1或2所述的無堿玻璃基板，其特征在于，還含有500ppm1.0質(zhì)量X的Sn02。4.一種液晶顯示面板，其特征在于，使用了至少一塊權(quán)利要求13中任一項所述的無堿玻璃基板。5.—種無堿玻璃基板的制造方法，該方法是在以使玻璃原料具有如下玻璃組成的方式使玻璃原料熔化后，通過浮法進(jìn)行成形的無堿玻璃基板的制造方法，所述玻璃組成以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時，實質(zhì)上不含堿成分及Ba0，各成分的含有率為Si02:57.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6.09.0%、Mg0:5.010.0%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.019.0%、Mg0/(Mg0+Ca0+Sr0)40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12;其特征在于，所述玻璃原料的熔化溫度不足163(TC，錫槽入口的玻璃熔液溫度為125(TC以下。6.如權(quán)利要求5所述的無堿玻璃基板的制造方法，該方法是在以使玻璃原料具有如下玻璃組成的方式使玻璃原料熔化后，通過浮法進(jìn)行成形的無堿玻璃基板的制造方法，所述玻璃組成以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示時為Si02:60.065.0%、A1203:10.012.0%、B203:6,09.0%、MgO:5.58.5%、Ca0:5.010.0%、Sr0:2.55.5%，且滿足Mg0+Ca0+Sr0:16.018.5%、Mg0/(Mg0+Ca0+Sr0)40、B203/(Si02+Al203+B203)《0.12;其特征在于，所述玻璃原料的熔化溫度為162(TC以下，錫槽入口的玻璃熔液溫度為1245t:以下。7.如權(quán)利要求5或6所述的無堿玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃原料還含有O.11.0質(zhì)量X的Sn02。8.如權(quán)利要求5所述的無堿玻璃基板的制造方法，其特征在于，具備熔化工序1和熔化工序2;熔化工序1中，將進(jìn)一步含有O.11.0質(zhì)量X的Sn02的所述玻璃原料加熱至1450158(TC，從而制成熔融玻璃；熔化工序2中，在所述熔化工序l之后，將所述熔融玻璃加熱至150(TC以上且不足163(TC的溫度，從而使玻璃中的氣泡脫泡；使所述熔化工序2中的熔融玻璃的溫度比所述熔化工序1中的熔化玻璃的溫度高3(TC以上。全文摘要本發(fā)明提供楊氏模量高，線膨脹系數(shù)低，應(yīng)變點高，密度低，粘度低，在浮法成形中不發(fā)生失透，耐酸性優(yōu)良的無堿玻璃基板。該無堿玻璃基板以下述氧化物為基準(zhǔn)且以摩爾％表示，實質(zhì)上不含堿成分及BaO，各成分的含有率為SiO₂57.0～65.0％、Al₂O₃10.0～12.0％、B₂O₃6.0～9.0％、MgO5.0～10.0％、CaO5.0～10.0％、SrO2.5～5.5％，且滿足MgO+CaO+SrO16.0～19.0％、MgO/(MgO+CaO+SrO)≥0.40、B₂O₃/(SiO₂+Al₂O₃+B₂O₃)≤0.12，楊氏模量≥75GPa，50～350℃的線膨脹系數(shù)30×10^-7～40×10^-7/℃，應(yīng)變點≥640℃，粘度η滿足logη＝2的溫度T₂≤1620℃，粘度η滿足logη＝4的溫度T₄≤1245℃，失透溫度≤T₄，在90℃、0.1N的HCl中浸漬20小時后的單位面積的質(zhì)量減少量為0.6mg/cm²以下。文檔編號C03C3/091GK101489944SQ20078002640公開日2009年7月22日申請日期2007年7月10日優(yōu)先權(quán)日2006年7月13日發(fā)明者前原輝敬,加瀨凖一郎,松本修治,西沢學(xué)申請人:旭硝子株式會社