電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板及其制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法以及電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，該制造方法能夠在使電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板保持高機(jī)械強(qiáng)度的同時(shí)形成介于主表面與端面之間的過(guò)渡面。上述制造方法是電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板具有一對(duì)主表面、沿著與一對(duì)主表面正交的方向配置的端面和在一對(duì)主表面與端面之間配置的一對(duì)過(guò)渡面，該制造方法的特征在于，其包括蝕刻處理工序，所述蝕刻處理工序按照過(guò)渡面和端面成為鏡面的方式對(duì)玻璃基板進(jìn)行蝕刻處理。
【專(zhuān)利說(shuō)明】電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板及其制造方法，所述電子設(shè)備用玻璃蓋片包含:便攜設(shè)備用玻璃蓋片，其用作便攜設(shè)備(便攜型電子設(shè)備)的覆蓋部件；和觸摸傳感器用玻璃蓋片，其用作指向裝置等的觸摸傳感器中的內(nèi)部基板的覆蓋部件。

【背景技術(shù)】
[0002]作為構(gòu)成例如作為電子設(shè)備的移動(dòng)電話(huà)機(jī)、PDA (個(gè)人數(shù)字助理，PersonalDigital Assistant)、數(shù)碼靜物照相機(jī)、攝像機(jī)等便攜設(shè)備的外包裝的一部分的覆蓋部件，使用便攜設(shè)備用玻璃蓋片(電子設(shè)備用玻璃蓋片)。近年來(lái)，除了便攜設(shè)備的薄型化和高性能化以外，還為了能兼容從外觀(guān)性觀(guān)點(diǎn)出發(fā)而設(shè)計(jì)的各種形狀的便攜設(shè)備的殼體和顯示屏幕，制作了各種形狀的玻璃蓋片。
[0003]如果不對(duì)這種作為便攜設(shè)備用玻璃蓋片的基材的玻璃基板的外緣進(jìn)行任何處理，則主表面與端面之間的分界線(xiàn)銳利，容易由該分界線(xiàn)產(chǎn)生裂紋或碎裂(缺損)，因此有時(shí)無(wú)法得到所需的機(jī)械強(qiáng)度。因此，已知形成介于便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的主表面與端面之間的過(guò)渡面(倒角面)。以往，作為過(guò)渡面的形成方法，已知使用旋轉(zhuǎn)刷(研磨刷)通過(guò)機(jī)械加工形成過(guò)渡面的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。作為過(guò)渡面的另一形成方法，已知將玻璃基板和間隔物層疊后，利用由氫氟酸和硫酸的混合液構(gòu)成的蝕刻液進(jìn)行蝕刻形成過(guò)渡面的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0006]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2009-256125號(hào)公報(bào)
[0007]專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)昭57-34049號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明所要解決的問(wèn)題
[0009]近年來(lái)，在便攜設(shè)備中正在推進(jìn)顯示屏幕的大型化、普及具有觸控面板功能的顯示屏幕，與此同時(shí)，為了能耐受使用者對(duì)顯示屏幕的按壓操作和便攜設(shè)備的掉落等，對(duì)于保護(hù)顯示屏幕的便攜設(shè)備用玻璃蓋片(下面適當(dāng)稱(chēng)作“玻璃蓋片”)要求更高的機(jī)械強(qiáng)度。
[0010]可是，在通過(guò)機(jī)械加工形成過(guò)渡面的以往方法中，例如有時(shí)由于研磨刷的高硬度線(xiàn)材對(duì)玻璃蓋片的玻璃基板的包含端面和過(guò)渡面的端部帶來(lái)?yè)p傷，導(dǎo)致在研磨后會(huì)有微裂紋殘留在玻璃基板的端部。這種情況下，例如在可彎曲玻璃基板的方向施加外力時(shí)，由于端部中的微裂紋的擴(kuò)展，有可能無(wú)法保持所需的機(jī)械強(qiáng)度。
[0011]雖然可以通過(guò)對(duì)存在微裂紋的玻璃基板的端部實(shí)施以往的蝕刻處理來(lái)除去微裂紋，但會(huì)在微裂紋除去后的蝕刻處理面上形成起因于加工痕的微小凹凸(粗糙表面)。該微小凹凸中，形成有兩個(gè)以上的球狀微小凹部，并且相鄰凹部的邊緣彼此接觸形成凸部。若這種微小凹凸殘留在玻璃基板的端部的表面上，則例如在沿著可使玻璃基板的主表面彎曲的方向?qū)ΣＡЩ迨┘油饬r(shí)，由于端部的表面上的凹凸而容易產(chǎn)生應(yīng)力集中，有可能無(wú)法保持所需的機(jī)械強(qiáng)度。
[0012]因而，本發(fā)明的一個(gè)側(cè)面中，其目的在于提供一種電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板及其制造方法，能夠在使便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板保持高機(jī)械強(qiáng)度的同時(shí)形成介于主表面與端面之間的過(guò)渡面。
[0013]用于解決問(wèn)題的手段
[0014]面對(duì)上述課題，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，使電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的端面和過(guò)渡面鏡面化，由此除去微裂紋或微小凹凸，因而能夠避免在端面和過(guò)渡面上的特定部位的應(yīng)力集中，能夠提高玻璃蓋片的玻璃基板的機(jī)械強(qiáng)度。需要說(shuō)明的是，通過(guò)使端面和過(guò)渡面鏡面化，其表面性狀變得極為光滑，因此還有外觀(guān)品質(zhì)變好這樣的效果。
[0015]因此，本發(fā)明的第一觀(guān)點(diǎn)涉及一種電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板具有一對(duì)主表面和端部，所述端部包含沿著與上述一對(duì)主表面正交的方向配置的端面和在上述一對(duì)主表面與上述端面之間配置的一對(duì)過(guò)渡面，該制造方法的特征在于，其包括:過(guò)渡面形成工序，在上述玻璃基板的上述一對(duì)主表面與上述端面之間形成上述一對(duì)過(guò)渡面；和鏡面化處理工序，按照使上述端部的表面成為鏡面的方式對(duì)上述玻璃基板進(jìn)行蝕刻處理。
[0016]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，上述過(guò)渡面形成工序是使用機(jī)械加工方法的處理，在上述鏡面化處理工序中，按照除去因上述使用機(jī)械加工方法的處理而可能在上述端部產(chǎn)生的損壞層的方式，進(jìn)行蝕刻處理。
[0017]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，上述過(guò)渡面形成工序?yàn)槲g刻處理，在上述過(guò)渡面形成工序和上述鏡面化處理工序中，使用組成各自不同的蝕刻液。
[0018]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，在上述過(guò)渡面形成工序中，使用氫氟酸或者對(duì)氫氟酸添加酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸作為添加劑的蝕刻液，在上述鏡面化處理工序中，使用對(duì)氫氟酸添加酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸作為添加劑的蝕刻液，上述鏡面化處理工序中的蝕刻液的添加劑濃度高于上述過(guò)渡面形成工序中的蝕刻液的添加劑濃度。進(jìn)一步，上述鏡面化處理工序中的蝕刻液中的氫氟酸與上述添加劑的物質(zhì)的量的混合比優(yōu)選為相對(duì)于每Ikg蝕刻液總量為10:3~10:20的范圍內(nèi)。
[0019]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，在上述鏡面化處理工序中，將上述玻璃基板浸潰在蝕刻液中，與上述玻璃基板的厚度方向平行地?fù)u動(dòng)上述玻璃基板。
[0020]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，還包括開(kāi)口形成工序，所述開(kāi)口形成工序在上述鏡面化處理工序之前進(jìn)行，其使用機(jī)械加工方法在上述玻璃基板形成沿上述玻璃基板的厚度方向貫通的開(kāi)口，在上述鏡面化處理工序中，按照除去因上述使用機(jī)械加工方法的開(kāi)口形成工序而可能在上述開(kāi)口的內(nèi)壁部產(chǎn)生的損壞層的方式，進(jìn)行蝕刻處理。
[0021]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，還包括化學(xué)強(qiáng)化工序，所述化學(xué)強(qiáng)化工序在上述蝕刻處理工序后進(jìn)行，其通過(guò)離子交換進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化，在上述蝕刻處理工序中，按照抑制可能在上述開(kāi)口的內(nèi)壁部存在的損壞層所導(dǎo)致的上述玻璃基板在上述化學(xué)強(qiáng)化工序中的破損的方式，預(yù)先確定蝕刻的加工余量。
[0022]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法可以是，上述蝕刻處理在隔著具有抗蝕刻性的保護(hù)材而層積兩片以上上述玻璃基板的狀態(tài)下進(jìn)行。
[0023]本發(fā)明的第二觀(guān)點(diǎn)涉及一種電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，所述玻璃基板具有一對(duì)主表面和端部，所述端部包含沿著與上述一對(duì)主表面正交的方向配置的端面和在上述一對(duì)主表面與上述端面之間配置的一對(duì)過(guò)渡面，該玻璃基板的特征在于，上述過(guò)渡面和上述端面為鏡面。
[0024]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板中，上述端面的相互正交的兩個(gè)方向上的各向同性表面粗糙度Ra優(yōu)選為I μ m以下。
[0025]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板可以是，在上述玻璃基板上形成有開(kāi)口，在上述開(kāi)口的內(nèi)壁部的表面(即內(nèi)壁面)與上述一對(duì)主表面之間形成有過(guò)渡面，該過(guò)渡面和上述內(nèi)壁面為鏡面。
[0026]上述電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板可以是，上述玻璃基板是能夠利用離子交換進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0027]圖1A為實(shí)施方式的玻璃蓋片的玻璃基板的立體圖。
[0028]圖1B為實(shí)施方式的玻璃蓋片的玻璃基板的端部的截面放大圖。
[0029]圖2為表示實(shí)施方式的玻璃蓋片的制造方法中的各工序的圖。
[0030]圖3為切斷工序后的玻璃基板的層積體的立體圖。
[0031]圖4為形狀加工工序后的玻璃基板的層積體的立體圖。
[0032]圖5為示意性地表示蝕刻處理工序中使用的蝕刻裝置的圖。
[0033]圖6為表示蝕刻液中向氫氟酸添加的硫酸濃度與位于過(guò)渡部的倒角寬度的關(guān)系的圖。
[0034]圖7為表示實(shí)施方式的蝕刻處理工序中玻璃基板的層積體的端部隨時(shí)間的變化的圖。
[0035]圖8為說(shuō)明實(shí)施方式的蝕刻處理工序中對(duì)層積體的搖動(dòng)作用的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0036](I)實(shí)施方式的便攜設(shè)備(電子設(shè)備)用玻璃蓋片(下面適當(dāng)稱(chēng)作“玻璃蓋片”)
[0037]本實(shí)施方式的玻璃蓋片的優(yōu)選利用方式例如是用于保護(hù)便攜型電子設(shè)備的顯示屏幕(特別是移動(dòng)電話(huà)機(jī)(便攜設(shè)備)的顯示屏幕)的玻璃蓋片。本實(shí)施方式的玻璃蓋片可以是所期望的形狀，對(duì)于相同形狀的玻璃基板，通過(guò)公知的印刷法在主表面上形成兩層以上印刷層，由此進(jìn)行制作。為了滿(mǎn)足針對(duì)設(shè)備掉落或?qū)︼@示屏幕的操作輸入(作為觸控面板功能的操作輸入)的標(biāo)準(zhǔn)，玻璃蓋片需要由薄且具有高機(jī)械強(qiáng)度的玻璃構(gòu)成，因此利用離子交換處理進(jìn)行了化學(xué)強(qiáng)化。
[0038]圖1A和圖1B中示出本實(shí)施方式的玻璃蓋片的玻璃基板的外觀(guān)的一個(gè)示例。圖1A是玻璃基板I的示意性立體圖，圖1B是將圖1A所示的玻璃基板I的端部(緣部)的截面放大后的圖。對(duì)玻璃基板I的板厚T沒(méi)有特別限定，但從抑制組裝有玻璃蓋片的各種設(shè)備的重量增大和設(shè)備的薄型化的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，通常優(yōu)選為1mm以下、更優(yōu)選為0.7mm以下。需要說(shuō)明的是，從確保玻璃基板的機(jī)械強(qiáng)度的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，板厚T的下限值優(yōu)選為0.1mm以上。玻璃基板I的外形形狀可以根據(jù)作為組裝對(duì)象的便攜設(shè)備進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定。如圖1A所例示的那樣，根據(jù)需要在玻璃基板I上形成用于例如接收器或麥克風(fēng)等的聲音輸入輸出的開(kāi)口Ih0需要說(shuō)明的是，可以在玻璃基板的端部設(shè)置向主表面的面方向中心側(cè)凹陷(俯視呈切口狀的)凹部。
[0039]本實(shí)施方式的玻璃基板適合使用例如(I)在利用下拉法或浮法等制作板狀玻璃中所使用的含有Si02、Al2O3和選自L(fǎng)i2O和Na2O中的至少一種堿金屬氧化物的鋁硅酸鹽玻璃；(2)在利用浮法等制作板狀玻璃中所使用的鈉鈣玻璃等公知的玻璃材料。通過(guò)化學(xué)強(qiáng)化分別在玻璃基板的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)鹊谋韺硬糠中纬捎袎簯?yīng)力層。該壓應(yīng)力層是將構(gòu)成玻璃基板的玻璃材料中原本含有的堿金屬的一部分置換成離子半徑更大的堿金屬后的改性層。例如，將構(gòu)成本實(shí)施方式的玻璃基板的玻璃材料中含有的鈉離子置換成鉀離子。
[0040]從板狀玻璃的制造性、機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)耐久性等實(shí)用上的觀(guān)點(diǎn)等出發(fā)，作為鋁硅酸鹽玻璃，更優(yōu)選最低限度要含有硅、鋁和鈉各自的氧化物，尤其是包含氧化硅的含量多而氧化鋁的含量相對(duì)少的玻璃。需要說(shuō)明的是，作為這種鋁硅酸鹽玻璃，例如可以使用含有Si0258~75重量％、A12034~20重量％、Li2O O~10重量％、Na2O 4~20重量％作為主要成分的鋁硅酸鹽玻璃。
[0041]如圖1B所不,本實(shí)施方式的玻璃基板I具有一對(duì)主表面lp、沿著與一對(duì)主表面Ip正交的方向配置的端面It、和在一對(duì)主表面Ip與端面It之間配置的一對(duì)過(guò)渡面lc。過(guò)渡面Ic是設(shè)置用于避免因在玻璃蓋片的制造工序方面或者玻璃蓋片向便攜設(shè)備中組裝時(shí)產(chǎn)生微裂紋而導(dǎo)致的機(jī)械強(qiáng)度下降。與過(guò)渡面Ic同樣，對(duì)于玻璃基板1，在開(kāi)口 Ih的內(nèi)壁面Iw與一對(duì)主表面Ip之間也形成有過(guò)渡面。
[0042]為了使玻璃蓋片保持高的機(jī)械強(qiáng)度，端面It和過(guò)渡面Ic形成為鏡面。需要說(shuō)明的是，鏡面通常定義為“對(duì)具有無(wú)數(shù)微細(xì)凹凸的粗糙表面進(jìn)行充分精加工而達(dá)到像鏡子那樣映出物體的程度后的面(出處:切削.磨削.研磨術(shù)語(yǔ)辭典，磨粒加工學(xué)會(huì)編，工業(yè)調(diào)查會(huì)發(fā)行(1995年12月5日))”。例如，某一面上相互正交的兩個(gè)方向上的表面粗糙度(計(jì)算平均粗糙度Ra)為0.1 μ m以下時(shí)，可以定義成該表面為鏡面(或平滑面)。即，如果相互正交的兩個(gè)方向的各向同性表面粗糙度Ra為0.1 μ m以下，則可以定義為鏡面。
[0043]另外，如圖1B所示，在實(shí)施方式的玻璃蓋片的端部，主表面Ip與過(guò)渡面Ic的分界部bll、bl2和過(guò)渡面Ic與端面It的分界部b21、b22均為帶有弧度的形狀。需要說(shuō)明的是，為了抑制在這些分界部處產(chǎn)生應(yīng)力集中，分界部bll、bl2和分界部b21、b22的曲率半徑均優(yōu)選為30~200 μ m的范圍內(nèi)。
[0044](2)實(shí)施方式的玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法
[0045]下面，對(duì)本實(shí)施方式的便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。圖2是依次表示本實(shí)施方式的便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法中的各工序的圖。下面，對(duì)各工序進(jìn)行說(shuō)明。
[0046](2-1)板狀玻璃層積工序
[0047] 板狀玻璃層積工序是通過(guò)將利用例如下拉法或浮法所制作的規(guī)定尺寸的大片板狀玻璃在隔著保護(hù)材的同時(shí)進(jìn)行層積從而制作板狀玻璃的層積體的工序。
[0048]介于板狀玻璃之間的保護(hù)材優(yōu)選為具有規(guī)定接合強(qiáng)度并且之后能夠剝離的臨時(shí)接合材料。如此，通過(guò)使用臨時(shí)接合材料作為保護(hù)材，構(gòu)成層積體的各板狀玻璃難以分離，因此層積體變得容易操作。作為這種臨時(shí)接合材料，例如紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂(UV固化樹(shù)脂)具有在規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線(xiàn)的照射下容易固化從而易于進(jìn)行接合作業(yè)這樣的優(yōu)點(diǎn)。作為紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂，優(yōu)選為能夠利用熱水、熱或有機(jī)溶劑使接合后的板狀玻璃容易地剝離的紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂。需要說(shuō)明的是，作為臨時(shí)接合材料，除了紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂以外，還可以使用蠟、光固化樹(shù)脂、可見(jiàn)光固化樹(shù)脂等。蠟由于在規(guī)定溫度發(fā)生軟化成為液態(tài)而在常溫下呈固態(tài)，因而易于進(jìn)行接合/分離作業(yè)。
[0049]這種臨時(shí)接合材料可以以卷狀進(jìn)行設(shè)置，使臨時(shí)接合材料的卷旋轉(zhuǎn)并臨時(shí)貼附于大片板狀玻璃的整個(gè)一個(gè)面上，進(jìn)行切斷，接著在該臨時(shí)接合材料之上載放下一片板狀玻璃，重復(fù)進(jìn)行上述操作。板狀玻璃的層積片數(shù)為例如10~100片左右。臨時(shí)接合材料為UV固化樹(shù)脂的情況下，對(duì)板狀玻璃的層積體照射紫外線(xiàn)使臨時(shí)接合材料固化。需要說(shuō)明的是，貼附間隔物代替臨時(shí)接合材料的情況下，可以使用樹(shù)脂材料、纖維材料、橡膠材料、金屬材料、陶瓷材料的厚度薄的間隔物。
[0050]保護(hù)材由于會(huì)接觸到后述蝕刻處理工序中使用的蝕刻液，因此由對(duì)于蝕刻液具有不被溶解/除去性質(zhì)(即抗蝕刻性)的材料構(gòu)成。例如作為蝕刻液以氫氟酸為主要成分的情況下，保護(hù)材由對(duì)氫氟酸為難溶性或不溶性的材料構(gòu)成。
[0051]另外，臨時(shí)接合材料的厚度為例如200 μ m以上的情況等過(guò)厚的情況下，之后的切斷工序等中的碎裂(缺損)會(huì)成為問(wèn)題。另一方面，臨時(shí)接合材料的厚度為例如ΙΟμπι以下的情況等過(guò)薄的情況下，有時(shí)難以從玻璃基板剝離。因此，臨時(shí)接合材料的厚度優(yōu)選為10~200 μ m、進(jìn)一步優(yōu)選為20~80 μ m。
[0052](2-2)切斷工序
[0053]接著，通過(guò)圓板切割器(金剛石盤(pán))對(duì)大片板狀玻璃層積而成的層積體進(jìn)行縱橫分割(切斷)，制作小片玻璃基板的層積體。該小片玻璃基板的尺寸為比最終得到的玻璃蓋片稍大一些的程度。圖3中示出通過(guò)切斷工序得到的小片玻璃基板的層積體1A的立體圖。如圖3所示，層積體1A為依次層積保護(hù)材100A和玻璃基板IA的結(jié)構(gòu)。在切斷工序后的層積體1A的側(cè)面，保護(hù)材100A的端面與玻璃基板IA的端面處于同一平面。
[0054](2-3)開(kāi)口形成工序
[0055]接著，對(duì)于玻璃基板的層積體10A，通過(guò)機(jī)械加工形成與要在玻璃蓋片設(shè)置的開(kāi)口Ih對(duì)應(yīng)的開(kāi)口。需要說(shuō)明的是，如果玻璃蓋片上不需要開(kāi)口，則也不需要開(kāi)口形成工序。開(kāi)口形成工序中，使用例如鉆頭等機(jī)械加工方法通過(guò)NC加工形成所期望的形狀的開(kāi)口。
[0056](2-4)形狀加工工序
[0057]接下來(lái)進(jìn)行形狀加工工序。形狀加工工序是按照使玻璃基板的層積體1A的外形成為玻璃蓋片的外形形狀的方式對(duì)層積體1A進(jìn)行機(jī)械加工的工序。形狀加工工序中，使用例如研磨機(jī)等對(duì)玻璃基板的層積體1A的外緣進(jìn)行磨削加工(NC加工)，形成所期望的外形形狀。圖4中示出通過(guò)形狀加工工序得到的玻璃基板的層積體1B的示意性立體圖。如圖4所示，層積體1B為依次層積保護(hù)材100B和玻璃基板IB的結(jié)構(gòu)。在切斷工序后的層積體1B的側(cè)面，保護(hù)材100B的端面與玻璃基板IB的端面處于同一平面。形狀加工后的玻璃基板的端面成為表面性狀較粗糙的機(jī)械加工面。需要說(shuō)明的是，圖4所示的層積體1B中，示出了在開(kāi)口形成工序中形成的開(kāi)口 1H的一個(gè)示例。
[0058](2-5)蝕刻處理工序(端部處理工序)
[0059]蝕刻處理工序是使用圖5所示的蝕刻處理裝置20對(duì)構(gòu)成層積體1B的各個(gè)玻璃基板IB的端部實(shí)施蝕刻處理的工序。
[0060]參照?qǐng)D5對(duì)蝕刻處理裝置20進(jìn)行說(shuō)明。如圖5所示，蝕刻處理裝置20中設(shè)置有被蝕刻液LI充滿(mǎn)的液槽3。作為蝕刻液LI，只要至少含有氫氟酸就沒(méi)有特別限定，可以根據(jù)需要添加硫酸或鹽酸等酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸作為添加劑。
[0061]液槽3內(nèi)優(yōu)選設(shè)置有:保持玻璃基板的層積體1B的保持機(jī)構(gòu)；鼓泡機(jī)構(gòu)等槽內(nèi)液體循環(huán)裝置；及包含用于搖動(dòng)層積體1B的致動(dòng)器(未圖示)的搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5。利用搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5進(jìn)行的層積體1B的優(yōu)選搖動(dòng)例為如圖5中箭頭所示的那樣在層積體1B的層積方向(即玻璃基板的厚度方向)以規(guī)定搖動(dòng)量和規(guī)定的單位時(shí)間內(nèi)搖動(dòng)次數(shù)的條件搖動(dòng)層積體 1B。
[0062]對(duì)于層積體10B，蝕刻從與液槽3內(nèi)的蝕刻液接觸的玻璃基板的端面開(kāi)始進(jìn)行，但隨著蝕刻的進(jìn)行，產(chǎn)生作為反應(yīng)產(chǎn)物的不溶性或難溶性的鹽(例如M3[A1F6]、M3[AlF6J2, M:堿金屬、堿土金屬)。該不溶性或難溶性的鹽能夠通過(guò)層積體1B的搖動(dòng)以及蝕刻處理裝置20的液體循環(huán)系統(tǒng)而從玻璃基板的端面除去。蝕刻處理裝置20的液體循環(huán)系統(tǒng)由在液槽3的上部設(shè)置的溢出槽4、配管8、用于從蝕刻液中除去反應(yīng)產(chǎn)物的過(guò)濾裝置6和循環(huán)泵7構(gòu)成。
[0063]該液體循環(huán)系統(tǒng)中，液槽3內(nèi)的蝕刻液從液槽3移動(dòng)至溢出槽4，通過(guò)配管8送至過(guò)濾裝置6。然后，通過(guò)過(guò)濾裝置6捕捉/除去蝕刻導(dǎo)致的反應(yīng)產(chǎn)物。除去反應(yīng)產(chǎn)物后的蝕刻液通過(guò)循環(huán)泵7從液槽3的底面再次回到液槽3內(nèi)。
[0064]此處，過(guò)濾裝置6是用于從蝕刻液中選擇性地除去反應(yīng)產(chǎn)物的裝置。另外，過(guò)濾裝置6優(yōu)選為能夠從蝕刻液中選擇性地除去反應(yīng)產(chǎn)物的構(gòu)成，例如能夠?qū)崿F(xiàn)利用離心分離選擇性地除去或利用沉淀槽選擇性地除去等的裝置構(gòu)成。
[0065]通過(guò)采用玻璃基板的層積體1B的搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5和液體循環(huán)系統(tǒng)，蝕刻的反應(yīng)產(chǎn)物難以在層積體1B的玻璃基板的端部堆積，因此不需要蝕刻后對(duì)蝕刻面的擦洗等物理性處理。因此，本工序可以消除可能因蝕刻后手動(dòng)擦洗等物理性處理而對(duì)玻璃基板端部產(chǎn)生的機(jī)械性損傷的可能性。
[0066]下面，作為使用蝕刻處理裝置20的蝕刻處理工序的優(yōu)選方式，對(duì)包括如下兩個(gè)階段的工序的蝕刻處理工序(兩個(gè)階段的蝕刻處理工序)進(jìn)行說(shuō)明，所述兩個(gè)階段的工序包括:對(duì)形狀加工工序后的層積體1B進(jìn)行端面和過(guò)渡面的鏡面化的鏡面化處理工序；和進(jìn)行過(guò)渡面形成的過(guò)渡面形成工序。這兩個(gè)階段的蝕刻處理工序中，鏡面化處理工序和過(guò)渡面形成工序使用不同的蝕刻處理裝置20連續(xù)地進(jìn)行。其目的在于，通過(guò)進(jìn)行兩個(gè)階段的蝕亥IJ，實(shí)現(xiàn)玻璃基板的過(guò)渡面的形成和端部及過(guò)渡面的鏡面化。
[0067]本發(fā)明人對(duì)與不同蝕刻液組成對(duì)應(yīng)的過(guò)渡面形成的程度(倒角量)和鏡面化的程度(例如表面粗糙度)進(jìn)行了反復(fù)嘗試試驗(yàn)，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，優(yōu)選在過(guò)渡面形成工序和鏡面化處理工序中使用組成各自不同的蝕刻液。具體來(lái)說(shuō)，在過(guò)渡面形成工序用的蝕刻液和鏡面化處理工序用的蝕刻液中，優(yōu)選使氫氟酸與其它酸(添加劑)的混合比發(fā)生變化。此處，圖6中示出通過(guò)蝕刻得到的倒角量與蝕刻液中的硫酸添加量之間的關(guān)系的一個(gè)示例。該圖6的曲線(xiàn)是使每Ikg蝕刻液總量的氫氟酸為10[mol]并使每Ikg蝕刻液總量的硫酸(H2SO4)的添加量變化時(shí)的曲線(xiàn)。由圖6可知，若作為便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板所要求的倒角量為至少60 μ m左右，作為添加的硫酸量?jī)?yōu)選為例如3~4[mol]以下。
[0068]另一方面可知，蝕刻液中添加的硫酸量至少為3~4[mol]以上時(shí)，玻璃基板的端部表面被平滑化而形成鏡面。即可知，鏡面化處理工序中的蝕刻液的添加劑的濃度優(yōu)選高于過(guò)渡面形成工序中的蝕刻液的添加劑的濃度。蝕刻液中作為添加劑的酸的濃度低時(shí)，玻璃基板的端部的過(guò)渡面變好(即取得大的過(guò)渡面倒角量)，以化學(xué)蝕刻的方式發(fā)揮作用。另一方面，蝕刻液中作為添加劑的酸的濃度高時(shí)，以化學(xué)拋光的方式發(fā)揮作用，玻璃基板的端面被平滑化而得到幾乎沒(méi)有凹凸的良好端面。
[0069]更具體來(lái)說(shuō)，鏡面化處理工序中的蝕刻液中的氫氟酸與添加劑的混合比(mol比)優(yōu)選為相對(duì)于每Ikg蝕刻液總量為10:3~10:20的范圍內(nèi)、進(jìn)一步優(yōu)選為10:4~10:9的范圍內(nèi)。另一方面，對(duì)于過(guò)渡面形成工序中的蝕刻液中的氫氟酸與添加劑的混合比而言，只要蝕刻液中的添加劑的濃度低于鏡面化處理工序的情況即可。需要說(shuō)明的是，過(guò)渡面形成工序中的蝕刻液可以?xún)H為氫氟酸(即可以不添加添加劑)。
[0070]下面，參照?qǐng)D7，對(duì)具體的兩個(gè)階段的蝕刻處理工序的步驟的一個(gè)示例進(jìn)行說(shuō)明。圖7的步驟SI~S4為逐步示意性表示鏡面化處理工序中玻璃基板IB的端部的表面性狀變化和過(guò)渡面形成工序中玻璃基板IB的端部形狀變化的圖。圖7的步驟SI表示初始狀態(tài)的(即形狀加工工序后的)層積體10B，構(gòu)成層積體1B的保護(hù)材100B的端面與玻璃基板IB的端面由于作為上一工序的形狀加工工序中的機(jī)械加工而處于同一平面(機(jī)械加工面)。
[0071]首先，鏡面化處理工序中，利用按照使添加劑濃度為上述濃度的方式制備的蝕刻液充滿(mǎn)蝕刻處理裝置20的液槽3內(nèi)，將層積體1B安置于搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5，利用搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5以規(guī)定搖動(dòng)量、搖動(dòng)次數(shù)使層積體1B搖動(dòng)一定時(shí)間(例如3分鐘)。該鏡面化處理工序中，進(jìn)行玻璃基板的端面被平滑化而形成幾乎沒(méi)有凹凸的良好端面的化學(xué)拋光。其結(jié)果為，如圖7的步驟S2所示，對(duì)于各玻璃基板IB的端面和過(guò)渡面而言，微裂紋和微小凹凸被除去而形成鏡面。
[0072] 需要說(shuō)明的是，利用開(kāi)口形成工序形成有開(kāi)口 1H的情況下，由于開(kāi)口內(nèi)也充滿(mǎn)了蝕刻液，因此通過(guò)鏡面化處理工序，按照使構(gòu)成層積體1B的各玻璃基板IB的開(kāi)口的內(nèi)壁面和該內(nèi)壁面與主表面之間的過(guò)渡面形成鏡面的方式進(jìn)行蝕刻處理。
[0073]接著，過(guò)渡面形成工序中，將層積體1B移入與鏡面化處理工序中使用的液槽不同的液槽3中，液槽3用按照添加劑濃度達(dá)到上述濃度的方式制備的蝕刻液(即添加劑濃度低于鏡面化處理工序的情況的蝕刻液)充滿(mǎn)，利用搖動(dòng)機(jī)構(gòu)5以規(guī)定搖動(dòng)量、搖動(dòng)次數(shù)使層積體1B搖動(dòng)一定時(shí)間(例如3分鐘)。該過(guò)渡面形成工序中，對(duì)玻璃基板的端面進(jìn)行研磨，并且進(jìn)行形成介于主表面與端面之間的過(guò)渡面的化學(xué)蝕刻。其結(jié)果是，如圖7的步驟S3所示，蝕刻從構(gòu)成層積體1B的各玻璃基板IB的端面It開(kāi)始進(jìn)行。即，保護(hù)材100B由于具有抗蝕刻性而不會(huì)被溶解/除去，但與蝕刻液接觸的玻璃基板IB的端面It相比于步驟S2的狀態(tài)被溶解/除去。隨著蝕刻的進(jìn)行，例如玻璃基板IB的端面It被溶解/除去至相比保護(hù)材100B的端面為例如20~100 μ m左右的內(nèi)側(cè)。即，如圖7的步驟S3所示，按照構(gòu)成層積體1B的各玻璃基板IB的端面It的位置向主表面Ip的面方向內(nèi)側(cè)變化的方式，在設(shè)置于各玻璃基板IB的一對(duì)保護(hù)材100B彼此之間使上述玻璃基板溶解于上述蝕刻液，由此在一對(duì)保護(hù)材100B上形成突出部10j (以玻璃基板的端面It為基準(zhǔn)突出至外側(cè)的保護(hù)材10B的部分)。
[0074]進(jìn)一步，由于蝕刻處理裝置20的搖動(dòng)作用，蝕刻液在保護(hù)材100B與玻璃基板IB的界面(圖7中以BD表示)以分子水平向內(nèi)側(cè)滲透，由此如圖7的步驟S4所示形成過(guò)渡面lc。此時(shí)，由于實(shí)質(zhì)上進(jìn)行各向同性蝕刻，因此主表面Ip與過(guò)渡面Ic的分界部和過(guò)渡面Ic與端面It的分界部均形成帶有弧度的形狀(參照?qǐng)D1B)。
[0075]需要說(shuō)明的是，利用開(kāi)口形成工序形成有開(kāi)口 1H的情況下，在開(kāi)口內(nèi)也充滿(mǎn)了蝕刻液，因此通過(guò)過(guò)渡面形成工序，在構(gòu)成層積體1B的各玻璃基板IB的開(kāi)口的內(nèi)壁面與主表面之間形成過(guò)渡面。
[0076]圖8中示意性地示出蝕刻處理裝置20的搖動(dòng)作用。蝕刻處理裝置20中，若沿層積體1B的上下方向、即與玻璃基板的厚度方向平行地進(jìn)行搖動(dòng)，則形成了保護(hù)材100B的突出部100j，因此如圖8所示，層積體1B向下方向移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生蝕刻液朝向玻璃基板的端面It的流動(dòng)F1，層積體1B向上方向移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生蝕刻液朝向玻璃基板的端面It的流動(dòng)F2。由此，蝕刻液沿著保護(hù)材100B與玻璃基板IB的界面BD(參照?qǐng)D7)以分子水平向內(nèi)側(cè)滲透，將介于主表面Ip和端面It之間的部分溶解/除去。其結(jié)果是，在主表面Ip和端面It之間形成過(guò)渡面lc。所形成的過(guò)渡面Ic的面內(nèi)方向的寬度(倒角量)例如為70~100 μ m左右。
[0077]需要說(shuō)明的是，蝕刻處理裝置20中，層積體1B的搖動(dòng)方向不限于上述方向，也可以為其它搖動(dòng)方向。例如，也可以沿著與玻璃基板IB的主表面平行的方向搖動(dòng)。
[0078]需要說(shuō)明的是，為了使蝕刻液在層積體1B的開(kāi)口 1H內(nèi)充分流動(dòng)從而形成良好的開(kāi)口內(nèi)的過(guò)渡面，優(yōu)選控制層積體1B的層積方向的搖動(dòng)量。例如，作為搖動(dòng)條件，搖動(dòng)量為作為蝕刻處理工序?qū)ο蟮牟ＡЩ迮c保護(hù)材的厚度之和(在圖5所示例中為層積體1B在層積方向的長(zhǎng)度)的2倍以上，搖動(dòng)次數(shù)優(yōu)選為I~60次/分鐘。另外，為了進(jìn)一步提高蝕刻液的循環(huán)效果，搖動(dòng)次數(shù)更優(yōu)選為10~30次/分鐘。
[0079]需要說(shuō)明的是，蝕刻處理裝置20中，層積體1B的搖動(dòng)方向不限于上述方向，也可以是其它搖動(dòng)方向。例如，也可以沿著與玻璃基板IB的主表面平行的方向(即前后左右的方向)搖動(dòng)。只要使蝕刻液相對(duì)于玻璃基板或其層積體進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)即可，對(duì)其搖動(dòng)方向沒(méi)有限制。通過(guò)使蝕刻液相對(duì)于玻璃基板相對(duì)移動(dòng)，產(chǎn)生蝕刻液朝向端面的流動(dòng)，因而蝕刻液由此滲透至保護(hù)材和玻璃基板的界面，形成過(guò)渡面。
[0080]需要說(shuō)明的是，本實(shí)施方式的制造方法不限于上述兩個(gè)階段的蝕刻處理工序。例如，在已經(jīng)通過(guò)對(duì)形狀加工工序后的層積體1B預(yù)先實(shí)施利用刷光的機(jī)械加工(未圖示；參照例如上述引用文獻(xiàn)I)或者利用成型砂輪的機(jī)械磨削加工等而形成有過(guò)渡面的層積體1B作為蝕刻處理對(duì)象時(shí)，無(wú)需通過(guò)蝕刻形成過(guò)渡面。此時(shí)，上述蝕刻處理工序僅以端面和過(guò)渡面的鏡面化作為目的，與上述鏡面化處理工序同樣，蝕刻液中的氫氟酸與添加劑(酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸)的混合比(mol比)優(yōu)選為相對(duì)于每Ikg蝕刻液總量為10:3~10:20的范圍內(nèi)、進(jìn)一步優(yōu)選為10:4~1:12的范圍內(nèi)。需要說(shuō)明的是，鏡面化處理工序的搖動(dòng)條件也與過(guò)渡面形成工序的搖動(dòng)條件相同。
[0081]另外，上述蝕刻處理工序中，對(duì)依次進(jìn)行鏡面化處理工序和過(guò)渡面形成工序的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是也可以將鏡面化處理工序和過(guò)渡面形成工序的順序互換。即，也可以先進(jìn)行過(guò)渡面形成工序，之后進(jìn)行鏡面化處理工序。
[0082]此處，上述蝕刻處理工序(鏡面化處理工序或過(guò)渡面形成工序)中，為了抑制可能在開(kāi)口的內(nèi)壁部存在的損壞層導(dǎo)致的玻璃基板在化學(xué)強(qiáng)化工序中的破損，預(yù)先確定蝕刻處理的加工余量。蝕刻工序中的開(kāi)口的內(nèi)壁部的加工余量(溶解量)可以與玻璃基板IB的端面It的情況同樣設(shè)定為20~200 μ m。另外，為了更切實(shí)地除去損壞層,優(yōu)選設(shè)定為50 μ m以上，為了提高生產(chǎn)效率，優(yōu)選設(shè)定為100 μ m以下。
[0083](2-6)剝離工序
[0084]剝離工序是對(duì)玻璃基板的層積體1B進(jìn)行逐片剝離而從層積體1B分離出單片的玻璃基板的工序。剝離工序中的剝離方法取決于保護(hù)材的特性，例如由紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂構(gòu)成的保護(hù)材(臨時(shí)接合材料)之中存在有可在熱水(攝氏80~90度)的環(huán)境下剝離的類(lèi)型的保護(hù)材。此時(shí)，使層積體1B浸潰在含有熱水的容器內(nèi)，由此可以將層積體1B剝離(分離)成單片的玻璃基板。
[0085](2-7)化學(xué)強(qiáng)化工序
[0086]接著，進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化工序。
[0087]化學(xué)強(qiáng)化工序中，將兩片以上的玻璃基板裝填在載具(Cassette)(支撐部件)中，將載具浸潰在含有熔融鹽的化學(xué)強(qiáng)化處理液中。由此，使玻璃基板中含有的一種以上堿金屬與熔融鹽的堿金屬之間進(jìn)行離子交換處理，在玻璃基板的表層部分形成壓應(yīng)力層。
[0088]熔融鹽的組成和溫度以及浸潰時(shí)間可以根據(jù)玻璃基板的玻璃組成和在玻璃基板的表層部分形成的壓應(yīng)力層的厚度等進(jìn)行適當(dāng)選擇，如果玻璃基板的玻璃組成是上述的鋁硅酸鹽玻璃或鈉鈣玻璃，則優(yōu)選利用使化學(xué)強(qiáng)化處理液的處理溫度通常為500°C以下的低溫型離子交換法。這是因?yàn)?，?duì)于在玻璃的退火點(diǎn)以上的溫度范圍進(jìn)行離子交換的高溫型離子交換法而言，無(wú)法得到如低溫型離子交換法那樣高的機(jī)械強(qiáng)度，并且，強(qiáng)化處理中玻璃表面被熔融鹽侵蝕，透明性容易受損，因此難以得到適合于便攜設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板。例如，在本實(shí)施方式的化學(xué)強(qiáng)化工序中，熔融鹽的組成和溫度以及浸潰時(shí)間優(yōu)選從如下示例出的范圍中選擇。
[0089].熔融鹽的組成:硝酸鉀或者硝酸鉀與硝酸鈉的混合鹽
[0090].熔融鹽的溫度:320°C~470°C
[0091].浸潰時(shí)間:3分鐘~600分鐘
[0092](2-8)最終清洗工序
[0093]最終清洗工序中，包括例如將兩片以上的化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板在放置于托盤(pán)上的狀態(tài)下進(jìn)行的酸清洗、堿清洗、利用純水的漂洗、利用IPA(異丙醇)的清洗中的至少一種。
[0094]實(shí)施例
[0095]下面，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明。但是，本發(fā)明不限于實(shí)施例所示的方式。
[0096]將最低限度含有硅、鋁和鈉各自的氧化物的鋁硅酸鹽玻璃，尤其是包含氧化硅的含量多而氧化鋁含量相對(duì)少的玻璃的鋁硅酸鹽玻璃通過(guò)下拉法成型成板厚為0.5mm的板狀玻璃。通過(guò)原子力顯微鏡對(duì)該通過(guò)下拉法形成的板狀玻璃的主表面的表面粗糙度(算術(shù)平均粗糙度Ra)進(jìn)行了考察，結(jié)果為10nm。
[0097]將上述板狀玻璃裁切成370mmX 470mm尺寸的矩形玻璃基板，對(duì)于裁切后的玻璃基板，在其表面均勻貼附作為臨時(shí)接合材料的紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂材料，在此基礎(chǔ)上進(jìn)行層積，制作了層積體。進(jìn)一步對(duì)層積體照射可見(jiàn)光使樹(shù)脂材料固化，使所層積的玻璃基板不會(huì)發(fā)生分離。
[0098][實(shí)施例1~5和比較例1、2的層積體]
[0099].玻璃基板的層積片數(shù):20片
[0100].臨時(shí)接合材料:紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂材料
[0101].臨時(shí)接合材料的厚度:約20 μ m
[0102]制作出實(shí)施例和比較例的層積體后，使用圖5所示的蝕刻處理裝置，進(jìn)行兩個(gè)階段的蝕刻處理，該兩個(gè)階段的蝕刻處理依次對(duì)構(gòu)成層積體的各玻璃基板的端部進(jìn)行鏡面化處理工序和過(guò)渡面形成工序。在鏡面化處理工序和過(guò)渡面形成工序中使用不同的蝕刻處理裝置。蝕刻處理?xiàng)l件如下設(shè)定。需要說(shuō)明的是，各工序中的蝕刻液中的氫氟酸(HF)與作為添加劑的硫酸(H2SO4)的混合比如表1所示。
[0103][鏡面化處理工序的蝕刻處理?xiàng)l件]
[0104].蝕刻液溫度:40°C
[0105].循環(huán)流量:20升/分鐘
[0106]?搖動(dòng)時(shí)間:3分種
[0107].搖動(dòng)量:120mm (p-p)
[0108].搖動(dòng)次數(shù):30次/分鐘
[0109][過(guò)渡面形成工序的蝕刻處理?xiàng)l件]
[0110]?蝕刻液溫度:35°C
[0111]?循環(huán)流量:10升/分鐘
[0112]?搖動(dòng)時(shí)間:5分鐘
[0113]?搖動(dòng)量:20mm (p-p)
[0114].搖動(dòng)次數(shù):25次/分鐘
[0115]接著，將層積體從蝕刻處理裝置中取出，浸潰在熱水(攝氏80~90度)中，分離成兩片以上的玻璃基板。此時(shí)，在各玻璃基板的表面未觀(guān)察到異常。對(duì)于所得到的玻璃基板，對(duì)過(guò)渡面的倒角量和端面及過(guò)渡面的表面粗糙度進(jìn)行了測(cè)定和評(píng)價(jià)。過(guò)渡面的倒角量和端面及過(guò)渡面的表面粗糙度的測(cè)定方法和評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)如下所述。
[0116]通過(guò)光學(xué)顯微鏡將玻璃基板的端部放大200倍，測(cè)定過(guò)渡面的倒角量，倒角量為70~100 μ m時(shí)評(píng)價(jià)為“〇”、50~70 μ m時(shí)評(píng)價(jià)為“Λ”、50 μ m以下時(shí)評(píng)價(jià)為“ X ”。需要說(shuō)明的是，“ O ”或“Λ”是合格的。
[0117]另外，端面和過(guò)渡面的表面粗糙度以根據(jù)JIS B 0601:2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra表示，例如用Keyence公司制造的激光顯微鏡(VK-9700)進(jìn)行測(cè)定，按照由JISB0633:2001規(guī)定的方法算出。此時(shí)，分別對(duì)于各個(gè)端面和過(guò)渡面，算出相互正交的兩個(gè)方向上的算術(shù)平均粗糙度Ra。其結(jié)果是，兩個(gè)方向均為0.05 μ m以下時(shí)評(píng)價(jià)為“〇”、兩個(gè)方向均為0.1 μ m以下時(shí)評(píng)價(jià)為“Λ”、至少一個(gè)方向大于0.2 μ m時(shí)評(píng)價(jià)為“ X ”。需要說(shuō)明的是，“〇”或“Λ”為合格。
[0118][表1]
[0119]^

【權(quán)利要求】
1.一種電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板具有一對(duì)主表面和端部，所述端部包含沿著與所述一對(duì)主表面正交的方向配置的端面和在所述一對(duì)主表面與所述端面之間配置的一對(duì)過(guò)渡面，該制造方法的特征在于，其包括: 過(guò)渡面形成工序，在所述玻璃基板的所述一對(duì)主表面與所述端面之間形成所述一對(duì)過(guò)渡面；和 鏡面化處理工序，按照使所述端部的表面成為鏡面的方式對(duì)所述玻璃基板進(jìn)行蝕刻處理。
2.如權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述過(guò)渡面形成工序是使用機(jī)械加工方法的處理，在所述鏡面化處理工序中，按照除去因所述使用機(jī)械加工方法的處理而可能在所述端部產(chǎn)生的損壞層的方式，進(jìn)行蝕刻處理。
3.如權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述過(guò)渡面形成工序?yàn)槲g刻處理，在所述過(guò)渡面形成工序和所述鏡面化處理工序中，使用組成各自不同的蝕刻液。
4.如權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述過(guò)渡面形成工序中，使用氫氟酸或者對(duì)氫氟酸添加酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸作為添加劑的蝕刻液，在所述鏡面化處理工序中，使用對(duì)氫氟酸添加酸解離常數(shù)大于氫氟酸的酸作為添加劑的蝕刻液，所述鏡面化處理工序中的蝕刻液的添加劑濃度高于所述過(guò)渡面形成工序中的蝕刻液的添加劑濃度。
5.如權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述鏡面化處理工序中的蝕刻液中的氫氟酸與所述添加劑的物質(zhì)的量的混合比為相對(duì)于每Ikg蝕刻液總量為10:3~10:20的范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述鏡面化處理工序中，將所述玻璃基板浸潰在蝕刻液中，與所述玻璃基板的厚度方向平行地?fù)u動(dòng)所述玻璃基板。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法還包括開(kāi)口形成工序，所述開(kāi)口形成工序在所述鏡面化處理工序之前進(jìn)行，其使用機(jī)械加工方法在所述玻璃基板形成沿所述玻璃基板的厚度方向貫通的開(kāi)口，在所述鏡面化處理工序中，按照除去因所述使用機(jī)械加工方法的開(kāi)口形成工序而可能在所述開(kāi)口的內(nèi)壁部產(chǎn)生的損壞層的方式，進(jìn)行蝕刻處理。
8.如權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法還包括化學(xué)強(qiáng)化工序，所述化學(xué)強(qiáng)化工序在所述蝕刻處理工序后進(jìn)行，其通過(guò)離子交換進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化，在所述蝕刻處理工序中，按照抑制可能在所述開(kāi)口的內(nèi)壁部存在的損壞層所導(dǎo)致的所述玻璃基板在所述化學(xué)強(qiáng)化工序中的破損的方式，預(yù)先確定蝕刻的加工余量。
9.如權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述蝕刻處理在隔著具有抗蝕刻性的保護(hù)材而層積兩片以上所述玻璃基板的狀態(tài)下進(jìn)行。
10.一種電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，該玻璃基板具有一對(duì)主表面和端部，所述端部包含沿著與所述一對(duì)主表面正交的方向配置的端面和在所述一對(duì)主表面與所述端面之間配置的一對(duì)過(guò)渡面，其特征在于，所述過(guò)渡面和所述端面為鏡面。
11.如權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，其特征在于，所述端面的相互正交的兩個(gè)方向上的各向同性表面粗糙度Ra為I μ m以下。
12.如權(quán)利要求10或11所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，其特征在于，在所述玻璃基板上形成有開(kāi)口，在作為所述開(kāi)口的內(nèi)壁部表面的內(nèi)壁面與所述一對(duì)主表面之間形成有過(guò)渡面，該過(guò)渡面和所述內(nèi)壁面為鏡面。
13.如權(quán)利要求10~12中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用玻璃蓋片的玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板為能夠利用離子交換進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃。
【文檔編號(hào)】C03C15/00GK104169233SQ201380013614
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2013年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月13日
【發(fā)明者】雨宮勛, 櫻井正 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社