無堿玻璃及使用了該無堿玻璃的無堿玻璃板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種無堿玻璃，其應(yīng)變點(diǎn)為680～735℃，50～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)為30×10-7～43×10-7/℃，比重為2.60以下，以基于氧化物的摩爾百分率計(jì)，含有SiO2 65～69％、Al2O3 11.5～14％、B2O3 3～6.5％、MgO 1～5％、CaO 7.5～12％、SrO 0～1％、BaO 0.5～6％、ZrO2 0～2％。
【專利說明】無堿玻璃及使用了該無堿玻璃的無堿玻璃板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及無堿玻璃及使用了該無堿玻璃的無堿玻璃板。更詳細(xì)而言，涉及適合 作為各種顯示器用基板玻璃和光掩模用基板玻璃等、實(shí)質(zhì)上不含有堿金屬氧化物且能夠通 過浮法或溢流下拉法成形的無堿玻璃以及無堿玻璃板。

【背景技術(shù)】
[0002] 以往，對于各種顯示器用玻璃板（玻璃基板）、特別是在表面上形成金屬或氧化物 等的薄膜的玻璃板中使用的玻璃而言，要求以下所示的特性。
[0003] (1)在玻璃含有堿金屬氧化物時，堿金屬離子會向上述薄膜中擴(kuò)散而使薄膜的膜 特性劣化，因此，要實(shí)質(zhì)上不含有堿金屬離子。
[0004] (2)在薄膜形成工序中將玻璃板暴露于高溫時，為了將玻璃板的變形和伴隨玻璃 的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定化產(chǎn)生的收縮（熱收縮）抑制在最低限度，應(yīng)變點(diǎn)要高。
[0005] (3)對半導(dǎo)體形成中使用的各種化學(xué)品要具有充分的化學(xué)耐久性。特別是對用于 SiOx、SiNx的蝕刻的緩沖氫氟酸（BHF，氫氟酸與氟化銨的混合液）、IT0的蝕刻中使用的含 有鹽酸的藥液、金屬電極的蝕刻中使用的各種酸（硝酸、硫酸等）、抗蝕劑剝離液的堿等要 具有耐久性。
[0006] (4)內(nèi)部和表面要沒有缺陷（氣泡、波筋、夾雜物、麻坑、傷痕等）。
[0007] 在上述要求的基礎(chǔ)上，近年來還出現(xiàn)了如下所述的狀況。
[0008] (5)要求顯示器的輕量化，期望玻璃本身也是密度小的玻璃。
[0009] (6)要求顯示器的輕量化，期望玻璃板的減薄。
[0010] (7)除了迄今為止的非晶硅（a-Si)型液晶顯示器以外，還制作了熱處理溫度稍高 的多晶硅（P-Si)型液晶顯示器（a-Si:約350°C-p-Si:350?550°C)，因此，期望具有耐 熱性。
[0011] (8)為了加快制作液晶顯示器的熱處理的升溫和降溫速度而提高生產(chǎn)率或者提高 耐熱沖擊性，要求玻璃的平均熱膨脹系數(shù)小的玻璃。
[0012] 另一方面，在面向以智能手機(jī)為代表的移動設(shè)備的中小型顯示器中，高精細(xì)化得 到發(fā)展，上述要求變得越發(fā)嚴(yán)格。
[0013] 此外，由于在將顯示器嵌入面板時在玻璃板中產(chǎn)生的應(yīng)力而產(chǎn)生的顏色不均成為 問題。為了抑制顏色不均，需要減小玻璃的光彈性常數(shù)，為此，降低玻璃中的B2o3的濃度或 者提高BaO濃度是有效的。提出了通過這樣的組成調(diào)節(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)低光彈性常數(shù)的無堿玻璃 (例如，參考專利文獻(xiàn)1?3)。
[0014] 另一方面，在中小型液晶顯示器（IXD)、有機(jī)EL顯示器（0ELD)、特別是移動設(shè)備、 數(shù)碼相機(jī)、手機(jī)等的便攜式顯示器的領(lǐng)域中，顯示器的輕量化、薄型化成為重要的課題。為 了實(shí)現(xiàn)玻璃板的進(jìn)一步減薄，在陣列-彩色濾光片貼合工序后，廣泛采用對玻璃板表面實(shí) 施蝕刻處理來使板厚變薄（減?。┑墓ば?。
[0015] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0016] 專利文獻(xiàn)
[0017] 專利文獻(xiàn)1:日本特開2001-172041號公報(bào)
[0018] 專利文獻(xiàn)2:日本特開平5-232458號公報(bào)
[0019] 專利文獻(xiàn)3:日本特開2012-41217號公報(bào)
[0020] 專利文獻(xiàn)4 :日本再公表專利2009-066624號公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0021] 發(fā)明所要解決的問題
[0022] 專利文獻(xiàn)1中公開了光彈性常數(shù)小的無堿玻璃，但失透溫度下的粘性低，制造方 法受限，或者，無法兼顧低比重和耐緩沖氫氟酸性（以下，也稱為"耐BHF性"）。
[0023] 專利文獻(xiàn)2中公開了含有0?5摩爾％的B203并且含有BaO的無堿玻璃，但50? 300°C下的平均熱膨脹系數(shù)超過50X10_7/°C。
[0024] 專利文獻(xiàn)3中公開了含有0? 1?4. 5質(zhì)量％的氏03并且含有5?15質(zhì)量％的8&0 的無堿玻璃，但50?350°C下的平均熱膨脹系數(shù)超過43X1(T/°C，且比重超過2. 60。
[0025] 作為將玻璃板減薄的方法，例如，采用了如下方法：利用含有氫氟酸（HF)的蝕刻 液對板厚〇. 4mm?0. 7mm的玻璃板的表面進(jìn)行蝕刻處理（以下，稱為"氫氟酸蝕刻處理"）， 制成板厚〇. 4mm以下的玻璃板（參考專利文獻(xiàn)4)?；蛘?，研究了使用通過溢流下拉法成形 0. 4mm以下的玻璃板并使用所得到的玻璃板的方法。
[0026] 本發(fā)明的目的在于解決上述缺點(diǎn)。即，提供應(yīng)變點(diǎn)高、比重低、光彈性常數(shù)低、氫氟 酸蝕刻處理后的玻璃板的強(qiáng)度高、即使薄也不易彎曲、并且即使施加應(yīng)力也不易產(chǎn)生顏色 不均等問題的無堿玻璃及包含該無堿玻璃的無堿玻璃板。
[0027] 用于解決問題的手段
[0028] 本發(fā)明提供一種無堿玻璃1，其應(yīng)變點(diǎn)為680?735°C，50?350°C下的平均熱膨 脹系數(shù)為30X10_7?43X10_7/°C，比重為2. 60以下，
[0029] 以基于氧化物的摩爾百分率計(jì)，含有：
[0030]

【權(quán)利要求】
1. 一種無堿玻璃，其應(yīng)變點(diǎn)為680?735 °C，50?350°C下的平均熱膨脹系數(shù)為 30XKT7 ?43X1(T7/°C，比重為 2. 60 以下， 以基于氧化物的摩爾百分率計(jì)，含有：
2. -種無堿玻璃，其應(yīng)變點(diǎn)為680?735 °C，50?350°C下的平均熱膨脹系數(shù)為 30XKT7 ?43X1(T7/°C，比重為 2. 60 以下， 以基于氧化物的摩爾百分率計(jì)，含有：
3. 如權(quán)利要求1或2所述的無堿玻璃，其中，光彈性常數(shù)為31nm/MPa/cm以下。
4. 如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的無堿玻璃，其中，失透溫度下的粘性為104 5泊以 上。
5. 如權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的無堿玻璃，其中，通過等速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn) 變溫度附近的平均冷卻速度為l〇〇°C /分鐘以上。
6. -種無堿玻璃板，其為包含權(quán)利要求1?5中任一項(xiàng)所述的無堿玻璃的無堿玻璃板， 其板厚為〇. 4mm以下， 至少一個表面進(jìn)行了自表面起深度為5pm以上的氫氟酸（HF)蝕刻處理。
【文檔編號】C03C3/091GK104350018SQ201380029776
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年6月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月7日
【發(fā)明者】德永博文, 西澤學(xué), 小池章夫 申請人:旭硝子株式會社