一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置，包括：釉箱、進(jìn)釉管、泵體、進(jìn)釉閥、輸送管、托盤、接頭、錐形座、觀察管、排釉管及排釉閥，所述釉箱位于所述托盤下方，所述進(jìn)釉管與所述釉箱連接，所述進(jìn)釉管上安裝有泵體和進(jìn)釉閥，所述輸送管與所述進(jìn)釉閥連接，所述錐形座和接頭固定安裝于所述托盤底部，所述錐形座和接頭與所述輸送管連接，所述觀察管的底端與所述接頭連接，所述觀察管為兩端開口的中空管，所述觀察管的高度與陶瓷內(nèi)部上釉深度一致，所述排釉管通過所述排釉閥與所述輸送管連接，所述排釉管與所述釉箱連接。本上釉裝置用于對陶瓷內(nèi)部上釉，上釉效率高、釉層均勻，且能夠觀察上釉深度。
【專利說明】一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及陶瓷制造領(lǐng)域，尤其涉及一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在陶瓷生產(chǎn)過程中，有些陶瓷需要針對坯體內(nèi)部進(jìn)行上釉，上前主要采用人工使用噴槍進(jìn)行手工上釉，此種方式能夠滿足一般的要求，但勞動強(qiáng)度大、工作效率低，且很難保證上釉的均勻性，同時對于陶瓷內(nèi)部的上釉深度不方便觀察。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置，其對陶瓷內(nèi)部的上釉效率高，上釉均勻，且能觀察內(nèi)部上釉的深度。
[0004]本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置，其中，包括:釉箱、進(jìn)釉管、泵體、進(jìn)釉閥、輸送管、托盤、接頭、錐形座、觀察管、排釉管及排釉閥，所述釉箱位于所述托盤下方，所述進(jìn)釉管與所述釉箱連接，所述進(jìn)釉管上安裝有泵體和進(jìn)釉閥，所述輸送管與所述進(jìn)釉閥連接，所述錐形座和接頭固定安裝于所述托盤底部，所述錐形座和接頭與所述輸送管連接，所述觀察管的底端與所述接頭連接，所述觀察管為兩端開口的中空管，所述觀察管的高度與陶瓷內(nèi)部上釉深度一致，所述排釉管通過所述排釉閥與所述輸送管連接，所述排釉管與所述釉箱連接。
[0005]所述觀察管與所述接頭通過螺紋連接。
[0006]本實用新型具有以下優(yōu)點和特點:把陶瓷扣在錐形座上，由泵抽送釉液進(jìn)入陶瓷內(nèi)部進(jìn)行浸釉，并由觀察管來觀察陶瓷內(nèi)部的上釉深度，上釉效率高，上釉均勻。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0008]以下參照附圖并結(jié)合【具體實施方式】來進(jìn)一步描述，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實施，保護(hù)范圍并不受制于本技術(shù)方案的實施方式。
[0009]如圖1所示，本實用新型的一個優(yōu)選的實施方案為:一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置，包括:釉箱1、進(jìn)釉管3、泵體11、進(jìn)釉閥10、輸送管9、托盤8、接頭7、錐形座5、觀察管6、排釉管2及排釉閥4，釉箱I位于托盤8下方，進(jìn)釉管3的一端與釉箱I連接，進(jìn)釉管3上安裝有泵體11和進(jìn)釉閥10，輸送管9的右端與進(jìn)釉閥10連接，錐形座5和接頭7固定安裝于托盤8底部，錐形座5和接頭7與輸送管9連接，錐形座5和接頭7并列連接于輸送管9上，錐形座5可以由橡膠制作而成，其較小一端朝向上方。觀察管6的底端與接頭7連接，觀察管6為中空的圓筒管，觀察管6上下兩端是開口的，觀察管6的高度與陶瓷內(nèi)部要上釉的深度一致，排釉管2 —端通過排釉閥4與輸送管9的左端連接，排釉管2另一端與釉箱I連接。觀察管6的底端與接頭7通過螺紋連接。
[0010]工作原理:釉箱I內(nèi)放入釉液，把陶瓷瓶口或一端開口倒扣于錐形座5上，錐形座5支撐陶瓷和密封陶瓷瓶口，根據(jù)陶瓷內(nèi)部要上釉的深度選用高度相同的觀察管6固定于接頭7上，然后打開進(jìn)釉閥，控制泵體11往陶瓷和觀察管6內(nèi)輸送釉液，由于陶瓷和觀察管6構(gòu)成連通管，所以兩者的液面高度相同，從觀察管6的液面高度來判斷陶瓷內(nèi)部液面的高度，且由于觀察管6的高度與陶瓷內(nèi)部需要上釉的深度一致，故當(dāng)觀察管6內(nèi)的釉液高度達(dá)到頂部，停止輸送釉液，關(guān)閉進(jìn)釉閥10，浸釉一段時間后，打開排釉閥4，釉液排出陶瓷和觀察管6，回流到釉箱I中。本實用新型上釉方便，效率高，通過浸釉釉層均勻，且通過觀察管6來監(jiān)控陶瓷內(nèi)部的浸釉高度，避免上釉深度過高或進(jìn)入過多的釉液使陶瓷脫落，方便準(zhǔn)確。
[0011]通過以上實施例可以詳細(xì)的解釋本實用新型，公開本實用新型的目的旨在保護(hù)本實用新型范圍內(nèi)的一切技術(shù)改進(jìn)。
【權(quán)利要求】
1.一種陶瓷內(nèi)部上釉裝置，其特征是，包括:釉箱、進(jìn)釉管、泵體、進(jìn)釉閥、輸送管、托盤、接頭、錐形座、觀察管、排釉管及排釉閥，所述釉箱位于所述托盤下方，所述進(jìn)釉管與所述釉箱連接，所述進(jìn)釉管上安裝有所述泵體和進(jìn)釉閥，所述輸送管與所述進(jìn)釉閥連接，所述錐形座和接頭固定安裝于所述托盤底部，所述錐形座和接頭與所述輸送管連接，所述觀察管的底端與所述接頭連接，所述觀察管為兩端開口的中空管，所述觀察管的高度與陶瓷內(nèi)部上釉深度一致，所述排釉管通過所述排釉閥與所述輸送管連接，所述排釉管與所述釉箱連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷內(nèi)部上釉裝置，其特征是，所述觀察管的底端與所述接頭通過螺紋連接。
【文檔編號】C04B41/86GK204058277SQ201420430722
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月31日
【發(fā)明者】陳向陽 申請人:廣西北流仲禮瓷業(yè)有限公司