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      切割機直角靠尺裝置的制作方法

      文檔序號:11360886閱讀:1967來源:國知局
      切割機直角靠尺裝置的制造方法

      本發(fā)明涉及切割機配件技術領域,尤其是涉及一種切割機直角靠尺裝置。



      背景技術:

      瓷磚切割機是建筑、裝修等行業(yè)中使用極為頻繁的工具之一。一般而言,切割機包括底架,該底架上設有前滑軌、和該前滑軌平行的后滑軌以及位于該前滑軌下方的前支撐板。同時,該前滑軌上設有滑塊,該滑塊上設有切割刀頭。在切割時,將瓷磚放置于前支撐板和后滑軌上,然后移動切割刀頭,即可對瓷磚進行切割。

      為便于切割出斜邊,比如形成三角形瓷磚,則切割機通常還設置有直角靠尺裝置。常見的靠尺裝置包括滑動設置于該后滑軌上的本體,該本體前側設有呈“V”形的開口,該開口具有2個相互垂直的靠面。即,將需要切割斜邊的瓷磚放置于前支撐板上,瓷磚的一個角卡在靠尺裝置的開口內,然后進行正常的切割,即可形成斜邊。

      然而,在使用直角靠尺輔助切割瓷磚時,該瓷磚位于后方的直角極易下滑,繼而從靠尺裝置的開口內滑出,使瓷磚不夠穩(wěn)定,切割質量較差。



      技術實現要素:

      針對上述現有技術存在的不足,本發(fā)明的目的是提供一種切割機直角靠尺裝置,它具有切割較為穩(wěn)定的特點。

      為了實現上述目的,本發(fā)明所采用的技術方案是:切割機直角靠尺裝置,該切割機包括底架,該底架上設有前滑軌、和該前滑軌平行的后滑軌以及位于該前滑軌下方的前支撐板,同時,該前滑軌上設有滑塊,該滑塊上設有切割刀頭,以及,該靠尺裝置包括滑動設置于該后滑軌上的本體,該本體前側設有呈“V”形的開口,該開口具有2個相互垂直的靠面,所述2個靠面的下測邊部均設有限位臺階。

      所述限位臺階均呈水平板狀。

      所述限位臺階上均螺接有一內六角螺釘。

      所述內六角螺釘的工具切槽位于上方。

      采用上述結構后,本發(fā)明和現有技術相比所具有的優(yōu)點是:切割較為穩(wěn)定。本發(fā)明的切割機直角靠尺裝置在使用時,將需要切割斜邊的瓷磚放置于前支撐板上,瓷磚的一個角卡在靠尺裝置的開口內,且瓷磚和靠尺裝置配合的角支撐在限位臺階上,不會出現瓷磚的角部下滑的現象,確保了切割瓷磚時瓷磚位置的穩(wěn)定,保證了切割質量。

      附圖說明

      下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明:

      圖1是本發(fā)明的實施例1的切割機直角靠尺裝置在使用狀態(tài)的立體圖;

      圖2是本發(fā)明的實施例1的切割機直角靠尺裝置的立體圖(相對于圖1進行了放大);

      圖3是本發(fā)明的實施例2的切割機直角靠尺裝置的主視圖(相對于圖1進行了放大)。

      具體實施方式

      實施例1

      見圖1和圖2所示,切割機直角靠尺裝置,該切割機包括底架100。該底架100上設有前滑軌200、和該前滑軌200平行的后滑軌300以及位于該前滑軌200下方的前支撐板400。同時,該前滑軌200上設有滑塊210,該滑塊210上設有切割刀頭(圖上未示出)。以及,該靠尺裝置包括滑動設置于該后滑軌300上的本體10,該本體10前側設有呈“V”形的開口11,該開口11具有2個相互垂直且一般情況下均呈豎向的靠面111。即,在需要切割形成瓷磚的斜邊時,將瓷磚放置于該前支撐板400上,該瓷磚位于后方的一個直角卡在該開口11內且該直角的2個邊分別靠緊該開口11的2個靠面111,使該瓷磚相對較為穩(wěn)定,切割刀頭滑過該瓷磚后,即可形成斜邊。

      進一步的講:

      該2個靠面111的下測邊部均設有限位臺階112。這樣,所需切割的瓷磚的前部受到該前支撐板400的支撐、后部受到該2個限位臺階112的支撐,進一步確保了瓷磚的穩(wěn)定,使切割作業(yè)更為穩(wěn)定。

      實施例2

      相對于實施例1所具有的區(qū)別在于:

      結合圖3所示,限位臺階112均呈水平板狀。此時,限位臺階112上均螺接有一內六角螺釘20。這樣,當限位臺階112的上表面所處的水平面低于該前支撐板400的上表面所在的水平面時,僅需旋動內六角螺釘20,使瓷磚的前部支撐在該前支撐板400上、后部支撐在內六角螺釘20上,進一步確保瓷磚的穩(wěn)定。

      優(yōu)化的:

      內六角螺釘20的工具切槽位于上方、內六角螺釘20的螺紋位于下方。通常,工具切槽為“十”字形凹槽。這樣,便于使用改錐在上方對內六角螺釘20的高低進行調節(jié),較為方便。

      以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。

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