專利名稱:一維橢圓放大機構(gòu)微動工作臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型涉及一種放大位移機構(gòu)結(jié)構(gòu)的改進,具體涉及平行板機構(gòu)與橢圓放大機構(gòu)的組合。
背景技術(shù):
已有放大位移機構(gòu)大都是由單個平行板機構(gòu)組成的,存在頻響低、放大比小、最高放大倍數(shù)為2.2倍、體積大、位移方向剛度小、出力小、承載能力低、工作臺位移方向易偏轉(zhuǎn)、影響位移精度的缺點。
實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是研制一種一維橢圓放大機構(gòu)微動工作臺,它具有位移量大、結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、便于安裝、頻響高、位移方向剛度大、承載能力高的特點。本實用新型由框體5、平行板機構(gòu)1、橢圓放大機構(gòu)2組成;平行板機構(gòu)1固定在框體5內(nèi)的上部并與框體5連固為一體,橢圓放大機構(gòu)2固定在框體5內(nèi)平行板機構(gòu)1的下端。橢圓放大機構(gòu)2由上圓弧片2-1、下圓弧片2-2、左連接塊2-3、右連接塊2-4、壓電陶瓷3、預(yù)緊墊片4組成;左連接塊2-3固定在上圓弧片2-1和下圓弧片2-2之間的左端,右連接塊2-4固定在上圓弧片2-1和下圓弧片2-2之間的右端,左連接塊2-3和右連接塊2-4之間固定有壓電陶瓷3和預(yù)緊墊片4;上圓弧片2-1上端的中心處與平行板機構(gòu)1下端的中心處1-1固定連接,下圓弧片2-2下端的中心處與框體5下框5-2上端的中心處5-1固定連接。本實用新型具有用較小位移的壓電陶瓷實現(xiàn)工作臺大位移要求,并且體積小,結(jié)構(gòu)緊湊,工作臺位移無偏轉(zhuǎn),整體指標優(yōu)于單個平行板放大機構(gòu),位移分辨率低于工作臺位移的千分之0.2,橢圓機構(gòu)放大倍數(shù)為3~4倍,重復(fù)定位精度低于工作臺位移的千分之一,固有頻率約為單個平行板放大機構(gòu)的2~3倍,運動方向剛度大,承載能力高,整體出力大,并能抵抗一定扭矩的優(yōu)點。
圖1是本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
本實施方式由框體5、平行板機構(gòu)1、橢圓放大機構(gòu)2組成;平行板機構(gòu)1固定在框體5內(nèi)的上部并與框體5連固為一體,橢圓放大機構(gòu)2固定在框體5內(nèi)平行板機構(gòu)1的下端。橢圓放大機構(gòu)2由上圓弧片2-1、下圓弧片2-2、左連接塊2-3、右連接塊2-4、壓電陶瓷3、預(yù)緊墊片4組成;左連接塊2-3固定在上圓弧片2-1和下圓弧片2-2之間的左端,右連接塊2-4固定在上圓弧片2-1和下圓弧片2-2之間的右端,左連接塊2-3和右連接塊2-4之間固定有壓電陶瓷3和預(yù)緊墊片4;上圓弧片2-1上端的中心處與平行板機構(gòu)1下端的中心處1-1固定連接,下圓弧片2-2下端的中心處與框體5下框5-2上端的中心處5-1固定連接。
權(quán)利要求1.一維橢圓放大機構(gòu)微動工作臺,它由框體(5)、平行板機構(gòu)(1)、橢圓放大機構(gòu)(2)組成;其特征在于平行板機構(gòu)(1)固定在框體(5)內(nèi)的上部并與框體(5)連固為一體,橢圓放大機構(gòu)(2)固定在框體(5)內(nèi)平行板機構(gòu)(1)的下端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一維橢圓放大機構(gòu)微動工作臺,其特征在于橢圓放大機構(gòu)(2)由上圓弧片(2-1)、下圓弧片(2-2)、左連接塊(2-3)、右連接塊(2-4)、壓電陶瓷(3)、預(yù)緊墊片(4)組成;左連接塊(2-3)固定在上圓弧片(2-1)和下圓弧片(2-2)之間的左端,右連接塊(2-4)固定在上圓弧片(2-1)和下圓弧片(2-2)之間的右端,左連接塊(2-3)和右連接塊(2-4)之間固定有壓電陶瓷(3)和預(yù)緊墊片(4);上圓弧片(2-1)上端的中心處與平行板機構(gòu)(1)下端的中心處(1-1)固定連接,下圓弧片(2-2)下端的中心處與框體(5)下框(5-2)上端的中心處(5-1)固定連接。
專利摘要一維橢圓放大機構(gòu)微動工作臺,它涉及一種放大位移機構(gòu)結(jié)構(gòu)的改進。本實用新型由框體(5)、平行板機構(gòu)(1)、橢圓放大機構(gòu)(2)組成;平行板機構(gòu)(1)固定在框體(5)內(nèi)的上部并與框體(5)連固為一體,橢圓放大機構(gòu)(2)固定在框體(5)內(nèi)平行板機構(gòu)(1)的下端。本實用新型具有用較小位移的壓電陶瓷實現(xiàn)工作臺大位移要求,并且體積小,結(jié)構(gòu)緊湊,工作臺位移無偏轉(zhuǎn),整體指標優(yōu)于單個平行板放大機構(gòu),位移分辨率低于工作臺位移的千分之0.2,橢圓機構(gòu)放大倍數(shù)為3~4倍,重復(fù)定位精度低于工作臺位移的千分之一,固有頻率約為單個平行板放大機構(gòu)的兩倍,運動方向剛度大,承載能力高,整體出力大,并能抵抗一定扭矩的優(yōu)點。
文檔編號B25H1/00GK2628237SQ0326017
公開日2004年7月28日 申請日期2003年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月30日
發(fā)明者曲東升, 王建國, 楊清義, 閔繼江 申請人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)博實精密測控有限責任公司