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      用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜的制作方法

      文檔序號(hào):2437964閱讀:297來源:國知局
      專利名稱:用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種新型用途的聚丙烯基膜,特別是用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜。利用此種基膜可以加工出具有鐳射效果的產(chǎn)品,從而達(dá)到對(duì)被包裝商品裝飾、裝璜或防偽效果。
      上表層、下表層的厚度分別為基膜厚度的10%-12%。
      本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是,由于它結(jié)構(gòu)合理,設(shè)計(jì)新穎,可以直接進(jìn)行鐳射壓印蒸鍍,其不但可以滿足用戶所要求的鐳射效果和蒸鍍效果,同時(shí)大大降低了產(chǎn)品的成本。
      圖2,本實(shí)用新型的橫向結(jié)構(gòu)剖示圖。



      圖1、圖2所示,本實(shí)用新型由上表層1、芯層2、下表層3構(gòu)成,上表層1、芯層2、下表層3通過設(shè)備熱熔、共擠形成一體,芯層2位于上表層1、下表層3之間,其中,上表層1為鐳射壓印蒸鍍層。上表層1、下表層3的厚度分別為基膜厚度的10%-12%。此種基膜所采用的材質(zhì)主要為聚丙烯塑料。
      基膜可以據(jù)用戶的不同的要求,分切成不同規(guī)格尺寸(長(zhǎng)度和寬度)的成品。也可以利用不同雙向拉伸工藝生產(chǎn)出不同厚度的基膜。
      權(quán)利要求1.用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜,其特征在于,基膜由上表層(1)、芯層(2)、下表層(3)構(gòu)成,上表層(1)、芯層(2)、下表層(3)通過熱熔、共擠成為一體,芯層(2)位于上表層(1)、下表層(3)之間,上表層(1)為壓印蒸鍍層。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜,其特征在于,上表層(1)、下表層(3)的厚度分別為基膜厚度的10%-12%。
      專利摘要用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜?;び缮媳韺?、芯層、下表層構(gòu)成,上表層、芯層、下表層通過熱熔共擠成為一體。上表層為壓印蒸鍍層?;さ纳媳韺?、下表層的厚度分別為基膜厚度的10%-12%??梢灾苯舆M(jìn)行鐳射壓印蒸鍍。
      文檔編號(hào)B32B27/06GK2535228SQ02228078
      公開日2003年2月12日 申請(qǐng)日期2002年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月11日
      發(fā)明者欒德海, 江暢, 陳德超, 褚峰林 申請(qǐng)人:中包云夢(mèng)塑料薄膜廠
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