專(zhuān)利名稱(chēng)：一種光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及的是一種光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)，特別是以PSA膠作為電磁波遮蔽(EMI)層與近紅外線(NIR)吸收層間結(jié)合的黏著劑所成的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
習(xí)知的電漿平面顯示器及陰極射線管顯示器等發(fā)光裝置的光學(xué)膜常見(jiàn)的設(shè)計(jì)考慮包括，因電磁波發(fā)射問(wèn)題而有健康方面的疑慮，故其光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中具有類(lèi)似金屬網(wǎng)狀構(gòu)造以遮蔽電磁波；其次，當(dāng)外界光線通過(guò)濾光片時(shí)，外界光線會(huì)反射至使用者的眼睛而產(chǎn)生目?，F(xiàn)象；再者，由于顯示器裝置所發(fā)出的光線圖案必須符合高色純度及亮度的要求等，因此，具有電磁波防護(hù)層(EMI)以及保持相關(guān)光學(xué)性能包括具抗反射或吸收近紅外線的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)及制法，乃為業(yè)界持續(xù)研發(fā)的課題。
關(guān)于前述的具有EMI防護(hù)功能的光學(xué)膜，例如US 2,002,180,324公告專(zhuān)利，系揭示一種具有足夠透光率的金屬網(wǎng)目，其覆以透明樹(shù)脂所構(gòu)成的光學(xué)膜，特征在于使用透明樹(shù)脂的組成而可維持光學(xué)膜的透光率，惟其僅揭示透光率而不包括其它抗反射或吸收近紅外線的性能，且該電磁波防護(hù)層的制法仍嫌復(fù)雜。再者，習(xí)知技術(shù)對(duì)于具有EMI防護(hù)層的制法，主要步驟必須包括金屬網(wǎng)目部分的透明化程序，否則無(wú)法提升光學(xué)膜的透射率及改良其霧度，而致產(chǎn)品整體的透射率降低；然而，該透明化程序關(guān)鍵在于透明化樹(shù)脂的使用，務(wù)必須能精確掌控樹(shù)脂的配方及操作條件，致研發(fā)及操作人力的需求也呈相對(duì)性增加。
本案申請(qǐng)人的先前專(zhuān)利，中國(guó)臺(tái)灣專(zhuān)利公告第592,035號(hào)，揭示一種電磁波遮蔽層結(jié)構(gòu)及制造方法。其中，結(jié)構(gòu)包括一透明基材，具有第一面與第二面；以及一網(wǎng)狀膜，具有第一面與第二面，該網(wǎng)狀膜第一面涂布有一適當(dāng)厚度的一感壓膠，該網(wǎng)狀膜第一面與該透明基材的第二面貼合。其制作方法包括將一網(wǎng)狀膜貼合于一透明基材的表面上；以及在該網(wǎng)狀膜與該透明基材貼合面相對(duì)的該網(wǎng)狀膜表面上涂布一適當(dāng)厚度的一感壓膠。然而，前述專(zhuān)利中尚未揭示一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其具有電磁波防護(hù)層以及保持相關(guān)光學(xué)性能，包括具抗反射或吸收近紅外線的層膜。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型的目的是提供具有近紅外線吸收(NIR)功能及電磁波輻射防護(hù)(EMI)功能的結(jié)構(gòu)，其特征在于將習(xí)知結(jié)構(gòu)中的電磁波遮蔽層與近紅外線吸收層結(jié)合，利用近紅外線吸收層的上且接近電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面?zhèn)韧坎糚SA膠及脫泡處理，以達(dá)到透明化及降低霧度的光學(xué)性能。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于至少包括一電磁波遮蔽層，其具透明基材面與網(wǎng)狀金屬面；以及一近紅外線吸收層，其接近該電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面?zhèn)韧坎加幸粚羽ぶ鴦┗蚪又鴦┒c該電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面貼合。
本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)將習(xí)知結(jié)構(gòu)中的電磁波遮蔽層與近紅外線吸收層結(jié)合，利用近紅外線吸收層的上且接近電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面?zhèn)韧坎糚SA膠及脫泡處理，以達(dá)到透明化及降低霧度的光學(xué)性能。同時(shí)相較習(xí)知技術(shù)的制程，已顯著減少涂布步驟的工序，而該制程及條件的改善，不但獲得簡(jiǎn)化膜層數(shù)量的功效，也使制作成質(zhì)量均一且降低生產(chǎn)的成本。


圖1為習(xí)知光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為實(shí)施該本實(shí)用新型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制作流程圖；圖4為依據(jù)本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行的高壓脫泡步驟及實(shí)施條件范例。
附圖標(biāo)記說(shuō)明01-電磁波遮蔽層；02-感壓膠；03-離型膜；04-玻璃基板；05-近紅外線吸收層；06-PSA膠。
具體實(shí)施方式
有關(guān)本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及實(shí)施手段參照附圖說(shuō)明本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例。第1圖為習(xí)知光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示意圖，該結(jié)構(gòu)主要包括一電磁波遮蔽層01，其具有第一面與第二面；以及兩片離型膜03，其涂布有一適當(dāng)厚度的感壓膠02，而分別與透明基板的第一面及第二面貼合。習(xí)知光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制作方法，系先提供具有網(wǎng)狀金屬的透明基材；在該透明基材01的第一面及第二面?zhèn)韧坎家贿m當(dāng)厚度的一感壓膠02，然后分別與離型膜03貼合。
第2圖為本實(shí)用新型的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示意圖，第3圖則為實(shí)施該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制作流程圖。該結(jié)構(gòu)主要包括一電磁波遮蔽層01，其具有透明基材面與網(wǎng)狀金屬面，該網(wǎng)狀金屬面系以黏著劑或接著劑而與該透明基材貼合，其中透明基材可為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)材質(zhì)或三醋酸纖維(TAC)，網(wǎng)狀金屬層可為銅金屬網(wǎng)狀層，黏著劑或接著劑可為PSA膠、UV膠或熱融膠其中之一。以及一近紅外線吸收層05，其接近該電磁波遮蔽層01的網(wǎng)狀金屬面?zhèn)韧坎加幸贿m當(dāng)厚度的PSA膠06而與該電磁波遮蔽層01的網(wǎng)狀金屬面貼合。該結(jié)構(gòu)更包括于電磁波遮蔽層01的透明基材面?zhèn)?，另以黏著劑或接著劑而與玻璃基板04貼合。黏著劑或接著劑可為PSA膠或熱融膠其中之一；或者為PSA膠、UV型態(tài)或熱融型態(tài)其中之一。涂布的黏著層于貼合完成后，系經(jīng)高壓脫泡步驟而達(dá)到透明化，使其為透明的黏著層。
本實(shí)用新型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制作，系首先提供一具有銅絲織成網(wǎng)狀的PET透明基材的電磁波遮蔽層01上，使該電磁波遮蔽層01的網(wǎng)狀金屬面與TOYOBO NIR(商品名)近紅外線吸收層05貼合，在貼合之前該近紅外線吸收層05已經(jīng)涂布一層PSA膠06作為黏著劑。在完成上述貼合程序之后，即進(jìn)行高壓脫泡步驟，以將原有殘留空氣及氣泡空間全數(shù)趕出，同時(shí)進(jìn)行透明化步驟而可降低霧度，該其中高壓脫泡步驟的操作條件及操作次數(shù)，可視脫泡情況而調(diào)整。例如第4圖中顯示依據(jù)本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行第一次的高壓脫泡步驟，其設(shè)定條件為壓力6.5kgf，溫度65℃，及時(shí)間/批次20mins/25枚，其結(jié)果產(chǎn)生氣泡在貼合處的上半部；經(jīng)進(jìn)行第二次的高壓脫泡，其設(shè)定條件為壓力6.5kgf，溫度65℃，及時(shí)間/批次25mins/24枚，其結(jié)果產(chǎn)生氣泡移向貼合處的中線部分；當(dāng)進(jìn)行第三次高壓脫泡步驟的后，其結(jié)果為先前的氣泡均被移除，而第三次的高壓脫泡，其設(shè)定條件為壓力7.0kgf，溫度65℃，及時(shí)間/批次50mins/25枚。
比較上述本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，于進(jìn)行高壓脫泡步驟前后的透明化及不透明化測(cè)試結(jié)果如表一；其中，類(lèi)似光學(xué)膜構(gòu)造的市售商品，被列為測(cè)試實(shí)驗(yàn)的對(duì)照組。測(cè)試結(jié)果如表一所示，本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，在完成高壓脫泡的后，其霧度值從49.9降至5.40；即使市售商品，經(jīng)本實(shí)用新型的該高壓脫泡步驟后，也會(huì)呈現(xiàn)相同效果。另外，本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，無(wú)論在產(chǎn)品良率，亮度及其它光學(xué)性質(zhì)的測(cè)試數(shù)據(jù)部份，也都符合客戶端的需求，例如面板制造廠家的規(guī)格需求，然而，上述本實(shí)用新型的制作方法，相較習(xí)知技術(shù)的制程，已顯著減少涂布步驟的工序，卻仍保有原有結(jié)構(gòu)中的各項(xiàng)光學(xué)特性，而該制程及條件的改善，不但獲得簡(jiǎn)化膜層數(shù)量的功效，也使制作成質(zhì)量均一且降低生產(chǎn)的成本。
雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本技藝的人士，在不脫離本實(shí)用新型的精神與范圍內(nèi)，當(dāng)可做些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所界定者為準(zhǔn)。
表一本實(shí)用新型完成貼合的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)于進(jìn)行高壓脫泡步驟前后的透明化測(cè)試


注市售商品并未經(jīng)本實(shí)用新型的高壓脫泡步驟處理時(shí)，其霧度值約47.70；此處對(duì)市售商品進(jìn)行本實(shí)用新型的高壓脫泡步驟處理，系為說(shuō)明本實(shí)用新型的手段亦可推及習(xí)知產(chǎn)品。
綜上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以的限定本發(fā)明所實(shí)施的范圍。即大凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)仍屬在本發(fā)明專(zhuān)利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于至少包括一電磁波遮蔽層，其具透明基材面與網(wǎng)狀金屬面；以及一近紅外線吸收層，其接近該電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面?zhèn)韧坎加幸粚羽ぶ鴦┗蚪又鴦┒c該電磁波遮蔽層的網(wǎng)狀金屬面貼合。
2.如權(quán)利要求1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，該電磁波遮蔽層的透明基材面?zhèn)攘硪责ぶ鴦┗蚪又鴦┒c玻璃基板貼合。
3.如權(quán)利要求1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，涂布的黏著劑或接著劑為PSA膠或熱融膠其中之一。
4.如權(quán)利要求2的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，黏著劑或接著劑可為PSA膠、UV型態(tài)或熱融型態(tài)其中之一。
5.如權(quán)利要求1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，涂布的黏著層為透明的黏著層。
6.如權(quán)利要求1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，電磁波遮蔽層，至少包含一透明基材；以及一網(wǎng)狀金屬層，其系以黏著劑或接著劑而與該透明基材貼合。
7.如權(quán)利要求6的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，透明基材可為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯材質(zhì)或三醋酸纖維。
8.如權(quán)利要求6的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，網(wǎng)狀金屬層可為銅金屬網(wǎng)狀層。
9.如權(quán)利要求6的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，黏著劑或接著劑可為PSA膠、UV膠或熱融膠其中之一。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，特別是以電磁波遮蔽(EMI)層與其它光學(xué)膜進(jìn)行貼合的結(jié)構(gòu)，其改進(jìn)習(xí)知電磁波遮蔽層與其它光學(xué)膜結(jié)合時(shí)所發(fā)生透射率下降及霧度增加的缺點(diǎn)。本實(shí)用新型的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，包括一電磁波遮蔽層，具有網(wǎng)狀金屬面及透明基材面；以及一近紅外線吸收(NIR)層，其面?zhèn)韧坎加幸贿m當(dāng)厚度的PSA膠而與該電磁波遮蔽(EMI層的網(wǎng)狀金屬面貼合；其中該涂布及經(jīng)貼合后的PSA膠，經(jīng)過(guò)高壓脫泡步驟進(jìn)行脫泡處理，藉此將原有殘留空氣及氣泡空間全數(shù)趕出，并達(dá)到透明化的功效。
文檔編號(hào)B32B33/00GK2929917SQ20052014279
公開(kāi)日2007年8月1日 申請(qǐng)日期2005年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月23日
發(fā)明者徐月香, 彭盛昌, 王坤保, 鐘偉明 申請(qǐng)人:力特光電科技股份有限公司