專利名稱：一種紅外窄帶帶通濾光片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種濾光片，特別涉及一種紅外窄帶帶通濾光片。
背景技術(shù)：
目前，生物醫(yī)藥、紅外成像，紅外探測，紅外傳感，紅外測溫等領(lǐng)域需要使用到800-900nm紅外光導(dǎo)通的紅外窄帶帶通濾光片。在現(xiàn)有技術(shù)中，此種紅外窄帶帶通濾光片主要存在兩個缺陷，其一、在400-760nm的可見光波段以及950_1100nm的紅外光波段容易出現(xiàn)次峰通帶，從而產(chǎn)生光干擾問題；其二、現(xiàn)有紅外窄帶帶通濾光片經(jīng)常使用有色玻璃材料制成，在其顯色過程中，須用到鎘、鉛等物質(zhì)，而這些物質(zhì)在ROHS標(biāo)準(zhǔn)中是明確限制用量的物質(zhì)，因而不符合環(huán)保的要求。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種環(huán)保，能有效截除次峰，且在800-900nm具有較高紅外光透過率的紅外窄帶帶通濾光片。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)方案是:一種紅外窄帶帶通濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53層膜，該53層膜由高折射率的二氧化鈦TiO2膜層和低折射率的二氧化硅SiO2膜層多次交替堆疊組成，該53層膜從內(nèi)至外依次為:第I層，TiO2膜層，厚度為100.5-101nm ;第2層，SiO2膜層，厚度為264.5_265nm ;第3層，TiO2膜層，厚度為91-91.4nm ;第4層，SiO2膜層，厚度為218-218.4nm ;第5層，TiO2膜層，厚度為107-107.4nm;第6層，SiO2膜層，厚度為168.5_169nm;第7層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第8層，SiO2膜層，厚度為252-252.4nm ;第9層，TiO2膜層，厚度為99-99.49nm ;第10層，SiO2膜層，厚度為174-174.45nm ;第11層，TiO2膜層，厚度為89.6-90nm ;第12層，SiO2膜層，厚度為134-134.4nm ;第13層，TiO2膜層，厚度為163.5-163.8nm;第14層，SiO2膜層，厚度為183.5_184nm ;第15層，TiO2膜層，厚度為134-134.3nm;第16層，SiO2膜層，厚度為165-165.49nm ;第17層，TiO2膜層，厚度為97.5-98nm;第18層，SiO2膜層，厚度為116-116.49nm ;第19層，TiO2膜層，厚度為72-72.3nm ;第 20 層，SiO2 膜層，厚度為 92-92.4nm ;第 21 層，TiO2 膜層，厚度為 69.5_70nm ；第22層，SiO2膜層，厚度為118-118.49nm;第23層，TiO2膜層，厚度為82-82.49nm ;第24層，SiO2膜層，厚度為132-132.49nm ;第25層，TiO2膜層，厚度為79.5_80nm ;第26層，SiO2膜層，厚度為115.5-116nm ;第27層，TiO2膜層，厚度為78-78.3nm ;第28層，SiO2膜層，厚度為104.5-105nm ;第29層，TiO2膜層，厚度為63.5_64nm ;第30層，SiO2膜層，厚度為107.5-108nm ;第31層，TiO2膜層，厚度為68-68.4nm ;第32層，SiO2膜層，厚度為95.6-96nm ;第 33 層，TiO2 膜層，厚度為 44.6_45nm ;第 34 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ；第35層，TiO2膜層，厚度為64-64.4nm ;第36層，SiO2膜層，厚度為106-106.3nm ;第37層，TiO2膜層，厚度為56.6-57nm ;第38層，SiO2膜層，厚度為82.5_83nm ;第39層，TiO2膜層，厚度為53-53.5nm ;第40層，SiO2膜層，厚度為89-89.4nm ;第41層，TiO2膜層，厚度為40-40.4nm ;第 42 層，SiO2 膜層，厚度為 52.6_53nm ;第 43 層，TiO2 膜層，厚度為 52-52.49nm ；第44層，SiO2膜層，厚度為83.5-84nm ;第45層，TiO2膜層，厚度為43-43.4nm ;第46層，SiO2膜層，厚度為74.5-75nm ;第47層，TiO2膜層，厚度為50-50.3nm ;第48層，SiO2膜層，厚度為80-80.49nm ;第 49 層，TiO2 膜層，厚度為 49.5_50nm ;第 50 層，SiO2 膜層，厚度為 92-92.4nm ；第51層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第52層，SiO2膜層，厚度為90.6-9Inm ;第53層，TiO2膜層，厚度為29.6-30nm。本實用新型紅外窄帶帶通濾光片的制造工藝包括:將透明玻璃基板置于精密真空鍍膜機中，然后設(shè)定好膜層厚度參數(shù)，最后通過真空鍍膜(例如蒸鍍)方式形成所述的53層膜。鍍膜之后的紅外窄帶帶通濾光片在800 - 900nm的紅外光波段，其紅外光透過率達到98%，而在400-760nm的可見光波段以及950-1 IOOnm的紅外光波段，其整體透過率小于
0.5%。本實用新型的有益效果是:本實用新型的膜層為53層，在800 - 900nm的紅外光波段，其紅外光透過率達到98%，而在400-760nm的可見光波段以及950-1 IOOnm的紅外光波段，其整體透過率小于0.5%，能有效截除次峰，并且，本實用新型無須用到鎘、鉛等物質(zhì)，環(huán)保而符合ROHS要求；本實用新型能廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)藥、紅外成像，紅外探測，紅外傳感，紅外測溫，以及3D游戲紅外成像等領(lǐng)域。

圖1為本實用新型紅外窄帶帶通濾光片的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實用新型紅外窄帶帶通濾光片的另一整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實用新型紅外窄帶帶通濾光片進行光線透射測試透射率特性圖。圖中:100.紅外窄帶帶通濾光片；1.透明玻璃基板；2.53層膜；21.TiO2膜層；22.SiO2月旲層；3.磨fe層。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作進一步詳細說明。如圖1所示，在該具體實施方式
中，該紅外窄帶帶通濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53層膜，該53層膜由高折射率的二氧化鈦TiO2膜層和低折射率的二氧化硅SiO2膜層多次交替堆疊組成，該53層膜從內(nèi)至外依次為:第I層，TiO2膜層，厚度為100.5-101nm ;第2層，SiO2膜層，厚度為264.5_265nm ;第3層，TiO2膜層，厚度為91-91.4nm ;第4層，SiO2膜層，厚度為218-218.4nm ;第5層，TiO2膜層，厚度為107-107.4nm ;第6層，SiO2膜層，厚度為168.5_169nm ;第7層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第8層，SiO2膜層，厚度為252-252.4nm ;第9層，TiO2膜層，厚度為99-99.49nm ;第10層，SiO2膜層，厚度為174-174.45nm ;第11層，TiO2膜層，厚度為89.6-90nm ;第12層，SiO2膜層，厚度為134-134.4nm ;第13層，TiO2膜層，厚度為163.5-163.8nm ;第 14 層，SiO2 膜層，厚度為 183.5_184nm ;第 15 層，TiO2 膜層，厚度為134-134.3nm;第16層，SiO2膜層，厚度為165-165.49nm ;第17層，TiO2膜層，厚度為97.5-98nm;第18層，SiO2膜層，厚度為116-116.49nm ;第19層，TiO2膜層，厚度為72-72.3nm ;第 20 層，SiO2 膜層，厚度為 92-92.4nm ;第 21 層，TiO2 膜層，厚度為 69.5_70nm ；第22層，SiO2膜層，厚度為118-118.49nm;第23層，TiO2膜層，厚度為82-82.49nm ;第24層，SiO2膜層，厚度為132-132.49nm ;第25層，TiO2膜層，厚度為79.5_80nm ;第26層，SiO2膜層，厚度為115.5-116nm ;第27層，TiO2膜層，厚度為78-78.3nm ;第28層，SiO2膜層，厚度為104.5-105nm ;第29層，TiO2膜層，厚度為63.5_64nm ;第30層，SiO2膜層，厚度為107.5-108nm ;第31層，TiO2膜層，厚度為68-68.4nm ;第32層，SiO2膜層，厚度為95.6-96nm ;第 33 層，TiO2 膜層，厚度為 44.6_45nm ;第 34 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ；第35層，TiO2膜層，厚度為64-64.4nm ;第36層，SiO2膜層，厚度為106-106.3nm ;第37層，TiO2膜層，厚度為56.6-57nm ;第38層，SiO2膜層，厚度為82.5_83nm ;第39層，TiO2膜層，厚度為53-53.5nm ;第40層，SiO2膜層，厚度為89-89.4nm ;第41層，TiO2膜層，厚度為40-40.4nm ;第 42 層，SiO2 膜層，厚度為 52.6_53nm ;第 43 層，TiO2 膜層，厚度為 52-52.49nm ；第44層，SiO2膜層，厚度為83.5-84nm ;第45層，TiO2膜層，厚度為43-43.4nm ;第46層，SiO2膜層，厚度為74.5-75nm ;第47層，TiO2膜層，厚度為50-50.3nm ;第48層，SiO2膜層，厚度為80-80.49nm ;第 49 層，TiO2 膜層，厚度為 49.5_50nm ;第 50 層，SiO2 膜層，厚度為 92-92.4nm ；第51層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第52層，SiO2膜層，厚度為90.6-9Inm ;第53層，TiO2膜層，厚度為29.6-30nm。在上述技術(shù)方案中，二氧化鈦膜層21和二氧化硅膜層22通過真空鍍膜(如真空蒸鍍)方式形成于透明玻璃基板之上，氧化鈦膜層21和二氧化硅膜層22的層數(shù)和厚度是根據(jù)二氧化鈦及二氧化硅的折射率，經(jīng)大量計算而得出的，二氧化鈦具有較高折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表一；二氧化硅具有較低折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表二。表一、二氧化鈦在部分光線波段中的折射率:
權(quán)利要求1.一種紅外窄帶帶通濾光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的·53層膜，該53層膜由高折射率的二氧化鈦TiO2膜層和低折射率的二氧化硅SiO2膜層多次交替堆疊組成，該53層膜從內(nèi)至外依次為:第I層，TiO2膜層，厚度為100.5-101nm ；第2層，SiO2膜層，厚度為264.5-265nm ;第3層，TiO2膜層，厚度為91-91.4nm ;第4層，SiO2膜層，厚度為218-218.4nm;第5層，TiO2膜層，厚度為107-107.4nm;第6層，SiO2膜層，厚度為168.5-169nm;第7層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第8層，SiO2膜層，厚度為252-252.4nm ;第9層，TiO2膜層，厚度為99-99.49nm ;第10層，SiO2膜層，厚度為174-174.45nm ;第11層，TiO2膜層，厚度為89.6_90nm ;第12層，SiO2膜層，厚度為 134-134.4nm ;第 13 層，TiO2 膜層，厚度為 163.5-163.8nm ;第 14 層，SiO2 膜層，厚度為183.5-184nm ;第15層，TiO2膜層，厚度為134-134.3nm ;第16層，SiO2膜層，厚度為165-165.49nm ;第17層，TiO2膜層，厚度為97.5_98nm ;第18層，SiO2膜層，厚度為116-116.49nm ;第19層，TiO2膜層，厚度為72-72.3nm ;第20層，SiO2膜層，厚度為92-92.4nm ;第21層，TiO2膜層，厚度為69.5_70nm ;第22層，SiO2膜層，厚度為118-118.49nm ;第23層，TiO2膜層，厚度為82-82.49nm ;第24層，SiO2膜層，厚度為132-132.49nm ;第25層，TiO2膜層，厚度為79.5_80nm ;第26層，SiO2膜層，厚度為115.5-116nm;第27層，TiO2膜層，厚度為78-78.3nm ;第28層，SiO2膜層，厚度為104.5-105nm ;第29層，TiO2膜層，厚度為63.5_64nm ;第30層，SiO2膜層，厚度為107.5-108nm ;第31層，TiO2膜層，厚度為68-68.4nm ;第32層，SiO2膜層，厚度為·95.6-96nm ;第 33 層，TiO2 膜層，厚度為 44.6_45nm ;第 34 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ；第35層，TiO2膜層，厚度為64-64.4nm ;第36層，SiO2膜層，厚度為106-106.3nm ;第37層，TiO2膜層，厚度為56.6-57nm ;第38層，SiO2膜層，厚度為82.5_83nm ;第39層，TiO2膜層，厚度為53-53.5nm ;第40層，SiO2膜層，厚度為89-89.4nm ;第41層，TiO2膜層，厚度為·40-40.4nm ;第 42 層，SiO2 膜層，厚度為 52.6_53nm ;第 43 層，TiO2 膜層，厚度為 52-52.49nm ；第44層，SiO2膜層，厚度為83.5-84nm ;第45層，TiO2膜層，厚度為43-43.4nm ;第46層，SiO2膜層，厚度為74.5-75nm ;第47層，TiO2膜層，厚度為50-50.3nm ;第48層，SiO2膜層，厚度為·80-80.49nm ;第 49 層，TiO2 膜層，厚度為 49.5_50nm ;第 50 層，SiO2 膜層，厚度為 92-92.4nm ；第51層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第52層，SiO2膜層，厚度為90.6-9Inm ;第53層，TiO2膜層，厚度為29.6-30nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外窄帶帶通濾光片，其特征在于:所述53層膜的厚度依次為:第 I 層，100.518nm ；第 2 層，264.651nm ；第 3 層，91.2Inm ；第 4 層，218.215nm ；第 5 層，107.045nm ;第 6 層，168.523nm ;第 7 層，109.184nm ；第 8 層，252.313nm ；第 9層，99.395nm ;第 10 層，174.349nm ；第 11 層，89.926nm ;第 12 層，134.082nm ;第 13 層，·163.536nm ;第 14 層，183.688nm ;第 15 層，134.006nm ;第 16 層，165.439nm ;第 17 層，·97.897nm ;第 18層，116.347nm ;第 19層，72.165nm ;第 20 層，92.186nm ;第21 層，69.758nm ；第 22 層，118.489nm ；第 23 層，82.49nm ;第 24 層，132.368nm ；第 25 層，79.762nm ；第 26層，115.833nm ；第 27 層，78.05nm ;第 28 層，104.609nm ；第 29 層，63.713nm ;第 30 層，·107.694nm ;第 31 層，68.207nm ;第 32 層，95.956nm ;第 33 層，44.99nm ’第 34 層，74.794nm ；第 35 層，64.302nm ’第 36 層，106.066nm ’第 37 層，56.973nm ;第 38 層，82.762nm ;第 39 層，·53.495nm ;第 40 層，89.188nm ;第 41 層，40.122nm ’第 42 層，52.862nm ;第 43 層，52.426nm ；第 44 層，83.962nm ;第 45 層，43.224nm ;第 46 層，74.709nm ;第 47 層，50.072nm ;第 48 層，.80.449nm ;第 49 層，49.804nm ;第 50 層，92.186nm ;第51 層，109.29Inm ;第 52 層，90.987nm ；第 53 層，29.904nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紅外窄帶帶通濾光片，其特征在于:所述透明玻璃基板為光學(xué)玻璃基板D263T。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紅外窄帶帶通濾光片，其特征在于:所述光學(xué)玻璃基板D263T的厚度為 0.145mm 或 0.21mm 或 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紅外窄帶帶通濾光片，其特征在于:還包括一層磨損層，該磨損層疊 加于所述的53層膜之外，該磨損層為SiO2膜層，厚度為3-5nm。
專利摘要本實用新型公開了一種紅外窄帶帶通濾光片，涉及濾光片技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53層膜，該53層膜由高折射率的二氧化鈦TiO2膜層和低折射率的二氧化硅SiO2膜層多次交替堆疊組成。本實用新型在800－900nm的紅外光波段，其紅外光透過率達到98%，而在400-760nm的可見光波段以及950-1100nm的紅外光波段，其整體透過率小于0.5%，能有效截除次峰，并且，本實用新型無須用到鎘、鉛等物質(zhì)，環(huán)保而符合ROHS要求；本實用新型能廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)藥、紅外成像，紅外探測，紅外傳感，紅外測溫，以及3D游戲紅外成像等領(lǐng)域。
文檔編號B32B9/04GK203164461SQ20132007600
公開日2013年8月28日 申請日期2013年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月19日
發(fā)明者奐微微, 黃興橋 申請人:東莞五方光電科技有限公司