專利名稱：熱敏可成象元件的制作方法
相關(guān)申請的交叉引用本申請為于2003年10月27日提交的題為“IMAGABLEARTICLES AND COMPOSOTIONS，AND THEIR USE(可成象制品和組合物及其用途)”的美國申請系列號10/694,205的部分繼續(xù)申請，該申請為于2001年9月7日提交的題為“IMAGABLE ARTICLESAND COMPOSOTIONS，AND THEIR USE(可成象制品和組合物及其用途)”的美國申請系列號09/948,182的繼續(xù)申請，后一申請現(xiàn)已授權(quán)，其專利號為美國專利6,673,514。這些申請的全部內(nèi)容通過引用結(jié)合到本文中來。
背景技術(shù)：
可成象元件(例如平版印版形式的前驅(qū)體、電子部件前驅(qū)體和掩模前驅(qū)體)通常通過在基材上涂覆能形成薄膜的輻射吸收化合物來制備。常規(guī)的輻射吸收化合物包括分散在聚合物粘合劑中的感光組分。當(dāng)一部分輻射吸收化合物曝光(通常稱為成象曝光)后，已曝光的部分變得比輻射吸收化合物未曝光部分更易溶解于顯影液中或更不易溶解于顯影液中。在陽圖型可成象元件中，輻射吸收化合物的已曝光區(qū)比未曝光區(qū)更易溶解于顯影液中。相反，在陰圖型制版中，已曝光區(qū)比未曝光區(qū)更不易溶解于顯影液中。在每種情況下，未顯影的部分保留在印版上，而已顯影區(qū)暴露出基材的親水表面。
對紅外(IR)輻射響應(yīng)的輻射吸收化合物近來引起人們的興趣。在這些體系中，輻射吸收化合物包含將IR輻射轉(zhuǎn)化為熱的IR吸收劑。合適的IR輻射源為通過數(shù)字控制在輻射或加熱區(qū)產(chǎn)生所需圖案的IR激光器。這些組合物適用于先進(jìn)的“Computer-to-Plate(計算機(jī)制版)”(CTP)技術(shù)。某些對紫外或可見光輻射不敏感的IR組合物的優(yōu)點在于不需要在暗室或在紫外安全燈條件下操作。相反，這些組合物可在普通燈下操作。
輻射吸收化合物必須平衡成象所需的幾種性能。這些性能包括對基材的粘附合適，成象后顯影合適和清晰度合適。研究了兩種在這些材料中達(dá)到合適的性能平衡的方法。第一種方法致力于改進(jìn)材料的感光組分的質(zhì)量。第二種方法涉及改進(jìn)控制材料的物理和化學(xué)性能的聚合物粘合劑的質(zhì)量。第二種方法為有意義的研究和創(chuàng)新，這是由于輻射吸收化合物在成象、顯影和印刷過程中，以及可成象元件的儲存壽命和耐久性均與粘合劑材料的選擇有關(guān)。
某些IR吸收化合物與基材的粘附性合適。其他IR吸收化合物在常規(guī)的成象條件下光敏性合適。還有其他IR吸收化合物能經(jīng)受在制備某些可成象元件(特別是印版)中所需的持久曝光和顯影步驟。其他IR吸收化合物在成象后具有足夠的耐顯影液性能。另外，某些聚合物粘合劑適當(dāng)?shù)啬涂沙上笤?jīng)受的機(jī)械應(yīng)力并耐由于清潔和處理最終印版的化學(xué)品。雖然如此，具有所有這些性能的IR吸收化合物為目前研究的焦點。
發(fā)明概述在一個實施方案中，本發(fā)明提供了一種陽圖型可成象元件，所述元件包含基材、涂覆于所述基材并包含聚合物材料的第一層以及涂覆于所述第一層并包含含羥基的聚合物和具有至少一種下式的熱不穩(wěn)定部分的第二層 其中R1為烷基、芳烷基、芳基、烯基或甲硅烷基。
第一層的聚合物材料可包含至少一種包括N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸或甲基丙烯酰胺單元的共聚物。第一層的聚合物材料還可包含包括N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺或丙烯腈單元的第二種共聚物。所述第二種共聚物還可包括式(1)或(2)表示的組分的單元 或以上兩種組分的單元，其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。所述第一層還可包含具有活性羥甲基或活性烷基化羥甲基的樹脂，例如可溶酚醛樹脂。
第二層的含羥基的聚合物可為酚醛樹脂，例如線形酚醛樹脂。所述熱不穩(wěn)定部分可為在所述含羥基的聚合物上的側(cè)基，可占含羥基的聚合物的5％摩爾-50％摩爾，其余的羥基不含熱不穩(wěn)定部分。
在另一個實施方案中，本發(fā)明提供了一種制備印版前驅(qū)體的方法，所述方法包括在所述基材上涂覆上述第一層，隨后在所述第一層上涂覆上述第二層。隨后可將所得到的印版前驅(qū)體曝光和顯影，以制備印版。
發(fā)明詳述在一個實施方案中，本發(fā)明提供了一種可成象元件，所述元件包含基材、涂覆于所述基材的第一層和涂覆于所述第一層的第二層。
所述可成象元件的基材可由各種合適的材料組成，所述材料包括金屬、合金、紙、銅版紙和聚合物材料。在一個實施方案中，所述基材可包含金屬表面。合適的金屬包括鋁、鋅、鈦和/或合金，例如黃銅和鋼。例如所述基材可為采用常規(guī)方法起紋和/或陽極氧化的鋁板?；蛘咚龌目捎沙Ｓ糜跀z影業(yè)的聚合物材料或經(jīng)過處理的紙制備。特別合適的聚合物材料為涂膠以提供表面親水性的聚對苯二甲酸乙二酯。也可使用經(jīng)電暈放電處理的銅版紙。
第一層可包含一種或多種共聚物。各種合適的共聚物和共聚物混合物可包含在第一層中。在一個實施方案中，所述共聚物包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸單元。所述共聚物可包含例如約25％摩爾-約75％摩爾，更特別為約35％摩爾-約60％摩爾的N-苯基馬來酰亞胺；約10％摩爾-約50％摩爾，更特別為約15％摩爾-約40％摩爾的甲基丙烯酰胺；和約5％摩爾-約30％摩爾，更特別為約10％摩爾-約30％摩爾的甲基丙烯酸。類似的共聚物報道于Shimazu的美國專利6,294,311和Savariar-Hauck的美國專利6,528,228，所述專利公開的內(nèi)容通過引用結(jié)合到本文中來。
所述共聚物還可包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈單元和至少一種式(1)或(2)表示的組分的單元
或兩種組分的單元，其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。
例如用于第一層的共聚物可包含約1％重量-約30％重量，更特別為約3％重量-約20％重量，還更特別為約5％重量的N-苯基馬來酰亞胺；約1％重量-約30％重量，更特別為約5％重量-約20％重量，還更特別為約10％重量的甲基丙烯酰胺；約20％重量-約75％重量，更特別為約35％重量-約60％重量，還更特別為約45％重量的丙烯腈；和約20％重量-約75％重量，更特別為約35％重量-約60％重量，還更特別為約40％重量的式(1)表示的組分。
在另一個實施方案中，用于第一層的共聚物可包含約1％重量-約30％重量，更特別為約3％重量-約20％重量，還更特別為約5％重量的N-苯基馬來酰亞胺；約1％重量-約30％重量，更特別為約5％重量-約20％重量，還更特別為約10％重量的甲基丙烯酰胺；約20％重量-約75％重量，更特別為約35％重量-約60％重量，還更特別為約48％重量的丙烯腈；約20％重量-約75％重量，更特別為約35％重量-約60％重量，還更特別為約31％重量的式(1)表示的組分；和約1％重量-約30％重量，更特別為約3％重量-約20％重量，還更特別為6％重量的式(2)表示的組分。
所述共聚物可采用常規(guī)方法(例如自由基聚合反應(yīng))制備，例如報道于Macromolecules(大分子)，第2卷，第2版，H.G.Elias，Plenum，New York，1984，第20和21章的方法。用于本發(fā)明的各實施方案的可用的自由基引發(fā)劑包括過氧化物(例如過氧化苯甲酰(BPO))、氫過氧化物(例如枯基過氧化氫)和偶氮化合物(例如2，2′-偶氮二異丁腈(AIBN))。合適的溶劑包括對各反應(yīng)物為惰性且不會對反應(yīng)起不利影響的液體溶劑。典型的溶劑的實例有酯，例如乙酸乙酯和乙酸丁酯；酮，例如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲基丙基酮和丙酮；醇，例如甲醇、乙醇、異丙醇和丁醇；醚，例如二烷和四氫呋喃；及其混合物。
第一層還可包含樹脂或具有活性羥甲基和/或活性烷基化羥甲基的樹脂。合適的樹脂的實例有可溶酚醛樹脂及其烷基化類似物；羥甲基三聚氰胺樹脂及其烷基化類似物，例如三聚氰胺-甲醛樹脂；羥甲基甘脲樹脂及烷基化類似物，例如甘脲-甲醛樹脂；硫脲-甲醛樹脂；胍胺-甲醛樹脂；和苯胍胺-甲醛樹脂。市售的三聚氰胺-甲醛樹脂和甘脲-甲醛樹脂的實例有CYMEL樹脂(Dyno Cyanamid Co.，Ltd.)和NIKALAC樹脂(Sanwa Chemical Co.，Ltd.)。
在一個具體的實施方案中，所述樹脂或具有活性羥甲基和/或活性烷基化羥甲基的樹脂為可溶酚醛樹脂或各種可溶酚醛樹脂的混合物，可在堿性條件下，使用過量的酚，由酚與醛反應(yīng)制備。醛與酚的比率為約1∶1-約3∶1，且可使用堿性催化劑來制備可溶酚醛樹脂。市售的可溶酚醛樹脂的實例有GP649D99可溶酚醛樹脂(GeorgiaPacific)和BKS-5928可溶酚醛樹脂(Union Carbide)。當(dāng)存在可溶酚醛樹脂時，其可占第一層總重量的約7％-約15％，更特別為約8％-約12％，還更特別為約10％。
盡管輻射吸收化合物可包含在第一層或第二層中，但在一個實施方案中，所述輻射吸收化合物包含在第一層中。多種輻射吸收化合物可用于本發(fā)明的各實施方案中。
在一個實施方案中，所述輻射吸收化合物可為顏料，例如黑體或?qū)捵V帶輻射吸收劑。例如所述顏料能夠吸收超過200nm，更特別為超過400nm的波長范圍內(nèi)的電磁輻射并將其轉(zhuǎn)化為熱。合適的顏料的實例有炭黑、燈黑、槽法炭黑、爐法炭黑、鐵藍(lán)、不溶的偶氮顏料、偶氮色淀顏料、縮合的偶氮顏料、鰲合偶氮顏料、酞菁基顏料、蒽醌基顏料、苝或perynone基顏料、硫靛基顏料、喹吖啶酮基顏料、二嗪基顏料、還原染料色淀顏料、吖嗪顏料、亞硝基顏料和硝基顏料。
特別合適的顏料包括炭黑、燈黑、槽法炭黑、爐法炭黑和鐵藍(lán)。
或者所述輻射吸收化合物可為染料。染料通常為僅能吸收通常不超過100nm的波長范圍內(nèi)的電磁輻射并將其轉(zhuǎn)化為熱的窄譜帶吸收劑?？煽紤]用于成象的輻射波長來選擇染料。合適的染料包括squaiylium基染料、部花青基染料、花青基染料、吲嗪基染料、吡喃基染料和金屬二硫雜環(huán)戊烯(dithioline)基染料。
合適的染料的具體實例有
在一個實施方案中，所述輻射吸收化合物可占所述組合物的至少約0.25％重量，更特別為至少約0.5％重量，還更特別為至少約1.1％重量，還更特別為至少約2％重量。在另一個實施方案中，所述輻射吸收化合物可占所述組合物的最高達(dá)約25％重量，更特別為最高達(dá)約20％重量，還更特別為最高達(dá)約15％重量，還更特別為最高達(dá)約10％重量。在另一個實施方案中，所述輻射吸收化合物可占所述組合物的約0.25％重量-約15％重量，更特別為約0.5％重量-約10％重量?？墒褂枚嘤谝环N輻射吸收化合物。在某些實施方案中，所述輻射吸收化合物還可降低第二層中含羥基的聚合物在顯影液中的溶解度。
第一層還可包含一種或多種著色劑化合物或部分以區(qū)分已曝光的可成象元件區(qū)和未曝光區(qū)。所述著色劑化合物或部分還可包含在第二層中或包含在兩層中。著色劑化合物或部分可為季銨化的含氮三芳基甲烷染料，包括結(jié)晶紫(CI堿性紫3)、維多利亞藍(lán)和乙基紫；季銨化的雜環(huán)化合物，包括MonazolineC、MonazolineO、MonazolineCY和MonazolineT(均由Mona Industries生產(chǎn))；喹啉化合物，例如碘化1-乙基-2-甲基喹啉和碘化1-乙基-4-甲基喹啉；碘化苯并噻唑和吡啶化合物，例如溴化十六烷基吡啶；1，1’-二乙基-4，4’-聯(lián)吡啶(ethyl voilogen dibromide)和四氟硼酸氟代吡啶。
用作著色劑的其他化合物或部分包括亞甲藍(lán)(CI堿性藍(lán)9)、多次甲基染料、花青染料、酸性橙(CI溶劑橙15)合具有以下陽離子的染料 可用的喹啉或苯并噻唑化合物包括陽離子花青染料，例如2-甲基喹啉藍(lán)和3-乙基-2-[3-(3-乙基-2-(3H)-亞苯并噻唑基)-2-甲基-1-丙烯基]苯并噻唑碘化物以及具有以下陽離子的化合物
所述著色劑可適當(dāng)?shù)匕米骷t外吸收基團(tuán)的其他官能團(tuán)。
第一層可包含其他添加劑，例如穩(wěn)定添加劑、其他惰性聚合物粘合劑、表面活性劑、分散劑、殺蟲劑和通常包含在陽圖型涂料中的其他添加劑。合適的分散劑的實例有陽離子、陰離子、兩性和非離子表面活性劑。具體的實例有全氟烷基、烷基苯基或聚硅氧烷表面活性劑。合適的聚硅氧烷表面活性劑包括聚醚-聚硅氧烷共聚物、烷基-芳基改性的甲基-聚硅氧烷和酰化聚硅氧烷、其他合適的表面活性劑包括失水山梨糖醇三硬脂酸酯、失水山梨糖醇單棕櫚酸酯、失水山梨糖醇三油酸酯、單硬脂酸甘油酯、聚環(huán)氧乙烷壬基苯基醚、烷基二(氨基乙基)甘油、烷基多氨基乙基甘油鹽酸鹽。2-烷基-正-羧乙基-N-羥乙基咪唑啉鹽甜菜堿和N-十四烷基-N，N-取代的甜菜堿。其他表面活性劑包括烷基化的表面活性劑、氟代表面活性劑和聚硅氧烷化的表面活性劑。這些表面活性劑的實例有十二烷基硫酸鈉、烷芳基磺酸的異丙胺鹽、二辛基琥珀酸鈉、甲基椰油基?；撬徕c、十二烷基苯磺酸鹽、烷基醚磷酸、N-十二烷基胺、二椰油基胺、1-氨基乙基-2-烷基咪唑啉、1-羥乙基-2-烷基咪唑啉、氯化椰油基烷基三甲基季銨、聚亞乙基三(十六烷基)醚磷酸鹽等。合適的氟代表面活性劑的實例還有ZONYL FSD、ZONYL FSA、ZONYL FSP、ZONYLFSJ、ZONYL FS-62、ZONYL FSK、ZONYL FSO、ZONYL FS-300、ZONYL FSN和OLIN 10G，均得自E.I.Du Pont De Nemours & Co.。合適的氟代表面活性劑的其他實例有商標(biāo)為FLUORAD的表面活性劑，得自3M，St.Paul，MN。合適的表面活性劑的其他實例有聚醚改性的聚二甲基硅氧烷、聚硅氧烷二醇(silicone glycol)、聚醚改性的二甲基-聚硅氧烷共聚物和聚醚-聚酯改性的羥基官能的聚二甲基-硅氧烷。
當(dāng)表面活性劑或分散劑存在于第一層中時，其通常占第一層的約0.05％重量-約1％重量，更特別為約0.1％重量-約0.6％重量，還更特別為約0.2％重量-0.5％重量。
在一個具體的實施方案中，第一層可包含可溶酚醛樹脂；輻射吸收化合物；任選的表面活性劑；約40％重量-約80％重量，更特別為約50％重量-約70％重量的包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸和甲基丙烯酰胺單元的共聚物以及約5％重量-約25％重量，更特別為約10％重量-約20％重量的包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈單元和式(1)或(2)表示的組分單元的或兩種組分單元的共聚物。
第二層包含具有熱不穩(wěn)定部分的含羥基的聚合物。所述含羥基的聚合物可為酚醛樹脂或其共聚物，例如各種聚(對-羥基苯乙烯)、各種聚對-羥基-α-甲基苯乙烯和線形酚醛。其他合適的含羥基的聚合物包括聚-4-羥基苯乙烯；4-羥基苯乙烯例如與3-甲基-4-羥基苯乙烯或4-甲氧基苯乙烯的共聚物；甲基丙烯酸例如與苯乙烯的共聚物；馬來酰亞胺例如與苯乙烯的共聚物；羥基或羧基官能的纖維素；二烷基馬來酰亞胺酯；馬來酸酐的共聚物，例如與苯乙烯的共聚物；和馬來酸酐的部分水解的聚合物。
在本發(fā)明中，特別有用的酚醛樹脂包括酚、C-烷基取代的酚(例如甲苯酚、二甲苯酚、對-苯基苯酚、壬基苯酚和對-叔丁基苯酚)、二酚(例如雙酚-A和雙酚-A(2，2-二(4-羥苯基)丙烷))與醛和酮(例如甲醛、三氯乙醛、乙醛、糠醛和丙酮)之間相互反應(yīng)的縮合產(chǎn)物。用于制備酚醛樹脂的各反應(yīng)物的摩爾比率可決定樹脂的分子結(jié)構(gòu)及其物理性能。例如醛與酚的比率為0.5∶1-1∶1，特別為0.5∶1-0.8∶1，且可使用酸性催化劑來制備線形酚醛樹脂。
特別合適的樹脂為線形酚醛樹脂。合適的線形酚醛樹脂的實例可具有以下通用結(jié)構(gòu) 其中n與m的比率為1∶20-20∶1，更特別為3∶1-1∶3。在一個實施方案中，n＝m。但是，其他實施方案中，n或m可為0。合適的線形酚醛樹脂的分子量可為約500-20,000，更特別為約1000-15,000，還更特別為約2500-10,000。
或者合適的樹脂有聚(乙烯基苯酚)的共聚物，例如比率為50∶50的PVP/MMA、比率為50∶50的PVP/2-HEMA、比率為50∶50的PVP/n-BuA和比率為15∶85、50∶50和70∶30的PVP/St。
在一個實施方案中，所述含羥基的聚合物包含具有至少一種下式結(jié)構(gòu)的熱不穩(wěn)定部分 其中R1為烷基、芳烷基、芳基、烯基或甲硅烷基。所述烷基可為C1-C12烷基，更特別為C1-C6烷基，還更特別為C1-C4烷基。在另一個實施方案中，R1可為 或-Si(CH3)3烷基可為支鏈(例如叔丁基)或直鏈(例如正丁基)。在一個具體的實施方案中，R1為C(CH3)3。
所述熱不穩(wěn)定部分可作為側(cè)基通過羥基與所述含羥基的聚合物相連。但是，不是所有的羥基必須用熱不穩(wěn)定部分官能化。因此，所述聚合物可包括側(cè)基熱不穩(wěn)定部分和游離的羥基。
特別合適的具有側(cè)基熱不穩(wěn)定基團(tuán)的含羥基的聚合物包括具有以下單元的聚合物
所述熱不穩(wěn)定部分的量可適當(dāng)?shù)貫樗龊u基的聚合物的約5％摩爾-約50％摩爾。所述范圍可更特別為約10％摩爾-約30％摩爾。
在某些實施方案中，可存在多于一種含羥基的聚合物，且各含羥基的聚合物可為具有上式之一的離散熱不穩(wěn)定部分。
任選第二層還可包含上述表面活性劑或其他合適的分散。第二層可包含其他添加劑，例如穩(wěn)定添加劑、其他惰性聚合物粘合劑、殺蟲劑和通常包含在陽圖型涂料的其他添加劑。
第二層還可包含著色劑，例如上述著色劑。某些著色劑可降低含羥基的聚合物在顯影液中的溶解度。
在某些實施方案中，第二層可基本不含輻射吸收化合物。在這些實施方案中，第一層和第二層之間的相互反應(yīng)可導(dǎo)致某些輻射吸收化合物從第一層擴(kuò)散至第二層中。
在一個具體的實施方案中，第二層可包含具有約5％摩爾-約50％摩爾，更特別為約10％摩爾-約30％摩爾的具有一種本文報道的結(jié)構(gòu)式的側(cè)基熱不穩(wěn)定部分的線形酚醛樹脂、著色化合物和表面活性劑。
可通過將包含在第一層中的各組分溶解和/或分散于合適的溶劑中，將第一層涂覆于基材上。特別合適的溶劑的實例有比率為65∶15∶10∶10(重量)的甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、丁內(nèi)酯和水的溶液?？衫缡褂美@線棒將第一層涂覆于合適的基材上。隨后可將第一層在升高的溫度(例如135℃)下干燥35秒。
第一層適當(dāng)?shù)卣掣接诨?，使得耐溶劑和常用印刷室化學(xué)品，例如潤版液、油墨、印版清洗劑、再生劑(rejuvenators)和橡皮布清洗劑，并耐用于潤版液的醇代用品。第一層還耐與可紫外固化的油墨一起使用的酯、醚和酮含量高的漂洗劑。
可通過將包含在第二層中的各組分溶解于合適的溶劑中，將第二層涂覆于第一層上。特別合適的溶劑的實例有比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK的溶液。合適的溶劑可為不溶解或分散用于第一層的聚合物材料的溶劑，使得第二層可涂覆于第一層之上，而不會溶解第一層。隨后可例如使用繞線棒將第二層涂覆于第一層上?？蓪⒌诙釉谏叩臏囟?例如135℃)下干燥35秒。
隨后可將可成象元件暴露以輻射成象，使得已曝光部分比未曝光部分更易在合適的顯影液中顯影。在某些實施方案中，可在所述可成象元件吸收的波長區(qū)內(nèi)，使用發(fā)射調(diào)制近紅外或紅外輻射的激光器或激光器陣列將所述元件成象曝光。用于成象曝光的電磁輻射的波長至少為約600nn，更特別為至少約700nm，還更特別為至少約750nm，還更特別為至少約800nm。合適的輻射波長不大于約1400nm，更特別為不大于1300nm，還更特別為不大于1200nm，還更特別為不大于1150nm。例如可使用在約830nm、約1056nm或約1064nm發(fā)射的激光進(jìn)行成象。
可在數(shù)字控制下由激光器進(jìn)行輻射?？捎糜谄毓獗景l(fā)明方法用元件的合適的激光器的實例有于600nm-1400nm，更特別為700nm和1200nm發(fā)射輻射的半導(dǎo)體二極管激光器。在一個具體的實施方案中，在Barco Crescent 42/T熱圖象輸出機(jī)(image setter)中使用于1064nm發(fā)射的Nd YAG激光器。在另一個實施方案中，在Creo Trendsetter熱圖象輸出機(jī)中使用于830nm發(fā)射的二極管激光器。其他合適的市售的成象裝置包括圖象輸出機(jī)，例如CREO Trendsetter(CREO，Burnaby，British Columbia，Canada)、Screen PlateRite 4300型、8600型和8800型(Screen，Rolling Meadows，Chicago，Illinois，USA)和Gerber Crescent 42T(Gerber Systems，South Windsor，CT，USA)。但是，可使用具有足夠成象能力且其輻射被涂層吸收的任何激光器。
合適的情況是使用成象能不大于約600mJcm-2，更特別為不大于約500mJcm-2，還更特別為不大于約400mJcm-2進(jìn)行成象。合適的情況是使用成象能至少為約35mJcm-2，更特別為至少約75mJcm-2，還更特別為至少100mJcm-2進(jìn)行成象。
成象后，在已成象區(qū)用顯影液將第一層和第二層移除，暴露出下方基材的親水表面。進(jìn)行足夠時間的顯影以除去已成象區(qū)的第一層和第二層，而不會移除大量的第二層的未成象區(qū)。
高pH或堿性顯影液用于多層陽圖型可成象元件的成象。高pH顯影液的pH值通常為至少約11，更特別為至少約12，還更特別為約12-約14。高pH顯影液包含至少一種堿金屬硅酸鹽，例如硅酸鋰、硅酸鈉和/或硅酸鉀。可使用堿金屬硅酸鹽的混合物。高pH顯影液可例如包括包含堿金屬硅酸鹽與M2O重量比為至少約0.3的堿金屬硅酸鹽，其中M為堿金屬。在一個實施方案中，所述比率可為約0.3-約1.2。所述比率更特別為約0.6-約1.1，還更特別為約0.7-約1.0。
高pH顯影液中堿金屬硅酸鹽的量通常為至少20g堿金屬硅酸鹽/1000g顯影液(也就是說至少約2％重量)，更特別為約20g-80g堿金屬硅酸鹽/1000g顯影液(也就是說約2％重量-約8％重量)。還更特別為約40g-65g SiO2/1000g顯影液(也就是說約4％重量-約6.5％重量)。除堿金屬硅酸鹽之外，堿度可通過合適濃度的任何適宜的堿來提供，例如氫氧化銨、氫氧化鈉、氫氧化鋰和/或氫氧化鉀。特別優(yōu)選的堿為氫氧化鉀。高pH顯影液的任選組分為陰離子、非離子和兩性表面活性劑(最高達(dá)組合物總重的3％)、殺蟲劑(抗菌或抗真菌劑)、消泡劑或螯合劑(例如堿金屬葡萄糖酸鹽)和增稠劑(水溶性或水分散性多羥基化合物，例如甘油或聚乙二醇)。但是，這些顯影液通常不包含有機(jī)溶劑。通常市售的高pH顯影液包括GoldstarTMDeveloper、4030Developer、PD-1 Developer和MX 1813 Developer，所有這些顯影液均得自Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT。
已成象的多層陽圖型元件還可在另一種含溶劑的顯影液中顯影。這些含溶劑的顯影液通常用于顯影陰圖型而非陽圖型可成象元件，因此已知為陰圖型顯影液。含溶劑的堿性顯影液的pH值通常低于約10.5，特別為低于10.2(在25℃下測定)。含溶劑的顯影液包含水和有機(jī)溶劑或各種有機(jī)溶劑的混合物。含溶劑的顯影液通常不含硅酸鹽、堿金屬氫氧化物和硅酸鹽與堿金屬氫氧化物的混合物。所述顯影液可為單相。因此所述有機(jī)溶劑或各種有機(jī)溶劑的混合物必須混溶于水或充分溶解于顯影液中而不出現(xiàn)相分離。任選的組分包括陰離子、非離子和兩性表面活性劑(最高達(dá)組合物總重量的3％)和殺蟲劑(抗菌或抗真菌劑)。以下溶劑及其混合物適用于含溶劑的顯影液苯酚與環(huán)氧乙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯酚乙氧基化物)和苯酚與環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(苯酚丙氧基化物)，例如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)；苯甲醇；乙二醇和丙二醇與具有6個或以下碳原子的酸的酯和乙二醇、二甘醇和丙二醇與具有6個或以下碳原子的烷基的醚，例如2-乙氧基乙醇、2-(2-乙氧基)乙氧基乙醇和2-丁氧基乙醇。所述顯影液通常包含占所述顯影液的約0.5％重量-約15％重量，更特別為約3％重量-約5％重量的有機(jī)溶劑或各種溶劑。市售的溶劑基顯影液包括AQUA-IMAGE Developer、PRONEG D501 Developer、MX 1725Developer、MX 1587 Developer、956 Developer、955 Developer和SP200，均得自Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA。
已成象的元件可在浸漬處理器或在噴霧處理器上顯影。市售的噴霧處理器包括85 NS(Kodak Polychrome Graphics)。市售的浸漬處理器包括MercuryTMMark V processor(Kodak Polychrome Graphics)；the Global Graphics Titanium processor(Global Graphics，Trenton，NJ，USA)；和Glunz和Jensen Quartz 85 processor(Glunz and Jensen，Elkwood，VA，USA)。
本發(fā)明的可成象元件可用作例如印版前驅(qū)體、電子部件前驅(qū)體或掩模前驅(qū)體。在一個實施方案中，本發(fā)明的可成象元件為印刷電路板(PCB)的前驅(qū)體?；蛘咚隹沙上笤蔀橥拱嬗∷⑿问交蜓b飾制品的前驅(qū)體。裝飾制品例如可為這樣的制品，經(jīng)選擇性地蝕刻，在制品的表面留下凹處，隨后用裝飾性材料(例如有色樹脂)鑲嵌凹處。裝飾制品的一個實例為具有波紋的制品。
實施例N-13溶液線形酚醛樹脂，100％間甲酚，MW 13000，在丙酮中固含量33％，Eastman Kodak，Rochester，NY生產(chǎn)。
N-13線形酚醛樹脂，100％間甲酚，MW 13000，Eastman Kodak，Rochester，NY生產(chǎn)。
二碳酸二叔丁酯和碳酸鉀Aldrich Chemical Company，Milwaukee，WI提供。
18-冠-61，4，7，10，13，16-六氧雜環(huán)十八烷，Aldrich ChemicalCompany，Milwaukee，WI提供。
基材A包含氟化磷酸鹽(phosphate fluoride)夾層的經(jīng)電化學(xué)起紋和陽極氧化的0.3gauge的鋁片材。采用以下方法制備該基材。首先將鋁表面脫脂、蝕刻并經(jīng)除垢步驟(除去鋁和蝕刻劑的反應(yīng)產(chǎn)物)。隨后將該板于25℃下在HCl溶液(10g/l)中使用30-60A/cm2的交流電進(jìn)行電起紋30秒，隨后進(jìn)行后蝕刻堿洗和除垢。隨后將已起紋的板于30℃下在H2SO4溶液(280g/l)中使用約8A/cm2的直流電陽極氧化30秒。隨后將該陽極氧化的基材于70℃下在包含磷酸二氫鈉和氟化鈉的加工溶液中處理60秒。隨后用水漂洗并干燥。磷酸二氫鈉和氟化鈉淀積為層，使得表面覆蓋率為約500mg/M2。
IR染料A
JK-67包含N-苯基馬來酰亞胺(45％摩爾)、甲基丙烯酰胺(35％摩爾)和甲基丙烯酸(20％摩爾)單元的共聚物。
EUV-5包含以下單元的共聚物N-苯基馬來酰亞胺(5％重量)、甲基丙烯酰胺(10％重量)、丙烯腈(48％重量)和31％重量的CH3 和6％重量的 RAR-62包含以下單元的共聚物N-苯基馬來酰亞胺(5％重量)、甲基丙烯酰胺(10％重量)、丙烯腈(45％重量)和40％重量的
GP649D99可溶酚醛樹脂，Georgia-Pacific，Atlanta，GA提供。
BYK307聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物，BYK Chemie，Wallingford，CT提供。
乙基紫C.I.42600；CAS 2390-59-2(λmax＝596nm)[(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cl-]，Aldrich Chemical Company，Milwaukee，WI提供。
TN-13官能的線形酚醛樹脂采用以下方法制備該樹脂。將N-13(24g，199.75mmol)加至丙酮(66g)中，攪拌，隨后在冰/水浴中冷卻至10℃。于10℃下，在1分鐘內(nèi)加入對-甲苯磺酰氯(3.8g，20.02mmol)。于10℃下，在2分鐘內(nèi)加入三乙胺(2.0g，19.63mmol)。于低于15℃下，將該溶液攪拌10分鐘。于10℃下，在10秒內(nèi)加入乙酸(0.5g，8.33mmol)，隨后攪拌15分鐘。在一個單獨的容器中，將水/冰(160g)與乙酸(1.2g，20.02mmol)混合，并于15℃下攪拌1分鐘。在幾分鐘內(nèi)向反應(yīng)混合物中加入該酸化了的水/冰混合物，隨后將該溶液再攪拌5分鐘。溫度保持低于15℃。形成膠粘物質(zhì)。將上清液傾析。向該物質(zhì)中加入丙酮(354g)并攪拌，直至得到透明的溶液。向該反應(yīng)混合物中緩慢加入水/冰混合物(460g)，直至反應(yīng)混合物變渾濁。將該溶液攪拌2分鐘。所得到的溶液標(biāo)記為“丙酮粘稠物(acetone dope)”。將冰(460g)、水(460g)和乙酸(0.5g)混合，并攪拌1分鐘。將該丙酮粘稠物(25％)加至該酸化了的水/冰混合物中，并攪拌20分鐘。將內(nèi)含物靜沉，隨后將上清液傾析。對剩余的丙酮粘稠物再次重復(fù)該過程3遍。將所有潮濕的聚合物部分合并，經(jīng)水(460g)洗。重復(fù)水洗過程。收率為理論收率的約88％。
Goldstar顯影液硅酸鈉基含水堿性顯影液，Kodak PolychromeGraphics，Norwalk，CT提供。
T-183顯影液200份Goldstar顯影液、4份聚乙二醇(PEG)1449、1份五水合硅酸鈉和0.5份Triton H-22表面活性劑(磷酸酯表面活性劑)。
PHS(線形酚醛級)聚4-羥基苯乙烯，MW 4500，Triquest LP，Corpus Christi，TX提供。
實施例1-3如下制備底層在比率為65∶15∶10∶10(重量)的甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、丁內(nèi)酯和水中，混合59.65重量份JK-67、15重量份EUV-5、10重量份GP649D99、15重量份IR染料A和0.35重量份BYK307。使用繞線棒將該溶液涂覆于基材A上。將所得到的元件于135℃下干燥35秒。所得到的第一層的涂布重量為1.3gm-2。
為了制備用于頂層的聚合物材料A、B和C，將N-13溶液(181.5g，0.5mol)、丙酮(150g)、二碳酸二叔丁酯(表1所示量)、碳酸鉀(表1所示量)和18-冠-6(2.0g)加至配備攪拌器的燒瓶中。將該混合物于室溫下攪拌2小時，隨后在大量的水中沉淀，進(jìn)行分離。將該產(chǎn)物于50℃下干燥2天。
表1.用于聚合物材料A、B和C的二碳酸二叔丁酯和碳酸鉀的用量
聚合物材料A為含羥基的聚合物，N-13，具有約10％摩爾用熱不穩(wěn)定部分叔丁氧基羰基(“t-BOC”)官能化的羥基。聚合物材料B為N-13，具有約20％摩爾用t-BOC基團(tuán)官能化的羥基。聚合物材料C為N-13，具有約30％摩爾用t-BOC基團(tuán)官能化的羥基。
如下制備用于實施例1印版的頂層涂料在重量比為8∶92的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將表2所示量的聚合物材料A與乙基紫和BYK 307混合成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于底層上。所得到的頂層的涂布重量為0.9gm-2。將所得到的印版于135℃下干燥35秒。重復(fù)該方法，使用聚合物材料B制備用于實施例2的頂層，使用聚合物材料C制備用于實施例3的頂層。
表2.實施例1-3中頂層的組分和用量
比較實施例C4-C5根據(jù)實施例1-3制備底層。
如下制備頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將99.35％重量的TN-13(C4)或N-13(C5)與0.3％重量的乙基紫和0.35％重量的BYK 307混合成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于底層上。所得到的底層的涂布重量為0.9gm-2。將各所得到的可成象元件于135℃下干燥35秒。
對得自實施例1-3和C4-C5的印版進(jìn)行Goldstar顯影液點滴試驗。于22℃下，將一大滴顯影液置于各印版上，記錄溶解各層所需的時間。結(jié)果示于表3。
表3.實施例1-3和C4-C5的Goldstar點滴試驗結(jié)果
對得自實施例1-3和C4-C5的印版進(jìn)行T-183點滴試驗。于22℃下，將一大滴T-183顯影液置于各印版上，記錄溶解各層所需的時間。結(jié)果示于表4。
表4.實施例1-3和C4-C5的T-183點滴試驗結(jié)果
還對各印版進(jìn)行試驗，以確定已曝光區(qū)溶解于顯影液中的最低能量水平和各印版具有最佳清晰度的最低能量水平。為了進(jìn)行各試驗，在市售的印版輸出機(jī)Creo Trendsetter 3230上，使用Procom Plus軟件，于140、127、116、107、99、92、86和83mJ/cm2(9W)和830nm波長下操作(Creo Products，Burnaby，BC，Canada)，用內(nèi)置測試圖案(internal test pattern)(圖0)，經(jīng)830nm輻射成象曝光。隨后在KodakPolychrome Graphics Mercury Mark V Processor中用Goldstar顯影液對各印版進(jìn)行機(jī)器加工(加工速度750mm/分鐘，顯影液溫度為23℃)。為了測定清除和最佳清晰度的最小曝光能，將各印版進(jìn)行目視檢查，以確定在不同能量水平下曝光各印版的質(zhì)量。實現(xiàn)清除的最小曝光能為顯影后在已曝光區(qū)未見聚合物涂層的最低能量水平。最佳清晰度的最小曝光能為顯影后目視清晰度最合適的最低能量。這些試驗結(jié)果示于表5。
表5.實施例1-3和C4-C5的實現(xiàn)清除的最小曝光能和最佳清晰度的最小曝光能結(jié)果
實施例6如下制備底層在比率為65∶15∶10∶10(重量)的甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、丁內(nèi)酯和水中，將59.65％重量的JK-67、15％重量的EUV-5、10％重量的GP649D99、15％重量的IR染料A和0.35％重量的BYK307混和成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于基材A上。將所得到的印版于135℃下干燥35秒。所得到的底層的涂布重量為1.3gm-2。
為了制備用于頂層的聚合物材料D，將PHS(59.9g，0.5mol)、丙酮(271.6g)、二碳酸二叔丁酯(32.74g，0.15mol)、碳酸鉀(20.88g，0.15mol)和18-冠-6(2.0g)加至配備攪拌器的燒瓶中。將該混合物于室溫下攪拌2小時，隨后在大量的水中沉淀，進(jìn)行分離。將該產(chǎn)物于50℃下干燥2天。
聚合物材料D為含羥基的聚合物，PHS，具有約30％摩爾用t-BOC基團(tuán)官能化的羥基。
如下制備用于實施例6的頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將表6所示量的聚合物材料D與乙基紫和BYK307混合成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于底層上。所得到的底層的涂布重量為0.9gm-2。將所得到的印版于135℃下干燥35秒。
如下制備頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將表6所示量的PHS與乙基紫和BYK 307混合成溶液。
實施例C7根據(jù)實施例6制備底層。
如下制備頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將表6所示量的PHS與乙基紫和BYK 307混合成溶液。使用繞線棒將該混合物涂覆于第一層上。所得到的頂層的涂布重量為0.9gm-2。將所得到的印版于135℃下干燥35秒。
表6.實施例6和C7的頂層組分
對得自實施例6和C7的印版進(jìn)行Goldstar顯影液點滴試驗。于22℃下，將一大滴顯影液置于各印版上，溶解各層所需的時間記錄于表7。
表7.實施例6和C7的Goldstar點滴試驗結(jié)果
對得自實施例6和C7的印版進(jìn)行試驗，以確定各印版涂層完全洗掉時成象曝光的最低能量水平。為了進(jìn)行這些試驗，在CreoTrendsetter 3230中，于140、127、116、107、99、92、86和83mJ/cm2(9W)下，用內(nèi)置測試圖案(圖0)，經(jīng)830nm輻射成象曝光。該Creo Trendsetter3230為市售的印版輸出機(jī)，使用Procom Plus軟件，并于830nm波長下操作(Creo Products，Burnaby，BC，Canada)。隨后在KodakPolychrome Graphics Mercury Mark V Processor中用Goldstar顯影液對各印版進(jìn)行機(jī)器加工(加工速度750mm/分鐘，顯影液溫度為23℃)。這些試驗結(jié)果示于表8。
表8.實施例6和C7的清除試驗的最小曝光能結(jié)果
實施例8-10如下制備底層在比率為65∶15∶10∶10(重量)的甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、丁內(nèi)酯和水中，將55.65％重量的JK-67、18％重量的RAR-62、11％重量的GP649D99、15％重量的IR染料A和0.35％重量的BYK307混和成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于基材A上。將所得到的元件于135℃下干燥35秒。所得到的底層的涂布重量為1.3gm-2。
如下制備用于實施例8的頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將表9所示量的聚合物材料A與乙基紫和BYK307混合成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于底層上。所得到的頂層的涂布重量為0.9gm-2。將所得到的印版于135℃下干燥35秒。重復(fù)該方法，使用聚合物材料B制備用于實施例9的頂層，使用聚合物材料C制備用于實施例10的頂層。
實施例C11根據(jù)實施例8-10制備底層。
如下制備頂層在比率為8∶92(重量)的乙酸1-甲氧基-2-丙酯和DEK中，將99.35％重量的TN-13與0.3％重量的乙基紫和0.35％重量的BYK 307混合成溶液。使用繞線棒將該溶液涂覆于底層上。所得到的頂層的涂布重量為0.9gm-2。將各所得到的印版于135℃下干燥35秒。
表9.實施例8-10和C11的頂層組分
對得自實施例8-10和C11的印版進(jìn)行T-183顯影液點滴試驗。于22℃下，將一大滴顯影液置于各印版上，記錄溶解各層所需的時間。結(jié)果示于表10。
還對各印版進(jìn)行試驗，以確定各印版涂層完全洗掉時成象曝光的最低能量水平和各印版具有最佳清晰度的最低能量水平以及各印版成功地復(fù)制(reproduce)1μm厚的水平和垂直象素線的最低能量水平。為了進(jìn)行這些試驗，在Platerite 4300上，于1000rpm且激光能量百分比從72至94(增量為2)(相應(yīng)于115、119、122、125、128、132、135、138、141、144、148和151mJcm-2)，采用內(nèi)置測試圖案對各印版進(jìn)行成象曝光。該Screen Platerite 4300為市售的印版輸出機(jī)(Screen，Rolling Meadows，Chicago，Illinois)。隨后在Kodak PolychromeGraphics Mercury Mark V Processor中用T-183顯影液對各印版進(jìn)行機(jī)器加工(加工速度750mm/分鐘，顯影液溫度為23℃)。為了測定清除、最佳清晰度和復(fù)制1μm象素線的最小曝光能，將各印版進(jìn)行目視檢查，以確定在不同能量水平下曝光各印版的質(zhì)量。實現(xiàn)清除的最小曝光能為顯影后在已曝光區(qū)未見聚合物涂層的最低能量水平。最佳清晰度的最小曝光能為顯影后目視清晰度最合適的最低能量。復(fù)制1μm象素線的最小曝光能為在印版上適當(dāng)?shù)貜?fù)制1μm象素線的最低能量水平。結(jié)果示于表10。
表10.實施例9-10和C11的試驗結(jié)果
這些試驗表明，包含用t-BOC基團(tuán)官能化的聚合物的印版(即實施例1-3、6和8-10的印版)有益地結(jié)合了耐顯影液性和成象性能。
權(quán)利要求
1.一種陽圖型可成象元件，所述元件包含基材；位于所述基材一部分上的第一層，所述第一層包含聚合物材料；和位于所述第一層上的第二層，所述第二層包含含羥基的聚合物，所述含羥基的聚合物包含下式表示的熱不穩(wěn)定部分 其中R1為烷基、芳烷基、芳基、烯基或甲硅烷基。
2.權(quán)利要求1的元件，其中所述基材包括鋁。
3.權(quán)利要求1的元件，其中所述基材包括起紋的鋁、陽極氧化的鋁或起紋和陽極氧化的鋁。
4.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含共聚物，所述共聚物包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸或甲基丙烯酰胺單元。
5.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含共聚物，所述共聚物包含以下單元N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和下式表示的部分 或上述兩部分的單元；其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。
6.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含共聚物，所述共聚物包含以下單元N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和下式表示的部分 或上述兩部分的單元；其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。
7.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含共聚物，所述共聚物包含以下單元N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和下式表示的部分 或上述兩部分的單元；其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。
8.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含第一種共聚物和第二種共聚物，所述第一種共聚物包含N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸單元，所述第二種共聚物包含以下單元N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和下式表示的部分 或上述兩部分的單元；其中R4為OH、COOH或SO2NH2；R5為氫、鹵素或C1-C12烷基。
9.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含具有活性羥甲基或活性烷基化羥甲基的樹脂。
10.權(quán)利要求9的元件，其中所述樹脂包括可溶酚醛樹脂。
11.權(quán)利要求1的元件，其中所述第一層包含輻射吸收化合物。
12.權(quán)利要求11的元件，其中所述輻射吸收化合物為紅外輻射吸收材料。
13.權(quán)利要求12的元件，其中所述紅外輻射吸收化合物為染料或顏料。
14.權(quán)利要求1的元件，其中所述第二層包含輻射吸收化合物。
15.權(quán)利要求1的元件，其中所述含羥基的聚合物為酚醛樹脂或其共聚物或衍生物。
16.權(quán)利要求1的元件，其中所述含羥基的聚合物為線形酚醛樹脂。
17.權(quán)利要求1的元件，其中所述熱不穩(wěn)定部分包含在所述含羥基的聚合物上的側(cè)基。
18.權(quán)利要求1的元件，其中R1包括
19.權(quán)利要求1的元件，其中R1為C(CH3)3。
20.權(quán)利要求1的元件，其中所述含羥基的聚合物包含以下單元
21.權(quán)利要求1的元件，其中所述含羥基的聚合物包含5％摩爾-50％摩爾的所述熱不穩(wěn)定部分。
22.權(quán)利要求1的元件，其中所述含羥基的聚合物包含10％摩爾-30％摩爾的所述熱不穩(wěn)定部分。
23.權(quán)利要求1的元件，其中所述可成象元件包含印版前驅(qū)體、電子部件前驅(qū)體或掩模前驅(qū)體。
24.一種制備印版前驅(qū)體的方法，所述方法包括提供基材；在所述基材上涂覆第一層，所述第一層包含聚合物材料和輻射吸收化合物；和在所述第一層上涂覆第二層，所述第二層包含含羥基的聚合物，所述含羥基的聚合物包含具有下式的熱不穩(wěn)定部分 其中R1為烷基、芳烷基、芳基、烯基或甲硅烷基。
25.權(quán)利要求24的方法，所述方法還包括將所述前驅(qū)體經(jīng)輻射成象曝光，使得所述第二層的已曝光部分比未曝光部分更易在堿性顯影液中顯影；和將所述前驅(qū)體顯影，以形成圖象。
26.一種陽圖型可成象元件，所述元件包含基材；位于所述基材一部分上的第一層，所述第一層包含聚合物材料和輻射吸收化合物；和位于所述第一層上的第二層，所述第二層基本不含所述輻射吸收化合物且包含含羥基的聚合物，所述含羥基的聚合物包含下式表示的熱不穩(wěn)定部分 其中R1為烷基、芳烷基、芳基、烯基或甲硅烷基。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種可成象元件，所述元件包含基材、涂覆于所述基材的第一層和涂覆于所述第一層的第二層。所述第一層可包含聚合物材料和輻射吸收化合物。所述第二層可包含含羥基的聚合物，所述含羥基的聚合物包含熱不穩(wěn)定部分。
文檔編號B41M5/36GK1929996SQ200580007930
公開日2007年3月14日 申請日期2005年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月17日
發(fā)明者K·B·雷, A·P·基特森, J·卡拉門 申請人:柯達(dá)彩色繪圖有限責(zé)任公司