專利名稱：一種細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及雕刻法，特別是涉及一種細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)在的電雕機(jī)雕刻的文字邊緣有大小不一的小網(wǎng)點(diǎn)存在，使線條及文字發(fā)虛。當(dāng) 文字線條小到一定程度(小于0. 2mm)時(shí)，文字的筆畫將大部分都為非實(shí)地網(wǎng)點(diǎn)組成，文字 的印刷效果將很差。若承印物為紙張，將幾乎無(wú)法識(shí)別出所印刷的文字，產(chǎn)生這種現(xiàn)象的原 因是由于我們所使用的電雕機(jī)的工作機(jī)理所決定的。通常我們的解決辦法是盡量采用高線 數(shù)工藝來(lái)保證文字邊緣效果，但隨之帶來(lái)的是文字的含墨量減少，文字筆畫印不實(shí)，因此我 們只能在兼顧邊緣效果和筆畫實(shí)在程度之間找一個(gè)折中方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種 細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法。本發(fā)明的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)一種細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法， 其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機(jī)圖案在拼版時(shí)作分雕處理；2)調(diào)整雕刻機(jī)雕刻頭，設(shè)定P卡上交流信號(hào)；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內(nèi)，進(jìn)行試雕；4)檢測(cè)高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內(nèi)，若是，則 進(jìn)行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測(cè)量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明使用原有雕刻電流的直流控制信號(hào)來(lái)進(jìn)行雕刻，它在銅 層上所雕刻圖形是由長(zhǎng)短不同的槽組成，而不是以往的網(wǎng)點(diǎn)，邊緣整齊(尤其是斜豎線 條)，原有網(wǎng)墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時(shí)耐印 率也可以達(dá)到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實(shí)在。


圖1為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖一；圖2為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖二 ；圖3為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖三；圖4為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖四；圖5為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖五；圖6為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對(duì)比圖六；圖7為現(xiàn)有雕刻法與本發(fā)明方法的實(shí)際印樣效果對(duì)比圖。
其中圖7的左側(cè)為本發(fā)明實(shí)際印樣效果，右側(cè)為現(xiàn)有雕刻法實(shí)際印樣效果。
具體實(shí)施例方式下面對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。1)將電雕機(jī)圖案在拼版時(shí)作分雕處理，所采用工藝與正常文字線條工藝相同。2)調(diào)整雕刻機(jī)雕刻頭，設(shè)定P卡上交流信號(hào)；3)因精細(xì)雕刻時(shí)雕刻針無(wú)固定頻率的振蕩，所以雕刻針振動(dòng)幅度會(huì)減小，需適當(dāng) 退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內(nèi)，進(jìn)行試雕；4)檢測(cè)高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內(nèi)，若是，則 進(jìn)行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測(cè)量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。6)若采用正常雕刻方式時(shí)，重新調(diào)整P卡上交流信號(hào)，可進(jìn)行正常試雕。
權(quán)利要求
一種細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法，其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機(jī)圖案在拼版時(shí)作分雕處理；2)調(diào)整雕刻機(jī)雕刻頭，設(shè)定P卡上交流信號(hào)；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內(nèi)，進(jìn)行試雕；4)檢測(cè)高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內(nèi)，若是，則進(jìn)行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測(cè)量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種細(xì)小文字的超精細(xì)雕刻方法，包括將電雕機(jī)圖案在拼版時(shí)作分雕處理；調(diào)整雕刻機(jī)雕刻頭，設(shè)定P卡上交流信號(hào)；退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內(nèi)，進(jìn)行試雕；檢測(cè)高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內(nèi)，若是，則進(jìn)行雕刻；雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測(cè)量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。本發(fā)明使用原有雕刻電流的直流控制信號(hào)來(lái)進(jìn)行雕刻，它在銅層上所雕刻圖形是由長(zhǎng)短不同的槽組成，而不是以往的網(wǎng)點(diǎn)，邊緣整齊，原有網(wǎng)墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時(shí)耐印率也可以達(dá)到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實(shí)在。
文檔編號(hào)B41C1/045GK101987528SQ2009100561
公開日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2009年8月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月7日
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